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基于ICP的Ar等离子体干法刻蚀Ti/Ni/Ag薄膜
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作者 黄梦茹 卢林红 +2 位作者 郭丰杰 马奎 杨发顺 《半导体技术》 CAS 北大核心 2024年第10期893-898,共6页
在电感耦合等离子体(ICP)刻蚀工艺中,选择合适的刻蚀条件对Ti/Ni/Ag薄膜的刻蚀至关重要。使用氩气(Ar)作为刻蚀气体,研究了射频偏压功率、气体体积流量、腔体压强、刻蚀时间等多个参数对功率芯片背面Ti/Ni/Ag薄膜刻蚀深度的影响,并优化... 在电感耦合等离子体(ICP)刻蚀工艺中,选择合适的刻蚀条件对Ti/Ni/Ag薄膜的刻蚀至关重要。使用氩气(Ar)作为刻蚀气体,研究了射频偏压功率、气体体积流量、腔体压强、刻蚀时间等多个参数对功率芯片背面Ti/Ni/Ag薄膜刻蚀深度的影响,并优化刻蚀工艺参数。实验结果表明,调节射频偏压功率和Ar体积流量可以显著影响刻蚀速率,进而对薄膜的微结构进行有效调控。通过优化工艺参数,在射频偏压功率300 W、Ar体积流量40 cm^(3)/min、腔体压强1.2 Pa、刻蚀时间50 min下,芯片Ti/Ni/Ag薄膜的刻蚀深度达到283.25μm,有效提升了刻蚀效率和刻蚀精度。 展开更多
关键词 ti/ni/ag薄膜 电感耦合等离子体(ICP) 刻蚀深度 AR 射频偏压功率
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钎焊温度对TA1/Ti-Zr-Cu-Ni-Ag/TA1接头界面组织性能的影响 被引量:1
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作者 陈修凯 路英瑶 +5 位作者 卞红 宋晓国 沈元勋 李明 万志文 郭鹏 《电焊机》 2023年第8期78-85,共8页
采用Ti-Zr-Cu-Ni-Ag钎料进行TA1钛合金的连接,并使用光学显微镜(OM)、扫描电子显微镜(SEM)和能谱仪(EDS)等分析测试手段对不同钎焊温度下获得的接头界面组织和断口形貌进行了分析。研究表明,TA1/Ti-Zr-Cu-Ni-Ag/TA1接头典型界面微观组... 采用Ti-Zr-Cu-Ni-Ag钎料进行TA1钛合金的连接,并使用光学显微镜(OM)、扫描电子显微镜(SEM)和能谱仪(EDS)等分析测试手段对不同钎焊温度下获得的接头界面组织和断口形貌进行了分析。研究表明,TA1/Ti-Zr-Cu-Ni-Ag/TA1接头典型界面微观组织为α-Ti/α-Ti+β-Ti+(α-Ti+γ)/α-Ti。随着钎焊温度的升高,钎缝宽度呈先增加后减小的趋势,共析组织更加分散,α-Ti组织逐渐增多,α-Ti和(α-Ti+γ)的片层状结构也逐渐明显;剪切试验表明当钎焊温度为900℃,保温时间为20 min时,钎焊接头的抗剪强度达到172.04 MPa的峰值,接头的断裂模式为韧脆混合断裂;接头平均抗拉强度为260.04 MPa,达到了母材的65%。 展开更多
关键词 钎焊温度 TA1钛合金 ti-Zr-Cu-ni-ag钎料 界面组织性能
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时效处理对Ni-Ti-La合金微结构、相变及力学性能的影响
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作者 王晶 李维雅 赵春旺 《内蒙古工业大学学报(自然科学版)》 2024年第1期18-22,共5页
时效处理是调节合金微结构,影响合金性能的有效方法。用实验的方法分析了Ni-Ti-La合金的微结构,研究了合金的相变行为,测定了合金的维氏硬度。实验结果表明,用La元素替代Ni元素形成的Ti_(50)Ni_(49.5)La_(0.5)合金,经时效处理后合金由N... 时效处理是调节合金微结构,影响合金性能的有效方法。用实验的方法分析了Ni-Ti-La合金的微结构,研究了合金的相变行为,测定了合金的维氏硬度。实验结果表明,用La元素替代Ni元素形成的Ti_(50)Ni_(49.5)La_(0.5)合金,经时效处理后合金由NiTi基体、NiLa沉淀相和Ti_(2)Ni沉淀相组成,并且沉淀相的数量随着时效温度升高而减少,合金在加热和冷却的过程中均为一步相变B2↔B19',合金相变开始温度随时效温度的升高而增大,合金的硬度随时效温度的升高而增大。用La元素替代Ti元素形成的Ti_(49.5)Ni_(50)La_(0.5)合金,经时效处理后合金由NiTi基体、NiLa沉淀相组成,并且沉淀相的数量随时效温度的升高而增加,合金在加热和冷却的过程中呈现一步相变B2↔B19',相变开始温度随时效温度的升高而增大,合金的维氏硬度随时效温度的升高而减小。时效处理对Ti_(50)Ni_(49.5)La_(0.5)合金和Ti_(49.5)Ni_(50)La_(0.5)合金的微结构产生了影响,进而影响了合金的相变行为和力学性能。 展开更多
关键词 ni-ti-La合金 微观结构 相变行为 维氏硬度 时效处理
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退火和时效工艺对富镍Ti-Ni形状记忆合金显微组织和相变行为的影响 被引量:2
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作者 贺志荣 王芳 《功能材料》 CAS CSCD 北大核心 2023年第6期6172-6178,共7页
为了给富镍Ti-Ni形状记忆合金热处理工艺的优化提供依据,以Ti-50.8Ni合金丝为对象,用光学显微镜、透射电子显微镜和示差扫描量热仪研究了退火和时效工艺对富镍Ti-Ni合金显微组织、相变类型、相变温度和相变热滞的影响规律。Ti-50.8Ni合... 为了给富镍Ti-Ni形状记忆合金热处理工艺的优化提供依据,以Ti-50.8Ni合金丝为对象,用光学显微镜、透射电子显微镜和示差扫描量热仪研究了退火和时效工艺对富镍Ti-Ni合金显微组织、相变类型、相变温度和相变热滞的影响规律。Ti-50.8Ni合金丝经350~800℃+5~120 min退火处理后,随退火温度和时间增加,合金发生回复、再结晶和晶粒长大过程,再结晶温度在600℃左右,显微组织形态由纤维状向等轴状变化;冷却/加热相变类型由B2→R→B19′/B19′→R→B2型向B2→R→B19′/B19′→B2型向B2→B19′/B19′→B2型转变(B2-母相,CsCl型结构;R-R相,菱方结构;B19′-马氏体相,单斜结构);R相变温度θ_(R)先升后降,极大值35.2℃在400℃退火态合金中取得;马氏体(M)相变温度θ_(M)升高,M相变热滞Δθ_(M)降低,R相变热滞Δθ_(R)约为4℃。该合金经300~500℃+0.5~50 h时效处理后,随时效温度和时间增加,合金中Ti3Ni4析出物形貌由细小颗粒状→针状→粗片状变化;300℃和500℃时效态合金的相变类型分别为B2→R→B19′/B19′→R→B2和B2→R→B19′/B19′→B2,400℃时效态合金的相变类型由B2→R→B19′/B19′→R→B2型向B2→R→B19′/B19′→B2型转变;θ_(R300)、θ_(R400)、θ_(R500)、θ_(M300)和θ_(M500)升高;θ_(M400)先降后升,极小值-121.4℃在400℃+1 h时效态合金中取得;Δθ_(M300)和Δθ_(M400)先升后降,极大值70.5℃和129.4℃分别在300℃+5 h和400℃+1 h时效态合金中取得;Δθ_(M500)降低,Δθ_(R300)和Δθ_(R400)约为4℃。 展开更多
关键词 ti-ni合金 ti-50.8ni合金 形状记忆合金 退火 时效 显微组织 相变
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Ag_3PO_4/Ni薄膜的制备及其光催化降解罗丹明B的性能和机理 被引量:6
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作者 李爱昌 朱柠柠 +3 位作者 李京红 杨晓艳 王爽 杨柳 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2015年第4期681-688,共8页
用电化学方法制备Ag3PO4/Ni薄膜,以扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和紫外-可见漫反射光谱(UV-Vis DRS)对薄膜的表面形貌、晶相结构、光谱特性及能带结构进行了表征,以罗丹明B为模拟污染物对薄膜的光催化活性和稳定性进行了测定,... 用电化学方法制备Ag3PO4/Ni薄膜,以扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和紫外-可见漫反射光谱(UV-Vis DRS)对薄膜的表面形貌、晶相结构、光谱特性及能带结构进行了表征,以罗丹明B为模拟污染物对薄膜的光催化活性和稳定性进行了测定,采用向溶液中加入活性物种捕获剂的方法对薄膜光催化降解机理进行了探索。结果表明:最佳工艺下制备的Ag3PO4/Ni薄膜具有致密的层状表面结构,是由多晶纳米颗粒构成的薄膜。薄膜具有较高的光催化活性和突出的光催化稳定性,可见光下催化作用60 min,薄膜光催化罗丹明B的降解率是多孔P25 Ti O2/ITO纳米薄膜(自制)的2.3倍;在保持薄膜光催化活性基本不变的前提下可循环使用6次。给出了可见光下薄膜光催化降解罗丹明B的反应机理。 展开更多
关键词 ag3PO4/ni薄膜 电化学制备 光催化 罗丹明B 反应机理
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Al/Ni和Al/Ti纳米多层薄膜制备与表征 被引量:5
6
作者 李东乐 朱朋 +3 位作者 付帅 沈瑞琪 叶迎华 华天丽 《含能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第6期749-753,共5页
用磁控溅射法制备了Al/Ni、Al/Ti纳米多层薄膜。用场发射扫描电子显微镜(FESEM)、原子力显微镜(AFM)和X-射线衍射仪(XRD)对其进行了结构表征和成分分析。用差示扫描量热法(DSC)测定了纳米多层薄膜的反应放热量。结果表明:工作压力为0.4 ... 用磁控溅射法制备了Al/Ni、Al/Ti纳米多层薄膜。用场发射扫描电子显微镜(FESEM)、原子力显微镜(AFM)和X-射线衍射仪(XRD)对其进行了结构表征和成分分析。用差示扫描量热法(DSC)测定了纳米多层薄膜的反应放热量。结果表明:工作压力为0.4 Pa,Al、Ni、Ti溅射功率分别为200,220,180 W条件下制备的Al/Ni、Al/Ti多层薄膜表面均匀致密,无尖锐峰,层状结构分明,组成成分分别为Al、Ni和Al、Ti单质状态;Al/Ni、Al/Ti多层薄膜放热量分别为1134.64,918.36 J·g-1,达到理论值的82.2%,80.7%。 展开更多
关键词 军事化学与烟火技术 AL ni纳米多层薄膜 AL ti纳米多层薄膜 磁控溅射 结构表征 热分析
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Ag_3PO_4/Ni纳米薄膜降解罗丹明B的光电催化性能和反应机理 被引量:4
7
作者 李爱昌 赵娣 +2 位作者 刘盼盼 孙少敏 刘萌 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第8期2196-2204,共9页
采用电化学方法制备Ag3PO4/Ni薄膜,以扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和紫外-可见漫反射光谱(UV-Vis DRS)对薄膜的表面形貌、晶相结构、光谱特性及能带结构进行表征,以罗丹明B为模拟污染物对薄膜的光电催化活性和稳定性进行测定,采用向... 采用电化学方法制备Ag3PO4/Ni薄膜,以扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和紫外-可见漫反射光谱(UV-Vis DRS)对薄膜的表面形貌、晶相结构、光谱特性及能带结构进行表征,以罗丹明B为模拟污染物对薄膜的光电催化活性和稳定性进行测定,采用向溶液中加入活性物种捕获剂和通氮除氧方法对薄膜的光催化降解机理进行探索,并提出光电催化降解罗丹明B的反应机理。结果表明:最佳工艺下制备的Ag3PO4/Ni薄膜具有致密的层状表面结构,是由多晶纳米颗粒构成的薄膜。该薄膜具有显著的光电催化活性,在最佳阳极偏压下,光电催化罗丹明B的降解率是多孔P25 Ti O2/ITO薄膜的6.69倍;相对于未加偏压的光催化,降解率提高了5.34倍,并且具有突出的光电协同效应。同时,该薄膜具有优异的光催化和光电催化稳定性。在0.1 V阳极偏压下,可使光催化稳定性提高近一倍。 展开更多
关键词 ag3PO4/ni薄膜 阳极偏压 光电催化 罗丹明B 反应机理
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Ag_2S/Ag_3PO_4/Ni复合薄膜的制备及其光催化性能 被引量:6
8
作者 赵娣 张博 +1 位作者 段召娟 李爱昌 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2016年第12期2158-2164,共7页
采用电化学方法制备Ag_2S/Ag_3PO_4/Ni复合薄膜,以扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、紫外-可见漫反射光谱(UVVis DRS)对薄膜的表面形貌、晶相结构、光谱特性及能带结构进行了表征,以罗丹明B为模拟污染物对薄膜的光催化活性和稳定... 采用电化学方法制备Ag_2S/Ag_3PO_4/Ni复合薄膜,以扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、紫外-可见漫反射光谱(UVVis DRS)对薄膜的表面形貌、晶相结构、光谱特性及能带结构进行了表征,以罗丹明B为模拟污染物对薄膜的光催化活性和稳定性进行了测定,采用向溶液中加入活性物种捕获剂的方法对薄膜的光催化机理进行了探索。结果表明:最佳工艺制备的Ag_2S/Ag_3PO_4/Ni是由均匀的球形纳米颗粒构成的薄膜,其光催化活性明显优于纯Ag_3PO_4/Ni薄膜和纯Ag_2S/Ni薄膜,且在保持薄膜光催化活性基本不变的前提下可循环使用6次。提出了可见光下Ag_2S/Ag_3PO_4/Ni复合薄膜光催化降解罗丹明B的反应机理。 展开更多
关键词 ag2S/ag3PO4/ni复合薄膜 电化学制备 光催化 罗丹明B 反应机理
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用掠入射XAFS方法研究Ti/Ni/Ti纳米薄膜的界面结构 被引量:1
9
作者 于海生 黄宇营 +5 位作者 魏向军 姜政 王建强 顾颂琦 张硕 高星 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2011年第7期489-493,共5页
在上海光源BL14W1线站建立了掠入射XAFS(GI-XAFS)方法,利用GI-XAFS方法并结合X射线反射(XRR)研究了直流磁控溅射方法生长在W/Si基底上的Ti/Ni/Ti纳米薄膜的界面结构随Ni层厚度的变化。结果表明,随着薄膜厚度的增加,Ni/Ti界面层间的相互... 在上海光源BL14W1线站建立了掠入射XAFS(GI-XAFS)方法,利用GI-XAFS方法并结合X射线反射(XRR)研究了直流磁控溅射方法生长在W/Si基底上的Ti/Ni/Ti纳米薄膜的界面结构随Ni层厚度的变化。结果表明,随着薄膜厚度的增加,Ni/Ti界面层间的相互扩散有所增加,Ni层厚度为5 nm时,Ni/Ti界面层间的扩散厚度为2 nm左右;Ni层厚度为1 nm时,由于无序度较大,Ni-Ni配位和Ni-Ti配位的键长有所收缩;随着薄膜Ni层厚度的减小,无序度逐渐增加,Ni-Ti配位增加,Ni-Ni配位减少。 展开更多
关键词 掠入射 X射线吸收精细结构(XAFS) ti/ni/ti薄膜 X射线反射(XRR)
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可见光高催化活性GO/Ag3PO4/Ni复合薄膜的制备和性能 被引量:3
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作者 赵娣 刘洪燕 +2 位作者 李桂花 刘宇阳 崔子硕 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2020年第2期253-260,共8页
以磷酸铵和氧化石墨烯悬浊液的混合液为电解液,采用电化学共沉积法制备了Ag3PO4基GO/Ag3PO4/Ni复合薄膜。运用扫描电子显微镜(SEM)、能量色散谱(EDS)、X射线衍射(XRD)、拉曼光谱(Raman)和紫外可见漫反射光谱(UV-Vis DRS)等对其形貌、物... 以磷酸铵和氧化石墨烯悬浊液的混合液为电解液,采用电化学共沉积法制备了Ag3PO4基GO/Ag3PO4/Ni复合薄膜。运用扫描电子显微镜(SEM)、能量色散谱(EDS)、X射线衍射(XRD)、拉曼光谱(Raman)和紫外可见漫反射光谱(UV-Vis DRS)等对其形貌、物相和光谱特性进行分析。最佳工艺制备的GO/Ag3PO4/Ni复合薄膜呈现出GO包覆在直径为100 nm左右的Ag3PO4纳米球外的表面形貌。GO片与Ag3PO4纳米球之间存在强电荷相互作用。与单独的Ag3PO4纳米球相比,GO片的附着导致带隙缩小,可见光区的吸收率增强。可见光下考察了复合薄膜降解罗丹明B的光催化活性和稳定性,并利用荧光光谱和捕获剂法对薄膜的光催化机理进行了探索。结果表明,GO片的加入不仅显著提高了Ag3PO4的光催化活性,而且提高了Ag3PO4的结构稳定性。光催化降解罗丹明B 60 min时,GO/Ag3PO4/Ni复合薄膜的降解率是Ag3PO4/Ni薄膜的1.32倍。在保持薄膜光催化活性基本不变的前提下可循环使用7次。GO优异的电荷传导性能,以及Ag3PO4纳米球与GO片之间的正协同效应是提高复合薄膜光催化性能的主要原因。 展开更多
关键词 GO/ag3PO4/ni(ag3PO4基)薄膜 光催化 电化学共沉积 罗丹明B 可见光 反应机理
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时效态Ti-50.8Ni-0.5V合金的组织、相变和形状记忆行为
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作者 贺志荣 刘曼倩 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第11期3744-3753,共10页
为了揭示时效温度和时间对Ti-50.8Ni-0.5V形状记忆合金超弹性(SE)和形状记忆效应(SME)的影响规律,本文用透射电子显微技术、示差扫描量热仪和拉伸试验分别研究了经300℃、400℃、500℃分别时效0.5 h、1 h、5 h、10 h、20 h、50 h后Ti-50... 为了揭示时效温度和时间对Ti-50.8Ni-0.5V形状记忆合金超弹性(SE)和形状记忆效应(SME)的影响规律,本文用透射电子显微技术、示差扫描量热仪和拉伸试验分别研究了经300℃、400℃、500℃分别时效0.5 h、1 h、5 h、10 h、20 h、50 h后Ti-50.8Ni-0.5V合金的显微组织特征、相变行为和形状记忆行为。结果表明:300~500℃时效态Ti-50.8Ni-0.5V合金的显微组织由基体和Ti3Ni4析出相组成,其中Ti3Ni4析出相呈透镜状,分布在基体的晶内和晶界。随着时效温度升高和时效时间的延长,Ti3Ni4析出相尺寸增大,密度减小。在冷却/加热过程中,300℃和400℃时效态合金发生B2→R→B19′/B19′→R→B2(B2—母相,CsCl型结构;R—R相,菱方结构;B19′—马氏体,单斜结构)型相变,500℃时效态合金发生B2→R→B19′/B19′→B2型相变。随着时效时间的延长,合金的R相变温度TR和马氏体相变温度TM增加,马氏体相变热滞ΔTM减小,R相变热滞ΔTR变化不大,其中TR400℃>TR300℃>TR500℃,TM500℃>TM400℃>TM300℃,ΔTM400℃>ΔTM300℃>ΔTM500℃,ΔTR300℃≈ΔTR400℃≈4℃。室温下,(300℃,0.5~50 h)、(400℃,0.5~10 h)和(500℃,0.5~1 h)时效态Ti-50.8Ni-0.5V合金呈SE特性,(400℃,10~50 h)和(500℃,1~50 h)时效态合金呈SE+SME特性。要使Ti-50.8Ni-0.5V合金在室温下获得优异的SE特性,可对其进行(300℃,0.5~50 h)或(400℃,0.5~10 h)或500℃/0.5~1 h时效处理。 展开更多
关键词 ti-ni-V合金 形状记忆合金 时效 显微组织 相变 形状记忆行为
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电化学共沉积制备可见光高催化活性Ag_3PO_4/CNTs/Ni复合薄膜 被引量:1
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作者 赵娣 段召娟 +4 位作者 郭凤华 魏磊 马麦霞 傅丽 李爱昌 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第11期2266-2273,共8页
采用电化学共沉积法制备了Ag_3PO_4/CNTs/Ni复合薄膜,运用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、拉曼光谱、紫外-可见漫反射光谱(UV-Vis DRS)对其进行了形貌和结构特性的分析,在可见光下分别考察了复合薄膜光催化降解罗丹明B和刚果红... 采用电化学共沉积法制备了Ag_3PO_4/CNTs/Ni复合薄膜,运用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、拉曼光谱、紫外-可见漫反射光谱(UV-Vis DRS)对其进行了形貌和结构特性的分析,在可见光下分别考察了复合薄膜光催化降解罗丹明B和刚果红的性能。结果表明,最佳工艺制备的Ag_3PO_4/CNTs/Ni复合薄膜最外层为大小均匀的Ag_3PO_4球形颗粒,平均粒径为20~30 nm,而在其内层则为Ag_3PO_4和CNTs交错的网状结构。Ag_3PO_4/CNTs/Ni复合薄膜的光催化活性和稳定性均明显优于纯Ag_3PO_4/Ni薄膜,且光催化降解罗丹明B的速率常数是纯Ag_3PO_4/Ni薄膜的2.14倍。这都归因于CNTs的高导电性及其与Ag_3PO_4良好的协同效应,有效地促进了光生电子与空穴的分离。 展开更多
关键词 ag3PO4/CNTs/ni复合薄膜 电化学共沉积 光催化 罗丹明B 反应机理
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Ni-Ti形状记忆合金薄膜的研究和应用 被引量:6
13
作者 秦桂红 严彪 《上海钢研》 2005年第1期10-14,共5页
Ni-n形状记忆合金(SMA)薄膜由于其尺寸小输出功大,是一种有诱人前景的微机械材料。本文主要介绍了Ni-Ti形状记忆合金薄膜的马氏体相变、时效稳定性、R相变、退火对相变温度的影响、力学性能以及最近的应用。
关键词 形状记忆合金薄膜 研究和应用 形状记忆合金(SMA) 微机械材料 马氏体相变 相变温度 力学性能 输出功 稳定性 R相变 ti ni 时效 退火
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磁控溅射制备Ti-Ni-Cu记忆薄膜与组织成分研究
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作者 卞铁荣 卢正欣 井晓天 《兵器材料科学与工程》 CAS CSCD 北大核心 2007年第6期56-59,共4页
优化直流磁控溅射Ti-Ni-Cu薄膜的制备工艺参数,研究薄膜的组织结构、成分与工艺参数对其的影响规律。采用SEM、TEM、XRD及EMPA对其系统研究分析。结果表明,经650℃、0.5h退火,溅射态的非晶无序结构的Ti-Ni-Cu薄膜完全晶化,获得形状记忆... 优化直流磁控溅射Ti-Ni-Cu薄膜的制备工艺参数,研究薄膜的组织结构、成分与工艺参数对其的影响规律。采用SEM、TEM、XRD及EMPA对其系统研究分析。结果表明,经650℃、0.5h退火,溅射态的非晶无序结构的Ti-Ni-Cu薄膜完全晶化,获得形状记忆效应。室温下基体组织为立方结构的B2相。溅射薄膜的厚度与时间几乎呈线性变化;而薄膜的沉积速率随着溅射功率的增大而升高,但溅射功率再增大则沉积速率降低;薄膜的成分随溅射功率、工作气压及时间的变化基本一致,不存在成分离散问题。 展开更多
关键词 tini—Cu 薄膜 磁控溅射 非晶 形状记忆
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脉冲激光沉积Ti_(50)Ni_(36)Cu_(14)薄膜的成分均匀性
15
作者 李亚东 骆苏华 高伟健 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2005年第1期45-47,共3页
采用脉冲激光沉积 (PLD)技术制备了Ti50 Ni36 Cu1 4合金薄膜。研究表明 ,PLD合金薄膜的成分与沉积距离(基片 靶间距 )、激光脉冲频率有较大关系。当沉积距离 (D)为 2 0~ 30mm时 ,可获得成分均匀稳定的合金薄膜 ;当其它条件相同 ,激光... 采用脉冲激光沉积 (PLD)技术制备了Ti50 Ni36 Cu1 4合金薄膜。研究表明 ,PLD合金薄膜的成分与沉积距离(基片 靶间距 )、激光脉冲频率有较大关系。当沉积距离 (D)为 2 0~ 30mm时 ,可获得成分均匀稳定的合金薄膜 ;当其它条件相同 ,激光脉冲频率 (F)为 5Hz时 ,合金薄膜与靶成分更为接近。采用PLD技术制备的Ti50 Ni36 Cu1 4合金薄膜成分均匀性较好 ,同时与磁控溅射薄膜相比PLD薄膜的平均成分更加接近靶体。采用本工艺获得的Ti50 Ni36 Cu1 4薄膜的平均成分为 4 7.5 3at.%Ti、38.90at.%Ni和 13.5 7at.%Cu。 展开更多
关键词 PLD技术 ti50ni36Cut14 合金薄膜 成分均匀性
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Ni-Ti形状记忆合金薄膜的最新研究
16
作者 秦桂红 严彪 《材料导报》 EI CAS CSCD 2004年第F10期342-344,350,共4页
Ni—Ti形状记忆合金(SMA)薄膜由于其尺寸小输出功大,是一种具有诱人前景的微机械材料。主要介绍了Ni—Ti薄膜的马氏体相变及时效稳定性、力学性能。并介绍了其最新的应用研究。
关键词 形状记忆合金薄膜 形状记忆合金(SMA) 微机械材料 马氏体相变 力学性能 输出功 稳定性 ti ni 时效
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Ag/Ni超晶格薄膜加热过程的原位电镜观察
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作者 王元生 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第1期40-42,共3页
用透射电镜对具有不同厚度元素层的Ag/Ni超晶格薄膜在加热过程的结构变化进行原位观察。原始态的超晶格薄膜都具有程度不同的由Ag/Ni失配界面引起的点阵应变;在较低温度下,点阵应变即开始出现弛豫。对原始态每个元素层包含5个原子... 用透射电镜对具有不同厚度元素层的Ag/Ni超晶格薄膜在加热过程的结构变化进行原位观察。原始态的超晶格薄膜都具有程度不同的由Ag/Ni失配界面引起的点阵应变;在较低温度下,点阵应变即开始出现弛豫。对原始态每个元素层包含5个原子面的样品,温度达250℃时,部分新晶粒开始形成并长大;直至约350℃,应变弛豫和晶粒长大的过程同时进行。温度再升高至400℃.部分晶粒迅速粗化。终使超晶格薄膜的层状周期结构在约450℃时完全被破坏。增加超晶格薄膜的元素层厚度,新晶粒形成和长大及随后粗化的温度相应地增高,同时晶粒的择优取向状态在热处理时也更稳定,表明超晶格薄膜结构的热稳定性得到了提高。热处理导致超晶格薄膜层状周期结构的被破坏,主要归因于晶粒的粗化现象,较低温时的新晶粒形成和晶粒长大对层状结构没有严重影响。 展开更多
关键词 ag/ni薄膜 超晶格膜 原位电镜观察 加热过程
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Ni-Ti-Hf合金薄膜的制备与微结构分析
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作者 孟晓凯 赵春旺 《内蒙古大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2018年第2期182-187,共6页
采用室温磁控溅射法在涂覆有氮化硅膜的硅片上制备Ni-Ti-Hf合金薄膜,使用扫描电子显微镜和X射线衍射仪分析了制备工艺和退火处理对薄膜形貌和结构的影响.结果表明,室温溅射所得薄膜为富(Ti+Hf)的非晶态,呈柱状生长方式.薄膜厚度随溅射... 采用室温磁控溅射法在涂覆有氮化硅膜的硅片上制备Ni-Ti-Hf合金薄膜,使用扫描电子显微镜和X射线衍射仪分析了制备工艺和退火处理对薄膜形貌和结构的影响.结果表明,室温溅射所得薄膜为富(Ti+Hf)的非晶态,呈柱状生长方式.薄膜厚度随溅射做功呈良好递增关系.溅射态薄膜表面不平整,有明显起伏、裂纹及孔洞等缺陷,致密性较差;退火处理使薄膜发生结晶转变,无裂纹及孔洞等缺陷,致密性大大改善.随Hf含量增加,马氏体相变程度增大、晶格畸变增加. 展开更多
关键词 niti—Hf合金薄膜 磁控溅射 表面形貌 组织结构
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Martensite Aging Effect and Thermal Cyclic Characteristics in Ti-Pd and Ti-Pd-Ni High Temperature Shape Memory Alloys 被引量:2
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作者 Wei Cai School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 15000k, China Kazuhiro Otsuka Institute of Materials Science, University of Tsukuba, Tsukuba, Ibaraki 305-8573, Japan E-mail: weicai@hope.hit.edu.cn 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2001年第3期359-362,共4页
The effect of thermal cycling and aging in martensitic state in Ti-Pd-Ni alloys were investigated by DSC and TEM observations. It is shown that the thermal cycling causes the decreases in M, and Af temperatures in Ti5... The effect of thermal cycling and aging in martensitic state in Ti-Pd-Ni alloys were investigated by DSC and TEM observations. It is shown that the thermal cycling causes the decreases in M, and Af temperatures in Ti50Pd50-xNix (x=10, 20, 30) alloys, but no obvious thermal cycling effect was observed in Ti50Pd50Pd40Ni10 alloys and the aging effect shows a curious feature, i.e., the Af temperature does not saturate even after relatively long time aging, which is considered to be due to the occurrence of recovery recrystallization during aging. 展开更多
关键词 ti Martensite aging Effect and Thermal Cyclic Characteristics in ti-Pd and ti-Pd-ni High Temperature Shape Memory Alloys PD ni
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Transformation behavior and shape memory effect of Ti_(50-x)Ni_(48)Fe_2Nb_x alloys by aging treatment 被引量:5
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作者 Xu, Qing Liu, Fushun 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2012年第4期311-317,共7页
The influence of aging treatment on transformation behavior and shape memory of the Ti 50_x Ni_(48) Fe_2 Nb_x(x=0,0.6,0.8,1.0,and 1.2) alloys was investigated using differential scanning calorimeter(DSC),mechanical dr... The influence of aging treatment on transformation behavior and shape memory of the Ti 50_x Ni_(48) Fe_2 Nb_x(x=0,0.6,0.8,1.0,and 1.2) alloys was investigated using differential scanning calorimeter(DSC),mechanical drawing machine,and microhardness tester in this paper.It is indicated that the aging treatment has a significant effect on the phase transformation temperatures(M_s,M_f,M_p,A_s,A_f,and A_p) and microhardness of the samples.The phase transformation temperatures are found to decrease initially with the increasing aging temperature from 300 to 500 ℃ and increase with further increase of the aging temperature.The aging treatment at intermediate temperature between 400 and 500 ℃ results in an improved shape memory effect.In addition,the highest microhardness value is also obtained. 展开更多
关键词 ti-ni-Fe-Nb shape memory alloys martensitic transformation aging treatment phase transformation temperature
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