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Thermodynamic Analysis of In-As-Sb-C-H System and Design of MOVPE Process for In(As,Sb) Semiconductor
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作者 李静波 张维敬 +1 位作者 李长荣 杜振民 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 1998年第3期64-68,共5页
An In As Sb C H system composed of 5 phases and 54 gaseous species is set up to simulate the MOVPE process of the In(As,Sb) semiconductor. Several phase diagram sections and the composition dependences of semicond... An In As Sb C H system composed of 5 phases and 54 gaseous species is set up to simulate the MOVPE process of the In(As,Sb) semiconductor. Several phase diagram sections and the composition dependences of semiconductors on the input Ⅲ Ⅴ sources are calculated with the conditions defined according to practical MOVPE processes. The experimental data are collected and compared with the calculated results. 展开更多
关键词 thermodynamic analysis movpe In AS SB
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Thermodynamic Modeling and Phase Diagrams of Hexagonal and Cubic GaN Single-Crystal FilmGrowth by ECR-PEMOCVD Method
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作者 王三胜 顾彪 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第9期1041-1047,共7页
Based on thermodynamic equilibrium theory,a chemical equilibrium model for GaN g rowth is given in electron cyclotron resonance plasma enhanced metalorganic chem ical vapor deposition (ECR-PEMOCVD) system.Calculation ... Based on thermodynamic equilibrium theory,a chemical equilibrium model for GaN g rowth is given in electron cyclotron resonance plasma enhanced metalorganic chem ical vapor deposition (ECR-PEMOCVD) system.Calculation indicates that the growt h driving force are functions of growth conditions:group Ⅲ input partial press ure,input Ⅴ/Ⅲ ratio,and growth temperature.Furthermore,the growth phase diag rams of hexagonal and cubic GaN film growth are obtained,which are consistent wi th our experimental conditions to some extent.Through analysis,it is explained t he reason that high temperature and high input Ⅴ/Ⅲ ratio are favorable for he xagonal GaN film growth.This model can be extended to the similar systems used f or GaN single-crystal film growth. 展开更多
关键词 gan ECR-PEMOCVD thermodynamic analysis growth phase diagram
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Epitaxial Techniques for Compound Semiconductor Growth:from LPE to MOVPE
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作者 李长荣 杜振民 +1 位作者 罗德贵 张维敬 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2000年第2期81-86,共6页
The epitaxial techniques are the most important processes in the production of semiconductor materials and optoelectronic devices. Liquid phase epitaxy (LPE) and metal organic vapor phase epitaxy (MOVPE) particularly... The epitaxial techniques are the most important processes in the production of semiconductor materials and optoelectronic devices. Liquid phase epitaxy (LPE) and metal organic vapor phase epitaxy (MOVPE) particularly have many applications.The process characteristics and crystalline properties of both LPE and MOVPE techniques were introduced briefly, the compositional space suitable for LPE and MOVPE growth was discussed from the view point of thermodynamic equilibrium. The analysis and comparison show that on the one hand LPE and MOVPE have some advantages and characteristics in common; on the other hand, they may overcome each other′s weaknesses and deficiencies by offering their own special features. 展开更多
关键词 Ⅲ-Ⅴ semiconductors LPE movpe thermodynamic analysis
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NH_3分解率对GaN半导体MOVPE外延生长成分空间的影响
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作者 李长荣 卢琳 +1 位作者 杜振民 张维敬 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第4期241-244,共4页
研究了以三甲基镓 (TMGa)和氨 (NH3 )为气源物质 ,以氢气 (H2 )为载气进行GaN半导体的金属有机物气相外延 (MOVPE)生长时 ,NH3 分解率对于GaN半导体外延生长的成分空间的影响。热力学计算结果表明 :随着NH3分解率的提高 ,用于生长GaN外... 研究了以三甲基镓 (TMGa)和氨 (NH3 )为气源物质 ,以氢气 (H2 )为载气进行GaN半导体的金属有机物气相外延 (MOVPE)生长时 ,NH3 分解率对于GaN半导体外延生长的成分空间的影响。热力学计算结果表明 :随着NH3分解率的提高 ,用于生长GaN外延层的气 +固两相区逐渐向高Ⅴ /Ⅲ比方向变小 ,解释了实际生长过程中Ⅴ /Ⅲ比要求很高的原因。预计高的Ⅴ /Ⅲ比及低的NH3 分解率有助于GaN的MOVPE外延生长。 展开更多
关键词 热力学分析 氮化镓 movpe
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NH_3,PH_3热分解对Ⅲ-Ⅴ族半导体MOVPE外延生长的影响
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作者 李长荣 卢琳 +1 位作者 王福明 张维敬 《北京科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期165-168,共4页
以GaN和(Ga1-xInx)P半导体的金属有机物气相外延生长(MOVPE)为例分析了V族气源物质NH3和PH3热分解对半导体化合物外延生长成分空间的影响.根据外延生长过程中NH3和PH3实际分解状况,建立了气源物质... 以GaN和(Ga1-xInx)P半导体的金属有机物气相外延生长(MOVPE)为例分析了V族气源物质NH3和PH3热分解对半导体化合物外延生长成分空间的影响.根据外延生长过程中NH3和PH3实际分解状况,建立了气源物质不同分解状态下的热力学模型,进而应用Thermo-calc软件计算出与之对应的成分空间.计算结果与实验数据的对比表明:GaN和(Ga1-xInx)P半导体的MOVPE过程的热力学分析必须根据V族气源物质NH3和PH3的实际热分解状况,进行完全平衡或限定平衡条件下的计算和预测,完全的热力学平衡分析仅适用于特定的温度区段或经特殊气源预处理的工艺过程. 展开更多
关键词 NH3 PH3 热分解 Ⅲ-Ⅴ族半导体 movpe外延生长
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ECR-MOCVD方法GaN单晶薄膜生长热力学分析
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作者 王三胜 顾彪 徐茵 《高技术通讯》 EI CAS CSCD 2002年第10期70-73,84,共5页
基于热力学平衡和化学平衡理论 ,针对电子回旋共振金属有机化学气相沉积(ECR MOCVD)系统生长GaN的特点 ,给出了化学平衡模型和理论分析结果。计算得出了六方GaN的生长驱动力ΔP与生长条件 (Ⅲ族源输入分压P0 Ga 、Ⅴ /Ⅲ比、生长温度 )... 基于热力学平衡和化学平衡理论 ,针对电子回旋共振金属有机化学气相沉积(ECR MOCVD)系统生长GaN的特点 ,给出了化学平衡模型和理论分析结果。计算得出了六方GaN的生长驱动力ΔP与生长条件 (Ⅲ族源输入分压P0 Ga 、Ⅴ /Ⅲ比、生长温度 )的关系。发现在 6 0 0~ 90 0℃内GaN沉积生长速率由Ⅲ族源气体的质量输运所控制。计算得到了六方GaN生长的决定因素和相图。理论计算和实验结果通过比较发现是吻合的。 展开更多
关键词 热力学分析 生长相图 gan单晶薄膜生长 ECR-MOCVD方法 热力学平衡 化学平衡理论 氮化钙
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