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Sb掺和对TeO_x薄膜光学和静态记录特性的影响 被引量：1
1
作者 李青会 干福熹 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第11期1421-1424,共4页
以真空蒸镀法在 K9玻璃基底上制备了 Te Ox∶ Sb单层薄膜 ,对薄膜的结构、光学和静态记录特性进行了研究 .结果表明 ,Sb掺和后 Te Ox 薄膜的结构、反射光谱和光学常量均发生了明显变化 .Te Ox∶Sb薄膜具有良好的写入灵敏性并具有了一定... 以真空蒸镀法在 K9玻璃基底上制备了 Te Ox∶ Sb单层薄膜 ,对薄膜的结构、光学和静态记录特性进行了研究 .结果表明 ,Sb掺和后 Te Ox 薄膜的结构、反射光谱和光学常量均发生了明显变化 .Te Ox∶Sb薄膜具有良好的写入灵敏性并具有了一定的可擦除性能 。 展开更多
关键词 teox:sb薄膜 静态记录 光存储 真空蒸镀法 薄膜制备 光学特性 结构 氧化物薄膜
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