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Tb∶Lu_2SiO_5光学薄膜的结构演变和发光性能
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作者 孙智 谢建军 +2 位作者 王宇 施鹰 雷芳 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第11期2561-2566,共6页
采用溶胶-凝胶法结合旋涂工艺在单晶硅(111)上制备了Tb^(3+)离子不同掺杂浓度的硅酸镥光学薄膜(Tb∶Lu_2SiO_5),利用热重差热分析(TG-DSC)、X射线衍射(XRD)、傅里叶红外光谱仪(FTIR)、原子力显微镜(AFM)和紫外可见荧光光谱(PL)对Tb∶Lu_... 采用溶胶-凝胶法结合旋涂工艺在单晶硅(111)上制备了Tb^(3+)离子不同掺杂浓度的硅酸镥光学薄膜(Tb∶Lu_2SiO_5),利用热重差热分析(TG-DSC)、X射线衍射(XRD)、傅里叶红外光谱仪(FTIR)、原子力显微镜(AFM)和紫外可见荧光光谱(PL)对Tb∶Lu_2SiO_5薄膜的不同温度热处理的结构演变和发光性能进行了表征。研究结果表明Tb∶Lu_2SiO_5光学薄膜表面均匀、平整、无裂纹,薄膜样品从800℃开始晶华,1100℃时晶化完全。Tb∶Lu_2SiO_5的发光性能表现为Tb^(3+)离子的4f→5d和5D4(5D3)→7FJ(J=6,5,4,3)跃迁结果(监测波长分别为480~650 nm和350~470 nm),激发主峰位于~240 nm,发射光谱主峰为542 nm的绿光发射。研究表明Tb^(3+)掺杂浓度对Tb∶Lu_2SiO_5光学薄膜的发光强度会产生明显影响,掺杂15mol%的Tb^(3+)时,Tb∶Lu_2SiO_5薄膜的发光强度最强。 展开更多
关键词 SOL-GEL法 tb∶lu2sio5光学薄膜 结构演变 发光性能
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Lu2SiO5:Ce透明薄膜改性及其发光性能 被引量:1
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作者 范洋洋 刘小林 +3 位作者 顾牡 倪晨 黄世明 刘波 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第2期344-348,共5页
Lu2SiO5∶Ce具有高密度、高光产额、快衰减等优点,是一种性能优异的新型X射线闪烁薄膜材料。本文采用溶胶-凝胶工艺和旋涂技术,以无机盐为原料、2-甲氧基乙醇为溶剂、聚乙二醇(PEG)为改性剂,在石英基片上成功制备出Lu2SiO5∶Ce透明薄膜... Lu2SiO5∶Ce具有高密度、高光产额、快衰减等优点,是一种性能优异的新型X射线闪烁薄膜材料。本文采用溶胶-凝胶工艺和旋涂技术,以无机盐为原料、2-甲氧基乙醇为溶剂、聚乙二醇(PEG)为改性剂,在石英基片上成功制备出Lu2SiO5∶Ce透明薄膜,较为详细地研究了PEG对该薄膜发光性能的影响。结果表明当采用浓度为12.5%的PEG200时,所制备薄膜的质量和发光强度最为理想;通过多次旋涂,Lu2SiO5∶Ce透明薄膜厚度可达0.9μm。 展开更多
关键词 lu2sio5∶Ce薄膜 溶胶-凝胶法 PEG 发光性能
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Lu2SiO5:Ce^3+透明薄膜制备及其发光性能研究
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作者 吴霜 刘波 +6 位作者 陈士伟 张娟楠 刘小林 顾牡 黄世明 倪晨 薛超凡 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2016年第9期948-954,共7页
Lu_2SiO_5:Ce^(3+)薄膜具有高光产额、快衰减时间、高密度、高空间分辨率等优点,有望成为X射线探测中的闪烁材料,但制备高质量的薄膜面临挑战。本工作采用溶胶凝–胶法,通过对制备过程中水硅比、烧结程序、胶黏剂和固含量等四个因素的... Lu_2SiO_5:Ce^(3+)薄膜具有高光产额、快衰减时间、高密度、高空间分辨率等优点,有望成为X射线探测中的闪烁材料,但制备高质量的薄膜面临挑战。本工作采用溶胶凝–胶法,通过对制备过程中水硅比、烧结程序、胶黏剂和固含量等四个因素的系统研究与分析,结果表明:在空气湿度为85%,溶胶水硅比为6.6条件下,适量添加PEG400,采用优化后最佳固含量,从450℃开始进行烧结程序后退火,可制备出具有透明、平整、无裂痕的高质量Lu_2SiO_5:Ce^(3+)闪烁薄膜,单次旋涂获得的膜厚达到167 nm。实验表明水含量是引起薄膜发白的主要因素;烧结程序决定了薄膜的有机物分解程度及结晶状况;溶胶固含量及胶黏剂含量是调控薄膜厚度的重要方法。本工作为Lu_2SiO_5:Ce^(3+)闪烁薄膜的实际应用奠定了基础。 展开更多
关键词 lu2sio5:Ce^3%PluS%薄膜 水硅比 烧结程序 胶黏剂 固含量 发光性能
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Influence of Rare Earth Elements on Luminescent Properties of Y_2SiO_5∶Tb
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作者 焦桓 廖复辉 +1 位作者 周晶晶 荆西平 《Journal of Rare Earths》 SCIE EI CAS CSCD 2005年第4期406-410,共5页
Photoluminescent (PL) and cathodoluminescent (CL) properties of rare earths (Sc^3+ , La^3+ , Gd^3+ and Lu^3+ ) doped (Y0.97Tb0.03)2SiO5 were studied. Rare earth doping clearly influences PL and CL properti... Photoluminescent (PL) and cathodoluminescent (CL) properties of rare earths (Sc^3+ , La^3+ , Gd^3+ and Lu^3+ ) doped (Y0.97Tb0.03)2SiO5 were studied. Rare earth doping clearly influences PL and CL properties of Y2SiO5 : Tb. For La^3+ doped system, PL intensity increases nearly 10 % at x = 0.05 whereas for Lu^3+ doped system, the intensity increases about 20% at x = 0.20. Gd^3 + doping and Sc^3+ doping reduce the intensity; at x = 0.3, it is reduced about 30% for Gd^3+ doped system and about 15 % for Sc^3+ doped system, respectively. Quenching concentration of activator became higher in rare earth doped samples, which may be understood by that the rare earth dopants might dilute the concentration of the activator. Additionally, doping also influences the color saturation of Y2SiO5 : Tb. Sc^3+ , La^3+ , and Gd^3doping improve the color saturation, whereas Lu^3+ doping decreases the color saturation. CL measurements show that CL intensity increases for all rare earths doped systems. The energy transfer from Gd^3+ to Tb^3+ was discussed. 展开更多
关键词 FED luMINESCENCE Y2sio5tb CATHODOluMINESCENCE rare earths
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Czochralski法生长Lu_2SiO_5:Ce晶体的发光特性(英文) 被引量:1
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作者 任国浩 秦来顺 +1 位作者 陆晟 李焕英 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期520-523,共4页
本文使用铱坩埚感应加热Czochralski法成功地生长出了无色透明且尺寸达5 0mm× 6 0mm的Lu2 SiO5:Ce晶体。XRD结构分析表明 ,该晶体为单斜结构。在室温下分别以X射线和紫外光为激发源测量了该晶体的发射光谱 ,获得的发射波长分别为... 本文使用铱坩埚感应加热Czochralski法成功地生长出了无色透明且尺寸达5 0mm× 6 0mm的Lu2 SiO5:Ce晶体。XRD结构分析表明 ,该晶体为单斜结构。在室温下分别以X射线和紫外光为激发源测量了该晶体的发射光谱 ,获得的发射波长分别为 4 0 3nm和 4 2 0nm ,光衰减时间为 4 1ns,光产额达 32 0 0 0p/MeV。发射光谱的双峰结构以及晶体的发光特性证明其发光源于Ce3 + 离子的 5d1→5F5/ 2 和 5d1→5F7/ 2 跃迁。 展开更多
关键词 Czochralski法 lu2sio5:Ce晶体 晶体生长 发光特性 硅酸镥
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新型(Yb^3+,La^3+)∶Gd2SiO5和(Yb^3+,Tb^3+)∶GdTaO4单晶生长及分凝研究
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作者 宁凯杰 张庆礼 +1 位作者 孙敦陆 殷绍唐 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第4期817-821,827,共6页
采用提拉法生长了尺寸为30 mm×50 mm的(Yb3+,La3+)∶Gd2SiO5单晶和尺寸为24 mm×57 mm的(Yb3+,Tb3+)∶GdTaO4单晶,用X射线荧光法测量了掺杂样品的组分浓度在晶体中的分布,拟合了掺杂离子的有效分凝系数,结果表明:Yb3+在Gd2... 采用提拉法生长了尺寸为30 mm×50 mm的(Yb3+,La3+)∶Gd2SiO5单晶和尺寸为24 mm×57 mm的(Yb3+,Tb3+)∶GdTaO4单晶,用X射线荧光法测量了掺杂样品的组分浓度在晶体中的分布,拟合了掺杂离子的有效分凝系数,结果表明:Yb3+在Gd2SiO5晶体中的分凝系数为1.185(15),接近单位1,而La3+则为0.68(10),偏离单位1较多,对晶体的光学均匀性会有较大的影响;Yb3+和Tb3+在GdTaO4中的分凝系数为0.84(14)和0.84(5),接近单位1,对晶体的光学均匀性影响较小。 展开更多
关键词 (Yb3%PluS% La3%PluS%)∶Gd2sio5 (Yb3%PluS% tb3%PluS%)∶GdTaO4 晶体生长 有效分凝系数
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Eu^(3+) Tb^(3+)共掺LaPO_4-5SiO_2的白光发光材料结构及发光性质研究
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作者 王艳鑫 王喜贵 《内蒙古石油化工》 CAS 2014年第5期1-2,共2页
采用溶胶-凝胶法在常温下制备了稀土Eu3+和Tb3+共掺的以LaPO4-5SiO2为复合基质的发光材料,并通过DTA-TG、XRD、激发和发射光谱对材料的结构和发光性能进行了测试和分析。XRD图谱显示,材料主要以单斜相LaPO4结构为主。激发谱图显示,样品... 采用溶胶-凝胶法在常温下制备了稀土Eu3+和Tb3+共掺的以LaPO4-5SiO2为复合基质的发光材料,并通过DTA-TG、XRD、激发和发射光谱对材料的结构和发光性能进行了测试和分析。XRD图谱显示,材料主要以单斜相LaPO4结构为主。激发谱图显示,样品具有Eu3+和Tb3+的特征激发峰发射谱图显示,材料在红、绿、蓝波段均有发射,通过CIE色坐标计算,材料的色坐标正好落在白光区域。 展开更多
关键词 溶胶-凝胶法 LaPO4-5sio2:(Eu3%PluS% tb3%PluS%) 白光发光材料
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Lu_2SiO_5∶Ce荧光粉的热释光特性研究
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作者 吴飞 刘小林 +3 位作者 顾牡 倪晨 黄世明 刘波 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第2期411-414,共4页
采用溶胶-凝胶(Sol-Gel)技术,分别在空气中和石墨提供的弱还原气氛下制备出Lu2SiO5∶Ce0.006荧光粉。通过分析样品的结构,光致激发、发射谱和热释光谱等特性,发现弱还原气氛下制备的样品不仅光致发光强度比空气中的强,而且热释光曲线中5... 采用溶胶-凝胶(Sol-Gel)技术,分别在空气中和石墨提供的弱还原气氛下制备出Lu2SiO5∶Ce0.006荧光粉。通过分析样品的结构,光致激发、发射谱和热释光谱等特性,发现弱还原气氛下制备的样品不仅光致发光强度比空气中的强,而且热释光曲线中598K处的高温热释光峰也得到了抑制。进一步考察空气中制备的Lu2SiO5∶Ce0.006,Kx(x=0.01~0.08)荧光粉,结果表明就光致发光和热释光特性而言,K+共掺杂具有与还原气氛类似的作用。综合以上两方面分析结果,可认为598K处热释光峰是由与Ce4+相关的缺陷引起的,并对K+共掺杂LSO∶Ce发光增强的原因给出了合理解释。 展开更多
关键词 lu2sio5∶Ce荧光粉 K%PluS%共掺杂 光致发光 热释光谱 Ce4%PluS%缺陷
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溶胶-凝胶法制备Eu∶Lu2SiO5粉体及其在煅烧过程中的相转变研究
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作者 杨熠 杨磊 +1 位作者 陈艳林 严明 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第2期273-277,共5页
通过溶胶凝胶法制备Lu_2SiO_5(LSO)干凝胶前驱体,对其进行综合热分析(TG-DSC),TG曲线在400℃后趋于平缓,DSC曲线在402.8℃和1049.9℃的放热峰分别对应着LSO粉体的结晶开始温度与晶型转变点。干凝胶在900℃、1000℃、1100℃、1200℃下煅... 通过溶胶凝胶法制备Lu_2SiO_5(LSO)干凝胶前驱体,对其进行综合热分析(TG-DSC),TG曲线在400℃后趋于平缓,DSC曲线在402.8℃和1049.9℃的放热峰分别对应着LSO粉体的结晶开始温度与晶型转变点。干凝胶在900℃、1000℃、1100℃、1200℃下煅烧2 h,X射线衍射图谱(XRD)显示,900℃煅烧2 h,产物结晶不完全,还存在大量的非晶相,但已有A-LSO相的特征衍射峰出现;1000℃煅烧2 h,粉体完全结晶生成A-LSO相,1100℃煅烧后粉体呈B-LSO相,晶型转变点为1050℃左右,结果与DSC曲线中1049.9℃处的焓变峰值相对应。A、B两相颗粒形貌存在明显差别,粉体颗粒尺寸都在400~500 nm。粉体发射光谱在595 nm,617 nm,707 nm处存在发射峰,分别对应Eu^(3+)的~5D_0→~7F_1,~5D_0→~7F_2,~5D_0→~7F_4跃迁,发光强度随着Eu^(3+)掺杂浓度升高先增强后降低,掺杂浓度为5%左右时,发光强度达到最大值。 展开更多
关键词 晶型转变 lu2sio5粉体 溶胶凝胶法
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Eu^(3+)掺杂Lu_2SiO_5发光粉体的制备及发光性能
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作者 杨磊 杨熠 +1 位作者 陈诗怡 严明 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2018年第4期40-43,47,共5页
分别采用尿素辅助共沉淀法和溶胶凝胶法制备Eu^(3+)掺杂Lu_2SiO_5(Lu_2SiO_5∶Eu^(3+))粉体,对比分析了煅烧温度对粉体物相组成和微观形貌的影响以及Eu^(3+)掺杂量对粉体发光性能的影响.结果表明:两种方法均可制得纯度较高的Lu_2SiO_5粉... 分别采用尿素辅助共沉淀法和溶胶凝胶法制备Eu^(3+)掺杂Lu_2SiO_5(Lu_2SiO_5∶Eu^(3+))粉体,对比分析了煅烧温度对粉体物相组成和微观形貌的影响以及Eu^(3+)掺杂量对粉体发光性能的影响.结果表明:两种方法均可制得纯度较高的Lu_2SiO_5粉体,但溶胶凝胶法可以得到单相纯Lu_2SiO_5粉体,而尿素辅助共沉淀法所得粉体中含有少量Lu2O3杂质相;溶胶凝胶法所得粉体的粒径为200~300nm,且粉体颗粒的表面比尿素辅助共沉淀法制得的粗糙;当Eu^(3+)掺杂量(物质的量分数)为5%时,两种方法所得Lu_2SiO_5∶Eu^(3+)粉体的发光强度均达到最大,且溶胶凝胶法所得Lu_2SiO_5∶Eu^(3+)粉体的发光强度更高. 展开更多
关键词 lu2sio5:Eu3%PluS%粉体 尿素共沉淀法 溶胶凝胶法 闪烁陶瓷
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Judd-Ofelt analysis of spectra and experimental evaluation of laser performance of Tm^(3+) doped Lu_2SiO_5 crystal
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作者 姚宝权 郑亮亮 +2 位作者 段小明 赵广军 宗艳花 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2008年第10期3635-3639,共5页
This paper reports that the Tm^3+:Lu2SiO5 (Tm:LSO) crystal is grown by Czochralski technique. The roomtemperature absorption spectra of Tm:LSO crystal are measured on a b-cut sample with 4 at.% thulium. Accordin... This paper reports that the Tm^3+:Lu2SiO5 (Tm:LSO) crystal is grown by Czochralski technique. The roomtemperature absorption spectra of Tm:LSO crystal are measured on a b-cut sample with 4 at.% thulium. According to the obtained Judd-Ofelt intensity parameters Ω2=9.3155×10^-20 cm^2, Ω4=8.4103×10^-20 cm^2, Ω6=1.5908×10^-20 cm^2, the fluorescence lifetime is calculated to be 2.03 ms for ^3F4 → ^3H6 transition, and the integrated emission cross section is 5.81×10^-18 cm^2. Room-temperature laser action near 2μm under diode pumping is experimentally evaluated in Tm:LSO. An optical-optical conversion efficiency of 9.1% and a slope efficiency of 16.2% are obtained with continuouswave maximum output power of 0.67 W. The emission wavelengths of Tm:LSO laser are centred around 2.06μm with spectral bandwidth of -13.6 nm. 展开更多
关键词 Tm:lu2sio5 Judd-Ofelt analysis solid-state lasers DIODE-PUMPED
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退火温度对Ta2O5/SiO2多层反射膜结构和应力特性的影响 被引量:6
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作者 刘保剑 段微波 +4 位作者 李大琪 余德明 陈刚 王天洪 刘定权 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2019年第11期172-178,共7页
介质膜反射镜是星载激光测高仪系统中不可缺少的薄膜元件,其面形质量直接影响探测系统测距的分辨率和精度.本文采用离子束辅助电子束蒸发工艺在石英基底上沉积Ta2O5/SiO2多层反射膜,并在200—600℃的空气中做退火处理.通过X射线衍射、... 介质膜反射镜是星载激光测高仪系统中不可缺少的薄膜元件,其面形质量直接影响探测系统测距的分辨率和精度.本文采用离子束辅助电子束蒸发工艺在石英基底上沉积Ta2O5/SiO2多层反射膜,并在200—600℃的空气中做退火处理.通过X射线衍射、原子力显微镜、分光光度计及激光干涉仪等测试手段,系统研究了退火温度对Ta2O5/SiO2多层反射膜结构、光学性能以及应力特性的影响.结果表明:Ta2O5/SiO2多层反射膜退火后,膜层结构保持稳定,膜层表面粗糙度得到有效改善;反射膜在500—600℃退火后,残余应力由压应力向张应力转变;采用合适的退火温度可以有效释放Ta2O5/SiO2薄膜的残余应力,使薄膜与基底构成的介质膜反射镜具有较好的面形精度.本文的实验结果对退火工艺在介质膜反射镜面形控制技术方面的应用具有重要意义. 展开更多
关键词 光学薄膜 Ta2O5/sio2多层反射膜 退火 应力特性
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Lu-Si-O体系在高温水蒸气环境中的腐蚀行为
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作者 洪智亮 成来飞 +2 位作者 鲁琳静 张立同 王一光 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第2期186-190,共5页
采用溶胶-凝胶法制得三种镥硅酸盐体系粉体材料.以氧化物的摩尔比来表示此三种粉体,分别为:Lu2O3.SiO2、Lu2O3.2SiO2和Lu2O3.2.26SiO2.在1400℃、50%H2O-50%O2静态常压气氛下,研究了它们的耐水蒸气腐蚀性能.以单位面积重量变化率表征材... 采用溶胶-凝胶法制得三种镥硅酸盐体系粉体材料.以氧化物的摩尔比来表示此三种粉体,分别为:Lu2O3.SiO2、Lu2O3.2SiO2和Lu2O3.2.26SiO2.在1400℃、50%H2O-50%O2静态常压气氛下,研究了它们的耐水蒸气腐蚀性能.以单位面积重量变化率表征材料的耐水蒸气腐蚀性能,结合X射线衍射(XRD)、傅里叶红外光谱(FTIR)和扫描电镜能谱分析(SEM-EDS)等分析手段,揭示了镥硅酸盐体系在高温水蒸气环境中的腐蚀机制和反应机理.结果表明:三种原始粉体主要物相依次为:Lu2SiO5+Lu2Si2O7、Lu2Si2O7+SiO2和Lu2Si2O7+SiO2.在水蒸气作用下,Lu2SiO5相与Al2O3反应生成新相Lu3Al5O12,而Lu2Si2O7相并未受到水蒸气的作用而发生任何反应,表现出优异的化学稳定性. 展开更多
关键词 lu2sio5 lu2Si2O7 环境障碍涂层 水蒸气腐蚀
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电容触摸屏ITO消影膜的设计与制备 被引量:5
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作者 黄翀 李成 +2 位作者 杨玮枫 欧阳艳东 吴永俊 《光电子技术》 北大核心 2014年第4期269-272,277,共5页
设计光学薄膜改善ITO图案,匹配出各个膜层合适的物理厚度,采用直流磁控溅射和双靶中频反应磁控溅射制备ITO消影膜。经过对样品的测试和实际效果对比,证明了所设计的ITO消影膜不仅能有效改善ITO图案明显的问题,在可见光范围内还可以使透... 设计光学薄膜改善ITO图案,匹配出各个膜层合适的物理厚度,采用直流磁控溅射和双靶中频反应磁控溅射制备ITO消影膜。经过对样品的测试和实际效果对比,证明了所设计的ITO消影膜不仅能有效改善ITO图案明显的问题,在可见光范围内还可以使透过率变均匀,提高显示效果。 展开更多
关键词 ITO玻璃 反射率 消影膜 Nb2O5|sio2光学薄膜
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Pulling growth technique towards rare earth single crystals 被引量:10
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作者 SUN CongTing XUE DongFeng 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS CSCD 2018年第9期1295-1300,共6页
Pulling growth technique serves as a popular method to grow congruent melting single crystals with multiscale sizes ranging from micrometers to centimeters.In order to obtain high quality single crystals,the crystal c... Pulling growth technique serves as a popular method to grow congruent melting single crystals with multiscale sizes ranging from micrometers to centimeters.In order to obtain high quality single crystals,the crystal constituents would be arranged at the lattice sites by precisely controlling the crystal growth process.Growing interface is the position where the phase transition of crystal constituents occurs during pulling growth process.The precise control of energy at the growing interface becomes a key technique in pulling growth.In this work,we review some recent advances of pulling technique towards rare earth single crystal growth.In Czochralski pulling growth,the optimized growth parameters were designed for rare earth ions doped Y_3Al_5O_(12)and Ce:(Lu_(1-x)Y_x)_2Si O_5on the basis of anisotropic chemical bonding and isotropic mass transfer calculations at the growing interface.The fast growth of high quality rare earth single crystals is realized by controlling crystallization thermodynamics and kinetics in different size zones.On the other hand,the micro pulling down technique can be used for high throughput screening novel rare earth optical crystals.The growth interface control is realized by improving the crucible bottom and temperature field,which favors the growth of rare earth crystal fibers.The rare earth laser crystal fiber can serve as another kind of laser gain medium between conventional bulk single crystal and glass fiber.The future work on pulling technique might focus on the mass production of rare earth single crystals with extreme size and with the size near that of devices. 展开更多
关键词 pulling growth technique rare earth single crystals Czochralski pulling growth micro pulling down growth Y3Al5O12 Ce:(lu1-xYx)2sio5 chemical bonding theory of single crystal growth
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