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HJT太阳电池技术的发展现状及未来展望
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作者 徐卓 杨伟光 +2 位作者 白龙 乔唐 郭礼艳 《太阳能》 2024年第6期5-14,共10页
中国的硅基异质结(HJT)太阳电池技术在近5年有了快速发展,逐步进入产业化阶段,但在其发展过程中遇到了一些技术瓶颈。对HJT太阳电池的结构及能带结构进行简述,从衬底和表面制绒技术、a-Si:H薄膜技术、TCO薄膜技术、金属化电极技术等方面... 中国的硅基异质结(HJT)太阳电池技术在近5年有了快速发展,逐步进入产业化阶段,但在其发展过程中遇到了一些技术瓶颈。对HJT太阳电池的结构及能带结构进行简述,从衬底和表面制绒技术、a-Si:H薄膜技术、TCO薄膜技术、金属化电极技术等方面对HJT太阳电池关键技术的研究进展进行了分析,并从制造成本、TCO薄膜材料及叠层太阳电池技术等方面对HJT太阳电池未来的技术研究方向进行了展望。虽然HJT太阳电池具有工艺流程简单、光电转换效率高、功率衰减低、温度系数低、工作温度低等优势;但其制造成本较高,导致其市场份额上升缓慢,而采用铜电极、无铟或低含铟量TCO薄膜技术是降低HJT太阳电池制造成本的有效方法,一旦突破成本瓶颈,HJT太阳电池未来的应用空间将更加广阔。 展开更多
关键词 异质结太阳电池 光伏发电 光电转换效率 非晶硅薄膜 透明导电氧化物
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p-Si/n-Ga_(2)O_(3)异质结制备与特性研究
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作者 陈沛然 焦腾 +6 位作者 陈威 党新明 刁肇悌 李政达 韩宇 于含 董鑫 《人工晶体学报》 北大核心 2024年第1期73-81,共9页
本实验采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)工艺,在p(111)型Si衬底上制备了p-Si/n-Ga_(2)O_(3)结构的PN结。通过X射线衍射仪、原子力显微镜等对样品进行了晶体结构、表面形貌、表面粗糙度等的表征分析;通过磁控溅射与蒸镀方法在样品上生长T... 本实验采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)工艺,在p(111)型Si衬底上制备了p-Si/n-Ga_(2)O_(3)结构的PN结。通过X射线衍射仪、原子力显微镜等对样品进行了晶体结构、表面形貌、表面粗糙度等的表征分析;通过磁控溅射与蒸镀方法在样品上生长Ti/Au电极并进行I-V特性曲线、开启电压、开关电流比、反向饱和电流、理想因子、零偏压下的势垒高度等结特性测试,研究了掺杂浓度与薄膜厚度对PN结特性的影响,并对其原因进行了分析;通过二步生长法和缓冲层温度优化实验,减少了Si衬底与β-Ga_(2)O_(3)之间的晶格失配与热失配带来的影响,对薄膜与器件特性进行了优化。最终获得了表面粗糙度最低可达到4.21 nm的高质量n型β-Ga_(2)O_(3)薄膜,以及具有较低理想因子(42.1)的PN结。 展开更多
关键词 β-Ga_(2)O_(3)薄膜 金属有机化学气相沉积 p-Si/n-Ga_(2)O_(3) PN结 晶体质量 电学特性
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Numerical Analysis on the Effect of n-Si on Cu(In, Ga)Se2 Based Thin-Films for High-Performance Solar Cells by 1D-SCAPS
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作者 Rasika N. Mohottige Micheal Farndale +1 位作者 Gary S. Coombs Shahnoza Saburhhojayeva 《Open Journal of Applied Sciences》 2024年第5期1315-1329,共15页
We report the performances of a chalcopyrite Cu(In, Ga)Se<sub>2 </sub>CIGS-based thin-film solar cell with a newly employed high conductive n-Si layer. The data analysis was performed with the help of the ... We report the performances of a chalcopyrite Cu(In, Ga)Se<sub>2 </sub>CIGS-based thin-film solar cell with a newly employed high conductive n-Si layer. The data analysis was performed with the help of the 1D-Solar Cell Capacitance Simulator (1D-SCAPS) software program. The new device structure is based on the CIGS layer as the absorber layer, n-Si as the high conductive layer, i-In<sub>2</sub>S<sub>3</sub>, and i-ZnO as the buffer and window layers, respectively. The optimum CIGS bandgap was determined first and used to simulate and analyze the cell performance throughout the experiment. This analysis revealed that the absorber layer’s optimum bandgap value has to be 1.4 eV to achieve maximum efficiency of 22.57%. Subsequently, output solar cell parameters were analyzed as a function of CIGS layer thickness, defect density, and the operating temperature with an optimized n-Si layer. The newly modeled device has a p-CIGS/n-Si/In<sub>2</sub>S<sub>3</sub>/Al-ZnO structure. The main objective was to improve the overall cell performance while optimizing the thickness of absorber layers, defect density, bandgap, and operating temperature with the newly employed optimized n-Si layer. The increase of absorber layer thickness from 0.2 - 2 µm showed an upward trend in the cell’s performance, while the increase of defect density and operating temperature showed a downward trend in solar cell performance. This study illustrates that the proposed cell structure shows higher cell performances and can be fabricated on the lab-scale and industrial levels. 展开更多
关键词 n-Si p-CIGS 1D-SCAPS Thin-Films In2S3
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退火温度对蓝宝石衬底上Mg_(2)Si薄膜质量和光学性质的影响
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作者 廖杨芳 谢泉 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2023年第4期492-499,共8页
采用磁控溅射法在蓝宝石衬底上制备了结晶良好的Mg2Si多晶薄膜,研究了退火温度(375~475℃)对薄膜晶体结构、表面形貌、拉曼光谱和光学性质的影响。X射线衍射(XRD)结果表明,当退火温度为400 ℃时Mg_(2)Si(220)衍射峰强度最强,样品结晶质... 采用磁控溅射法在蓝宝石衬底上制备了结晶良好的Mg2Si多晶薄膜,研究了退火温度(375~475℃)对薄膜晶体结构、表面形貌、拉曼光谱和光学性质的影响。X射线衍射(XRD)结果表明,当退火温度为400 ℃时Mg_(2)Si(220)衍射峰强度最强,样品结晶质量最好,未见明显可观测的MgO相。扫描电镜(SEM)结果表明,所有样品表面均呈现清晰可见的规则六边形,且退火温度对形貌影响较小。拉曼光谱结果显示所有样品均呈现出Mg_(2)Si薄膜的特征峰(256 cm^(-1)附近的F_(2g)振动模),同时出现345 cm^(-1)附近的F_(1u)(LO)声子模,表明生成样品均为结晶良好的Mg_(2)Si薄膜。对薄膜光学性质的研究结果表明,随着退火温度升高,样品光学带隙先增大后减小。 展开更多
关键词 材料 薄膜 Mg_(2)Si 退火温度 蓝宝石衬底 光学带隙
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石英衬底上柱状多晶硅薄膜的制备 被引量:5
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作者 张丽伟 周伶俐 +2 位作者 李瑞 李红菊 卢景霄 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期369-372,共4页
利用射频等离子体增强化学气相沉积法(RF-PECVD)在已经预沉积有非晶硅薄膜的石英衬底上低温沉积了N/I非晶硅薄膜,对样品进行了两步快速光热(RTP)退火.采用Raman、X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)等测试仪器... 利用射频等离子体增强化学气相沉积法(RF-PECVD)在已经预沉积有非晶硅薄膜的石英衬底上低温沉积了N/I非晶硅薄膜,对样品进行了两步快速光热(RTP)退火.采用Raman、X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)等测试仪器对样品退火前后的结晶状况和微观形貌进行了分析.结果表明,该N/I非晶硅薄膜退火后的晶化率达到了94%左右,断面形貌为柱状结构,样品中的平均晶粒尺寸约30nm,晶粒团簇的尺寸最大约1.5μm. 展开更多
关键词 快速光热退火 柱状结晶 多晶硅薄膜 多晶硅薄膜太阳电池
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对柱状多晶硅薄膜的制备研究 被引量:10
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作者 张丽伟 赵新蕖 +3 位作者 卢景霄 郜小勇 陈永生 靳瑞敏 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期1159-1162,共4页
在多晶硅薄膜(Poly-S i)生长理论的基础上,用等离子体化学气相沉积(RF-PECVD)系统,配合快速光热退火装置(RTP),在玻璃衬底和石英衬底上制备了柱状结构的多晶硅薄膜。借助于扫描电子显微镜(SEM)等测试手段,对薄膜的表面形貌和断面形貌进... 在多晶硅薄膜(Poly-S i)生长理论的基础上,用等离子体化学气相沉积(RF-PECVD)系统,配合快速光热退火装置(RTP),在玻璃衬底和石英衬底上制备了柱状结构的多晶硅薄膜。借助于扫描电子显微镜(SEM)等测试手段,对薄膜的表面形貌和断面形貌进行了分析。结果发现:(1)柱晶的形成对薄膜的厚度有一定要求,而且薄膜越厚,柱晶直径越容易长得更大。本实验中,薄膜厚度达到2.5μm左右时,柱晶直径达到了1.5μm以上;(2)再结晶过程是从靠近光源的薄膜表面开始进而到薄膜内部的。再次说明RTP中再结晶的发生,与光和物质的相互作用密切相关。 展开更多
关键词 SEM RTP 柱晶 多晶硅薄膜
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退火温度和时间对制备多晶硅薄膜的影响 被引量:3
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作者 靳瑞敏 王玉仓 +3 位作者 陈兰莉 罗鹏辉 郭新峰 卢景霄 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第6期89-91,共3页
通过PECVD法于不同温度直接沉积非晶硅(a-Si:H)薄膜,选择于850℃分别退火2h、3h、6h、8h,于700℃分别退火5h、7h、10h、13h,于900℃分别退火1h、3h、8h,分别于720℃、790℃、840℃、900℃、940℃退火1h,然后用拉曼光谱和SEM进行对比分析... 通过PECVD法于不同温度直接沉积非晶硅(a-Si:H)薄膜,选择于850℃分别退火2h、3h、6h、8h,于700℃分别退火5h、7h、10h、13h,于900℃分别退火1h、3h、8h,分别于720℃、790℃、840℃、900℃、940℃退火1h,然后用拉曼光谱和SEM进行对比分析,发现退火温度与退火时间的影响是相互关联的,并且出现一系列晶化效果好的极值点。 展开更多
关键词 PECVD法 非晶硅薄膜 多晶硅薄膜 二次晶化 拉曼光谱 扫描电镜
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准分子激光烧结玻璃衬底上多晶硅薄膜材料的制备 被引量:7
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作者 邱法斌 骆文生 +3 位作者 张玉 刘传珍 荆海 黄锡珉 《液晶与显示》 CAS CSCD 2001年第3期170-175,共6页
在 PECVD法制备 a- Si:H薄膜材料基础上 ,以 Xe Cl准分子激光烧结为手段 ,对在玻璃衬底上制备多晶硅薄膜材料的工艺条件进行了探索 ,利用 XRD、 SEM、 Raman光谱等分析测试手段对所制备材料的结构特征进行了表征。较高的衬底温度、合适... 在 PECVD法制备 a- Si:H薄膜材料基础上 ,以 Xe Cl准分子激光烧结为手段 ,对在玻璃衬底上制备多晶硅薄膜材料的工艺条件进行了探索 ,利用 XRD、 SEM、 Raman光谱等分析测试手段对所制备材料的结构特征进行了表征。较高的衬底温度、合适的激光能量密度和脉冲频率 ,有利于获得高质量的多晶硅薄膜。 展开更多
关键词 多晶硅膜 准分子激光烧结 玻璃衬底 制备
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电感耦合等离子体CVD室温制备的硅薄膜的结构研究 被引量:4
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作者 王晓强 陈强 +2 位作者 栗军帅 杨定宇 贺德衍 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期465-468,共4页
用内置式单圈电感耦合等离子体化学气相沉积 (ICP CVD)方法在室温下制备Si薄膜。用傅里叶红外吸收光谱、喇曼光谱、原子力显微镜和分光椭圆偏振谱等测量分析表明 ,即使在室温下用ICP CVD也获得了有纳米结晶相的Si薄膜 ,样品结构与源气体... 用内置式单圈电感耦合等离子体化学气相沉积 (ICP CVD)方法在室温下制备Si薄膜。用傅里叶红外吸收光谱、喇曼光谱、原子力显微镜和分光椭圆偏振谱等测量分析表明 ,即使在室温下用ICP CVD也获得了有纳米结晶相的Si薄膜 ,样品结构与源气体SiH4浓度密切相关。实验结果预示着在高电子密度的ICP CVD过程中 ,活性原子集团的形成以及薄膜的生长机理与传统的等离子体CVD过程不同。 展开更多
关键词 CVD 电感耦合等离子体 子集 硅薄膜 原子 结构研究 喇曼光谱 室温 分光 ICP
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金属诱导法低温多晶硅薄膜的制备与研究 被引量:5
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作者 刘传珍 杨柏梁 +7 位作者 张玉 李牧菊 吴渊 廖燕平 王大海 邱法斌 李轶华 黄锡珉 《液晶与显示》 CAS CSCD 2000年第4期250-254,共5页
利用金属诱导晶化 (Metal Induced Crystallization,MIC)的方法研究了 a- Si/Ni的低温晶化 ,MIC的晶化温度降低到 440℃。采用 XRD、Raman、SEM和 XPS等手段研究了 Ni-MIC多晶硅薄膜的特性 ,分析了薄膜结构和组成 ,讨论了晶化过程的机理。
关键词 晶化 多晶硅薄膜 退火 金属诱导法
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衬底温度对Si(111)衬底上MBE异质外延3C-SiC薄膜的影响 被引量:6
11
作者 刘金锋 刘忠良 +2 位作者 武煜宇 徐彭寿 汤洪高 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第4期720-724,共5页
利用固源分子束外延(SSMBE)技术,在Si(111)衬底上异质外延生长3C-SiC单晶薄膜,通过RHEED、XRD、AFM、XPS等实验方法研究了衬底温度对薄膜结构、形貌和化学组分的影响.研究结果表明,1000℃生长的样品具有好的结晶质量和单晶性.在更高的... 利用固源分子束外延(SSMBE)技术,在Si(111)衬底上异质外延生长3C-SiC单晶薄膜,通过RHEED、XRD、AFM、XPS等实验方法研究了衬底温度对薄膜结构、形貌和化学组分的影响.研究结果表明,1000℃生长的样品具有好的结晶质量和单晶性.在更高的衬底温度下生长,会导致大的孔洞形成,衬底和薄膜间大的热失配使降温过程中薄膜内形成更多位错,从而使晶体质量变差.在低衬底温度下生长,由于偏离理想的化学配比也会导致薄膜的晶体质量降低. 展开更多
关键词 碳化硅薄膜 硅衬底 固源分子束外延 衬底温度
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RF-PECVD制备微晶硅薄膜的X射线衍射研究 被引量:3
12
作者 蔡宏琨 张德贤 +4 位作者 何青 赵飞 陶科 席强 孙云 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第3期545-549,共5页
采用X射线衍射(XRD)技术连续扫描法和薄膜衍射法对RF-PECVD制备的微晶硅薄膜结构进行了研究。改变硅烷浓度和反应功率,控制薄膜的生长速率,已达到制备不同材料的目的。根据硅基薄膜的电学特性和XRD测试,随着反应功率的增加,硅基薄膜的... 采用X射线衍射(XRD)技术连续扫描法和薄膜衍射法对RF-PECVD制备的微晶硅薄膜结构进行了研究。改变硅烷浓度和反应功率,控制薄膜的生长速率,已达到制备不同材料的目的。根据硅基薄膜的电学特性和XRD测试,随着反应功率的增加,硅基薄膜的生长速率不断提高,微晶硅薄膜的晶化程度不断增大。 展开更多
关键词 X射线衍射(XRD) 氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜 氢化微晶硅(μc-Si:H)薄膜 晶粒尺寸
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钙钛矿太阳能电池技术发展历史与现状 被引量:14
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作者 赵雨 李惠 +2 位作者 关雷雷 吴嘉达 许宁 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第11期17-21,29,共6页
简要回顾了钙钛矿太阳能电池的发展历史,解释了钙钛矿太阳能电池本质上是固态染料敏化太阳能电池。介绍了钙钛矿太阳能电池的微观发电机理,结合钙钛矿太阳能电池的能级图分析讨论了钙钛矿与电子传输层和空穴传输层的能级匹配。分析总结... 简要回顾了钙钛矿太阳能电池的发展历史,解释了钙钛矿太阳能电池本质上是固态染料敏化太阳能电池。介绍了钙钛矿太阳能电池的微观发电机理,结合钙钛矿太阳能电池的能级图分析讨论了钙钛矿与电子传输层和空穴传输层的能级匹配。分析总结了钙钛矿太阳能电池的光伏技术参数,包括光生电流密度、开路电压、填充因子、能量转换效率以及光伏性能的稳定性。钙钛矿太阳能电池的能量转换效率、短路电流密度和开路电压均已超过非晶硅薄膜太阳能电池,填充因子与非晶硅薄膜太阳能电池很接近。钙钛矿太阳能电池有希望实现产业化而成为下一代薄膜太阳能电池。指出了钙钛矿太阳能电池大规模市场应用在制造技术上的瓶颈即空穴传输层的造价昂贵,并综述了解决该瓶颈的最新研究工作。 展开更多
关键词 钙钛矿太阳能电池 染料敏化太阳能电池 非晶硅薄膜太阳能电池
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锂离子电池硅基负极材料改性研究进展 被引量:5
14
作者 赵铁鹏 高德淑 +2 位作者 李朝晖 雷钢铁 周姬 《电源技术》 CAS CSCD 北大核心 2009年第1期65-68,共4页
锂离子电池硅基负极材料由于理论容量较高(4200mAh/g),成为最具吸引力的新一代负极材料。然而,硅在充放电过程中体积变化较大,引起电池容量的快速衰减,从而导致电池的循环性能变差。为解决此问题,表面处理、多相掺杂、形成硅化物等方法... 锂离子电池硅基负极材料由于理论容量较高(4200mAh/g),成为最具吸引力的新一代负极材料。然而,硅在充放电过程中体积变化较大,引起电池容量的快速衰减,从而导致电池的循环性能变差。为解决此问题,表面处理、多相掺杂、形成硅化物等方法被用来改善硅基负极材料的电化学性能。综述了以上方法对硅基负极材料改性研究的最新进展,并对各种改性方法进行了简单的评述。 展开更多
关键词 锂离子电池 负极材料 纳米硅 硅薄膜 硅化物
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非晶硅薄膜PECVD法制备与光学性质表征 被引量:6
15
作者 郝江波 夏冬林 +1 位作者 姜宏 赵修建 《武汉理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第12期55-58,共4页
在普通玻璃上采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)方法制备氢化非晶硅薄膜,研究了在不同温度、压力、功率、H2/SiH4气体流量比等条件下氢化非晶硅的沉积速率,折射率、消光系数、吸收系数、光学禁带宽度等光学性质。实验结果表明非晶硅... 在普通玻璃上采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)方法制备氢化非晶硅薄膜,研究了在不同温度、压力、功率、H2/SiH4气体流量比等条件下氢化非晶硅的沉积速率,折射率、消光系数、吸收系数、光学禁带宽度等光学性质。实验结果表明非晶硅薄膜的折射率随着入射光波长的增加而减小;在500 nm处吸收系数高达8.5×104cm-1,光学禁带宽度在1.60—1.78 eV之间变化。 展开更多
关键词 非晶硅薄膜 折射率 吸收系数 光学禁带宽度
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Zr/Nb薄膜材料的制备及界面结构研究 被引量:3
16
作者 姚文清 张立武 +6 位作者 牟豪杰 张川 严谨 朱永法 杨江荣 刘柯钊 鲜晓斌 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第2期134-137,共4页
通过直流磁控溅射法在单晶Si(100)基底上制备了Zr/Nb/Si薄膜材料。X射线衍射(XRD)研究表明Zr薄膜以多晶形式存在,而Nb薄膜则形成了(110)晶面择优生长。薄膜中Zr和Nb晶粒大小分别为14,6 nm。扫描电镜研究表明形成的薄膜表面平整光滑,没... 通过直流磁控溅射法在单晶Si(100)基底上制备了Zr/Nb/Si薄膜材料。X射线衍射(XRD)研究表明Zr薄膜以多晶形式存在,而Nb薄膜则形成了(110)晶面择优生长。薄膜中Zr和Nb晶粒大小分别为14,6 nm。扫描电镜研究表明形成的薄膜表面平整光滑,没有微裂纹存在。扫描俄歇电子能谱及X射线光电子能谱的研究表明,Zr/Nb/Si薄膜样品具有清晰的界面结构。在薄膜表面形成了致密的氧化层物种,而在膜层内部少量氧则以吸附态形式存在。 展开更多
关键词 Zr/Nb/Si薄膜 磁控溅射法 界面 扫描电镜 X射线衍射 俄歇电子能谱 X射线光电子能谱
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Ge/Si薄膜材料生长的偏压效应研究 被引量:5
17
作者 毛旭 周湘萍 +1 位作者 王勇 杨宇 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第6期614-616,共3页
利用超高真空磁控溅射系统生长了不同偏压下Ge/Si薄膜材料 ,所生长的材料采用了不加偏压和加偏压的生长环境。通过X射线小角衍射分析表明 ,加一定偏压的Ge/Si薄膜材料的层状远比不加偏压的材料好 ,并且加偏压可有效降低材料的生长温度... 利用超高真空磁控溅射系统生长了不同偏压下Ge/Si薄膜材料 ,所生长的材料采用了不加偏压和加偏压的生长环境。通过X射线小角衍射分析表明 ,加一定偏压的Ge/Si薄膜材料的层状远比不加偏压的材料好 ,并且加偏压可有效降低材料的生长温度。在加 15~ 2 5V偏压时 ,获得了 30 0℃的生长温度下 ,层状优良 。 展开更多
关键词 偏压 X射线小角衍射 磁控溅射 锗/硅薄膜
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高性能金属诱导单向横向晶化多晶硅薄膜晶体管技术和应用 被引量:5
18
作者 王文 孟志国 郭海成 《液晶与显示》 CAS CSCD 2002年第5期323-330,共8页
低温金属单向诱导横向晶化多晶硅薄膜晶体管技术与常规的固相晶化多晶硅薄膜晶体管相比 ,制作工艺简单 ,而且提高了场效应迁移率和漏极击穿电压 ,降低了漏电电流 ,改进了器件参数空间分布的均匀性。我们使用金属单向诱导横向晶化多晶硅... 低温金属单向诱导横向晶化多晶硅薄膜晶体管技术与常规的固相晶化多晶硅薄膜晶体管相比 ,制作工艺简单 ,而且提高了场效应迁移率和漏极击穿电压 ,降低了漏电电流 ,改进了器件参数空间分布的均匀性。我们使用金属单向诱导横向晶化多晶硅薄膜晶体管技术 ,成功地制作了有源矩阵液晶显示器和有源矩阵有机发光二极管显示器。 展开更多
关键词 金属单向诱导横向晶化 多晶硅薄膜晶体管 有源平板显示器 有源矩阵液晶显示器 有源矩阵 有机发光二极管 显示器
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ZnO薄膜肖特基二极管的研制(英文) 被引量:5
19
作者 叶志镇 李蓓 +2 位作者 黄靖云 袁国栋 赵炳辉 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期283-286,共4页
采用直流反应磁控溅射的方法 ,在Al Si(1 0 0 )衬底上沉积了ZnO晶体薄膜。利用Al和Pt作为与ZnO接触的欧姆电极与肖特基电极 ,制作了ZnO薄膜肖特基二极管。X射线衍射测试结果表明ZnO薄膜具有高度的c轴择优取向。原子力显微分析表明 :样... 采用直流反应磁控溅射的方法 ,在Al Si(1 0 0 )衬底上沉积了ZnO晶体薄膜。利用Al和Pt作为与ZnO接触的欧姆电极与肖特基电极 ,制作了ZnO薄膜肖特基二极管。X射线衍射测试结果表明ZnO薄膜具有高度的c轴择优取向。原子力显微分析表明 :样品表面光洁平整 ,晶粒尺寸约 1 0 0nm ,扩展电阻分析表明ZnO薄膜的厚度为 0 4 μm ,载流子浓度为 1 8× 1 0 1 5cm- 3,此后的霍尔测试证实了这一结果并说明ZnO的导电类型为n型。室温下的I V测试显示ZnO肖特基二极管具有明显的整流特性。Pt与n型ZnO接触的势垒高度为 0 5 4eV。文中的ZnO肖特基二极管为首次研制的原型器件 ,其性能可以通过器件结构与制作工艺的进一步优化而得到改善。 展开更多
关键词 ZNO薄膜 Al/Si(100)衬底 基特基势垒
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薄膜干涉结构生色蚕丝织物的研制 被引量:8
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作者 张云 平伟 +2 位作者 庄广清 贾彦荣 邵建中 《蚕业科学》 CAS CSCD 北大核心 2015年第1期100-106,共7页
结构生色是一种无污染的仿生着色技术。采用静电自组装法在蚕丝织物表面构建Si O2/聚乙烯亚胺(PEI)结构生色薄膜,研究自组装条件中水洗次数、纳米Si O2粒子分散液浓度和PEI溶液浓度等因素对构建结构生色薄膜的影响,确定有利于在蚕丝织... 结构生色是一种无污染的仿生着色技术。采用静电自组装法在蚕丝织物表面构建Si O2/聚乙烯亚胺(PEI)结构生色薄膜,研究自组装条件中水洗次数、纳米Si O2粒子分散液浓度和PEI溶液浓度等因素对构建结构生色薄膜的影响,确定有利于在蚕丝织物表面静电自组装纳米Si O2/PEI结构生色膜的条件为:水洗5次,纳米Si O2粒子分散液质量分数0.2%,PEI溶液质量分数0.1%。用数码相机、Digi Eye数慧眼系统和多角度分光光度仪表征蚕丝织物的结构色及其反射率光谱,并用场发射扫描电子显微镜观察织物表面纳米Si O2/PEI薄膜的形态结构,结果显示:研制的薄膜干涉结构生色蚕丝织物的生色机理符合单层薄膜干涉生色原理,且结构色随组装周期数、组装纳米Si O2粒子的粒径和观察角度而变化;蚕丝织物用纳米Si O2/PEI组装形成的结构生色膜薄而光滑,对织物的手感和弯曲性能无明显影响。 展开更多
关键词 蚕丝织物 结构色 静电自组装 纳米SI O2粒子 薄膜干涉
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