入射角度对Ti/Al(001)沉积薄膜微观结构的影响

采用分子动力学方法模拟Ti在Al(001)表面的薄膜生长过程,计算不同入射角度下Ti薄膜的表面粗糙度、堆积密度、径向分布函数、键对含量比。结果表明,当入射角度小于30°时,其对Ti薄膜粗糙度、堆积密度的影响很小,而当入射角度大于30°时,Ti薄膜粗糙度增加、堆积密度下降;入射角度对Ti薄膜微观结构的影响很小,且Ti薄膜以fcc结构为主。

入射能量对Ti/Al(001)沉积薄膜微观结构的影响

利用分子动力学模拟了Ti原子在Al(001)表面的薄膜生长过程,通过对沉积薄膜表面粗糙度、径向分布函数、键对含量比的计算和界面结合的分析,研究入射能量对薄膜质量的影响。结果表明:当入射能量为0.1eV时,Ti薄膜粗糙,随着入射能量的增加,薄膜表面粗糙度降低,薄膜越趋于层状生长;Ti原子仅入射到基体最表面2层,仅为表面结合,无金属化合物;入射能量对Ti薄膜微观结构的影响很小,且Ti薄膜以fcc结构为主。

不同Al含量的Ti/Al合金靶对磁控溅射离子镀TiAlN薄膜力学性能的影响

采用不同Al含量的Ti/Al合金靶材在硬质合金刀具上沉积TiAlN薄膜,研究靶材中不同的Al含量对TiAlN薄膜表面粗糙度、硬度以及膜基结合力等性能的影响,通过显微硬度仪、划痕仪、金相显微镜和XRD等仪器分别对薄膜的硬度、结合力、组织结构等主要性能进行测试分析。实验结果表明:随着Ti/Al合金靶中Al含量的增加,TiAlN薄膜的硬度先增加后减小,膜基结合力逐渐增加;当Al在Ti/Al合金靶材中所占的比值为2:3时,TiAlN薄膜的硬度、耐磨性等综合力学性能最佳。