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C/Ti原子比对反应火焰喷涂TiC/Fe复合涂层组织结构和硬度的影响 被引量:9
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作者 刘慧渊 黄继华 +1 位作者 杨四新 张建纲 《复合材料学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期80-84,共5页
以TiFe粉和碳的前驱体(石油沥青)为原料,用前驱体碳化复合技术制备了TiFeC反应喷涂复合粉末,并采用普通火焰喷涂技术成功制备了TiC/Fe陶瓷金属复合涂层。研究了不同C/Ti原子比对反应火焰喷涂TiC/Fe复合涂层相组成、显微结构和硬度的影... 以TiFe粉和碳的前驱体(石油沥青)为原料,用前驱体碳化复合技术制备了TiFeC反应喷涂复合粉末,并采用普通火焰喷涂技术成功制备了TiC/Fe陶瓷金属复合涂层。研究了不同C/Ti原子比对反应火焰喷涂TiC/Fe复合涂层相组成、显微结构和硬度的影响。结果表明,前驱体碳化复合技术制备的TiFeC系反应喷涂复合粉末中C/Ti原子比是影响涂层相组成、显微结构和硬度的关键因素。C/Ti原子比不同,涂层的相组成和硬度不同;随着C/Ti原子比增大,涂层中TiC团聚富集区增大,涂层的孔隙率也随之增大。 展开更多
关键词 反应火焰喷涂 tiC/Fe复合涂层 前驱体 C/ti原子
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C/Ti原子比对前驱体碳化复合等离子熔覆TiC/Fe复合涂层的影响 被引量:5
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作者 刘均波 姜军生 +1 位作者 谭志强 刘均海 《金属热处理》 CAS CSCD 北大核心 2008年第6期50-53,共4页
以钛铁粉和碳的前驱体(蔗糖)为原料通过前驱体碳化复合技术制备了Ti-Fe-C等离子熔覆复合粉末,并通过等离子熔覆技术在普通低碳钢表面成功地原位合成了TiC/Fe陶瓷金属复合涂层。着重研究了不同C/Ti原子比对等离子熔覆TiC/Fe复合涂层的相... 以钛铁粉和碳的前驱体(蔗糖)为原料通过前驱体碳化复合技术制备了Ti-Fe-C等离子熔覆复合粉末,并通过等离子熔覆技术在普通低碳钢表面成功地原位合成了TiC/Fe陶瓷金属复合涂层。着重研究了不同C/Ti原子比对等离子熔覆TiC/Fe复合涂层的相组成、显微结构和硬度的影响。结果表明,前驱体碳化复合技术制备的Ti-Fe-C系等离子熔覆复合粉末中C/Ti原子比是影响涂层相组成、显微结构和硬度的关键因素。C/Ti原子比不同,涂层的相组成和硬度不同;随着C/Ti原子比增大,涂层中TiC团聚富集区增大,涂层的孔隙率也随之增大。 展开更多
关键词 前驱体 等离子熔覆 tiC/Fe复合涂层 C/ti原子
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Ti原子位置对立方SrTiO_3电子结构的影响 被引量:4
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作者 张文蕾 马梅 +2 位作者 张丽英 张丽丽 曹庆琪 《伊犁师范学院学报(自然科学版)》 2014年第2期45-49,共5页
基于第一性原理密度泛函理论框架下的平面波超软赝势计算方法,计算分析了Ti原子Z轴分数坐标的移动对立方SrTiO3的能带结构、能态密度和Mulliken电荷布居方面的电子结构的影响.计算结果表明,随着Ti原子Z坐标的上移,O原子的电子逐渐转移... 基于第一性原理密度泛函理论框架下的平面波超软赝势计算方法,计算分析了Ti原子Z轴分数坐标的移动对立方SrTiO3的能带结构、能态密度和Mulliken电荷布居方面的电子结构的影响.计算结果表明,随着Ti原子Z坐标的上移,O原子的电子逐渐转移到Ti原子上,使得O的部分电子能量升高,Ti的部分电子能量降低,价带与导带渐渐重叠,能隙消失,即Ti原子位置可以强烈影响SrTiO3的电子结构. 展开更多
关键词 第一性原理 SRtiO 3 ti原子位置 电子结构 SRtiO3
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氢气在Ti原子掺杂的镁薄膜表面的解离和扩散研究
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作者 张红霞 张世伟 +1 位作者 朱黎原 王志文 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2016年第24期48-51,共4页
基于密度泛函理论计算,研究了氢气分子与Ti原子掺杂的镁薄膜表面的相互作用。结果表明,Ti原子替代在镁薄膜表面第二层的位置最稳定。氢气在Ti原子掺杂的镁薄膜表面(Ti原子替代在第二层)的解离势垒下降至0.76e V。第1个氢原子扩散势垒是0... 基于密度泛函理论计算,研究了氢气分子与Ti原子掺杂的镁薄膜表面的相互作用。结果表明,Ti原子替代在镁薄膜表面第二层的位置最稳定。氢气在Ti原子掺杂的镁薄膜表面(Ti原子替代在第二层)的解离势垒下降至0.76e V。第1个氢原子扩散势垒是0.11 e V,氢原子离开Ti原子扩散至更远的位置,而不是吸附在Ti原子旁边;催化剂原子不会与先解离的氢气原子成键。研究表明,掺杂Ti的镁薄膜是一种拥有良好性能的储氢材料。 展开更多
关键词 密度泛函理论 ti原子 镁薄膜 原子 解离势垒 扩散势垒
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N/Ti原子比对TiN膜微结构及性能的影响综合分析
5
作者 彭立静 张钧 +2 位作者 徐晨宁 王晓阳 王美涵 《材料保护》 CAS CSCD 2021年第4期127-132,共6页
TiN硬质膜是很多现有的多组元氮化物硬质膜的基础。N/Ti原子比对TiN硬质膜具有重要影响。结合TiN硬质膜的制备工艺方法,分析了膜层中N含量变化的影响因素及控制方法,详细讨论了N/Ti原子比对TiN膜相组成、硬度、耐摩擦磨损性能、光电性... TiN硬质膜是很多现有的多组元氮化物硬质膜的基础。N/Ti原子比对TiN硬质膜具有重要影响。结合TiN硬质膜的制备工艺方法,分析了膜层中N含量变化的影响因素及控制方法,详细讨论了N/Ti原子比对TiN膜相组成、硬度、耐摩擦磨损性能、光电性能的影响关系。 展开更多
关键词 tiN硬质膜 N/ti原子 显微硬度 光电性能
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Ti原子与氮掺杂金刚石(001)界面结合强度的第一性原理研究
6
作者 刘勇涛 周霖 +3 位作者 李铜 查康 刘睿家 马杰 《原子与分子物理学报》 CAS 北大核心 2022年第2期42-45,共4页
金属钛原子在金刚石表面的结合强度直接影响金刚石真空介电窗口的使用性能和寿命.本文通过基于密度泛函理论的第一性原理方法研究了Ti原子与不同氮掺杂位置的金刚石(001)界面的结合能、电荷分布和稳态几何结构.结果表明:Ti原子与N原子... 金属钛原子在金刚石表面的结合强度直接影响金刚石真空介电窗口的使用性能和寿命.本文通过基于密度泛函理论的第一性原理方法研究了Ti原子与不同氮掺杂位置的金刚石(001)界面的结合能、电荷分布和稳态几何结构.结果表明:Ti原子与N原子取代掺杂在第二层C原子处金刚石表面的结合能比未掺杂和掺杂在第三层的结合能都高,达到-7.293 eV,使得金刚石表面形成的界面结构更加稳定,结合强度更好;通过电荷分布分析,N原子掺杂在第二层金刚石表面的Ti原子上的电荷转移最明显,对金刚石表面碳原子吸附最强,也具有更好的结合强度.与未掺杂金刚石表面形成的Ti-C键键长相比,N掺杂在第二层和第三层C原子处金刚石表面形成的Ti-C键键长比前者分别长0.051和0.042,略有增加. 展开更多
关键词 氮掺杂金刚石 ti原子 密度泛函理论 结合强度
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N/Ti原子比不同的TiNx膜的性质
7
作者 西田典秀 廖燕南 《四川真空》 1989年第1期28-33,共6页
关键词 tiNx膜 N/ti原子 RF离子镀膜法
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基于Ti原子杂化微孔晶体结构的CO_(2)吸附特性和电荷转移机理研究
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作者 杨宁 刘振宇 +1 位作者 郝敬洋 周云龙 《工程热物理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第1期115-121,共7页
替换SIFSIX类杂化微孔材料的金属位点或有机配体可以合成大量具有不同孔径的化合物,TiF_(6)^(2-)配体对CO_(2)吸附和电荷转移特性的影响机理尚不充分。本研究以此为背景在SIFSIX-3-Zn的基础上将SiF_(6)^(2-)的Si原子替换为Ti原子,构建了... 替换SIFSIX类杂化微孔材料的金属位点或有机配体可以合成大量具有不同孔径的化合物,TiF_(6)^(2-)配体对CO_(2)吸附和电荷转移特性的影响机理尚不充分。本研究以此为背景在SIFSIX-3-Zn的基础上将SiF_(6)^(2-)的Si原子替换为Ti原子,构建了TiFSIX-3-Fe和TiFSIX-3-Zn模型,通过DFT分析了TiFSIX-3-M(TiF_(6)^(2-)为离子配体,M为金属位点,M=Fe/Zn)中CO_(2)在孔道内的吸附与电荷转移行为,计算了孔道内的CO_(2)吸附位点、能带结构、吸附能、差分电荷密度、Mulliken电荷分布。研究结果表明:TiFSIX-3-Fe和TiFSIX-3-Zn具有更小的孔道体积,分别为1.26×10^(5)nm^(3)和1.22×10^(5)nm^(3)。Ti原子加入改善了TiFSIX-3-Fe的能带结构,但对TIFSIX-3-Zn影响不明显。Ti构建的两种模型的吸附能最高分别为-0.356 e V和-0.361 eV。差分电荷密度表明电荷从F原子附近向C原子转移,结合Mulliken布居分析得到构型中电荷转移数量分别增大至0.072 e和0.075 e,TiFSIX-3-Fe和TiFSIX-3-Zn的CO_(2)吸附和电荷转移特性显著增强。本工作为开发具有高效CO_(2)捕集能力的杂化微孔材料提供了理论指导。 展开更多
关键词 CO_(2)吸附 ti原子掺杂 电荷转移特性 密度泛函理论
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多孔NiTi记忆合金化学氧化和热氧化表面改性的对比研究 被引量:2
9
作者 孙学通 江鸿杰 +2 位作者 杨萌蕾 关锐峰 张新平 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第8期1539-1542,共4页
研究了多孔NiTi记忆合金在H2O2+HCl溶液中的低温化学氧化过程和500℃的高温热氧化过程。通过对比分析2种表面氧化处理后合金表面氧化膜的形貌、Ni/Ti比及膜层生长动力学曲线,探讨了多孔NiTi合金表面和孔内氧化膜的生长特点。结果表明,利... 研究了多孔NiTi记忆合金在H2O2+HCl溶液中的低温化学氧化过程和500℃的高温热氧化过程。通过对比分析2种表面氧化处理后合金表面氧化膜的形貌、Ni/Ti比及膜层生长动力学曲线,探讨了多孔NiTi合金表面和孔内氧化膜的生长特点。结果表明,利用2种表面氧化技术在合金表面和孔内获得的氧化膜Ni含量均明显低于基体,且合金孔内氧化膜Ni含量低于表面氧化膜;多孔NiTi合金孔内的氧化对于与氧亲和力弱的Ni而言更加困难,孔内氧化膜的生长速率低于表面氧化膜的生长速率。 展开更多
关键词 多孔NIti合金 表面氧化 生长速率 Ni/ti原子
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Friction heat production and atom diffusion behaviors during Mg-Ti rotating friction welding process 被引量:5
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作者 李瑞迪 李京龙 +3 位作者 熊江涛 张赋升 赵科 籍成宗 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2012年第11期2665-2671,共7页
An innovative physical simulation apparatus, including high speed camera, red thermal imaging system, and mechanical quantity sensor, was used to investigate the friction heat generation and atom diffusion behavior du... An innovative physical simulation apparatus, including high speed camera, red thermal imaging system, and mechanical quantity sensor, was used to investigate the friction heat generation and atom diffusion behavior during Mg-Ti friction welding process. The results show that the friction coefficient mainly experiences two steady stages. The first steady stage corresponds to the Coulomb friction with material abrasion. The second steady stage corresponds to the stick friction with fully plastic flow. Moreover, the increasing rates of axial displacement, temperature and friction coefficient are obviously enhanced with the increase of rotation speed and axial pressure. It can also be found that the there exists rapid diffusion phenomenon in the Mg-Ti friction welding system. The large deformation activated diffusion coefficient is about 105 higher than that activated by thermal. 展开更多
关键词 Mg-ti friction welding rotating friction welding heat generation atom diffusion friction coefficient Coulombfriction stick friction
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Ti-IF钢不同退火温度析出行为与织构研究
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作者 张晓燕 冯岩青 《包钢科技》 2016年第4期45-47,91,共4页
研究了Ti-IF无间隙原子钢热轧、冷轧、退火(700、800℃)过程的析出行为与织构。该钢在700℃退火过程中形成的Fe Ti P析出颗粒降低了{111}织构强度,导致r值降低;而800℃退火过程中形成的析出颗粒提高{111}织构强度,强的{111}织构强度增加... 研究了Ti-IF无间隙原子钢热轧、冷轧、退火(700、800℃)过程的析出行为与织构。该钢在700℃退火过程中形成的Fe Ti P析出颗粒降低了{111}织构强度,导致r值降低;而800℃退火过程中形成的析出颗粒提高{111}织构强度,强的{111}织构强度增加r值。700℃退火析出物主要为Fe Ti P,800℃退火析出物主要为Ti4C2S2;由于形成Ti4C2S2析出物,使C在再结晶退火过程中很容易从固溶体中析出而形成{111}织构,促使800℃退火时获得良好的成型性。 展开更多
关键词 ti—IF无间隙原子 析出物 织构 热轧 退火
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Pt/H-TiO2催化剂制备及其甲醇电催化氧化性能 被引量:3
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作者 韩金 周志有 +3 位作者 汪强 吕妙强 陈驰 孙世刚 《电化学》 CAS CSCD 北大核心 2014年第2期110-115,共6页
以四氯化钛为前驱体,采用水热法合成二氧化钛纳米棒(TiO2,白色),在纯H:气氛,将其550oC热处理2h,即得有氧缺陷和T一填隙原子的二氧化钛纳米棒(H—TiO2,灰黑色).将Pt纳米粒子(~1.9nm)负载于此两种二氧化钛纳米棒上,制得P... 以四氯化钛为前驱体,采用水热法合成二氧化钛纳米棒(TiO2,白色),在纯H:气氛,将其550oC热处理2h,即得有氧缺陷和T一填隙原子的二氧化钛纳米棒(H—TiO2,灰黑色).将Pt纳米粒子(~1.9nm)负载于此两种二氧化钛纳米棒上,制得Pt/TiO2和Pt/H—TiO2催化剂.XRD和XPS测试表明,氢处理TiO2晶型没有变化,仍属金红石型,但增加了Ti—OH表面物种.电化学测试表明,H—TiO2载体能够增强氧在Pt表面的吸脱附能力,从而提高其甲醇电催化氧化活性,Pt/H—TiO2电极甲醇氧化峰电流密度为Pt/TiO2电极的1.6倍、Pt/C电极的2.1倍. 展开更多
关键词 铂纳米粒子 tiO2纳米棒 氢处理 甲醇电氧化 氧缺陷 ti3+填隙原子
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过渡层TiAlN的力学性能与微观结构对AlCrSiN涂层宏观力学性能的影响 被引量:3
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作者 李加林 赵学书 +2 位作者 宋宏甲 钟向丽 王金斌 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第2期41-48,共8页
AlCrSiN多元硬质涂层具有优异的力学性能,在刀具领域有广泛应用前景。然而,如何在基底上制备出力学性能优异的AlCrSiN涂层有待进一步研究。基于电弧离子镀技术,在硬质合金基底上沉积了不同Ti/Al原子比的TiAlN过渡层,并在其上沉积了AlCr... AlCrSiN多元硬质涂层具有优异的力学性能,在刀具领域有广泛应用前景。然而,如何在基底上制备出力学性能优异的AlCrSiN涂层有待进一步研究。基于电弧离子镀技术,在硬质合金基底上沉积了不同Ti/Al原子比的TiAlN过渡层,并在其上沉积了AlCrSiN涂层,研究了过渡层TiAlN的微观结构(晶面取向、晶粒尺寸、致密度等)对功能层AlCrSiN力学性能的影响。Ti-Al-N固溶相的择优取向为(200)。随着Ti含量的增加,(200)衍射峰宽化,晶粒细化,致密程度提高,硬度增加。Ti/Al原子比为2.75时,TiAlN晶粒尺寸为9.549nm,其上制备的AlCrSiN硬度值达到3139.6HV,并且涂层与基底间的结合力高达92N。细化(200)取向的TiAlN过渡层晶粒可以有效提高其上AlCrSiN涂层的硬度以及涂层与硬质合金基底的结合力。研究成果对提高功能层AlCrSiN的力学性能及涂层刀具的寿命有一定的指导意义。 展开更多
关键词 ti/Al原子 tiAlN/AlCrSiN涂层 晶粒尺寸 过渡层 结合力
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Density functional theory calculations on single atomic catalysis:Ti-decorated Ti3C2O2 monolayer(MXene)for HCHO oxidation 被引量:3
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作者 Junhui Zhou Guanlan Liua +3 位作者 Quanguo Jiang Weina Zhao Zhimin Ao Taicheng An 《Chinese Journal of Catalysis》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2020年第10期1633-1644,共12页
Formaldehyde(HCHO) is a common indoor pollutant, long-term exposure to HCHO may harm human health. Its efficient removal at mild conditions is still challenging. The catalytic oxidation of HCHO molecules on a single a... Formaldehyde(HCHO) is a common indoor pollutant, long-term exposure to HCHO may harm human health. Its efficient removal at mild conditions is still challenging. The catalytic oxidation of HCHO molecules on a single atomic catalyst, Ti-decorated Ti3C2O2(Ti/Ti3C2O2) monolayer, is investigated by performing the first principles calculations in this work. It demonstrates that Ti atoms can be easily well dispersed at the form of single atom on Ti3C2O2 monolayer without aggregation. For HCHO catalytic oxidation, both Langmuir-Hinshelwood(LH) and Eley-Rideal(ER) mechanisms are considered. The results show that the step of HCHO dissociative adsorption on Ti/Ti3C2O2 with activated O2 can release high energy of 4.05 e V based on the ER mechanism, which can help to overcome the energy barrier(1.04 e V) of the subsequent reaction steps. The charge transfer from *OH group to CO molecule(dissociated from HCHO) not only promotes *OH group activation but also plays an important role in the H2 O generation along the ER mechanism. Therefore, HCHO can be oxidized easily on Ti/Ti3C2O2 monolayer, this work could provide significant guidance to develop effective non-noble metal catalysts for HCHO oxidation and broaden the applications of MXene-based materials. 展开更多
关键词 Formaldehyde oxidation MXene ti/ti3C2O2 monolayer Single atomic catalysts Non-noble metal catalyst
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Effects of sealing process on corrosion resistance and roughness of anodic films of titanium alloy Ti-10V-2Fe-3Al 被引量:2
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作者 刘建华 吴量 +2 位作者 于美 李松梅 吴国龙 《Journal of Central South University》 SCIE EI CAS 2011年第6期1795-1801,共7页
Anodic oxide films of titanium alloy Ti-10V-2Fe-3Al were sealed in calcium acetate solution. The morphology and composition of the sealed films were investigated using scanning electron microscopy (SEM), atomic force ... Anodic oxide films of titanium alloy Ti-10V-2Fe-3Al were sealed in calcium acetate solution. The morphology and composition of the sealed films were investigated using scanning electron microscopy (SEM), atomic force microscope (AFM) and energy dispersive spectroscopy (EDS). The results show that the sealing process makes the anodic oxide films more uniform. Elemental calcium is presented through the whole depth of the anodic oxide films. The roughness of the anodic oxide films is reduced after the sealing process. Electrochemical impedance spectroscopy (EIS) and potentiodynamic polarization were used to study the corrosion behavior of the anodic oxide films. It is revealed that the sealing process improves the corrosion resistance of the anodic oxide film of titanium alloy Ti-10V-2Fe-3Al. 展开更多
关键词 SEALING corrosion resistance ROUGHNESS calcium acetate titanium alloy
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高k金属栅NMOSFET器件阈值电压调控方法
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作者 刘城 王爱记 +2 位作者 刘自瑞 刘建强 毛海央 《微纳电子技术》 北大核心 2019年第1期13-19,25,共8页
实现对器件阈值电压的有效调控是高k金属栅(HKMG)技术面临的一项重要挑战。TiAl薄膜作为n型金属氧化物半导体场效应晶体管(NMOSFET)的功函数层被广泛地应用于HKMG结构中以实现对器件阈值电压的调控。实验采用射频(RF)-直流(DC)磁控溅射... 实现对器件阈值电压的有效调控是高k金属栅(HKMG)技术面临的一项重要挑战。TiAl薄膜作为n型金属氧化物半导体场效应晶体管(NMOSFET)的功函数层被广泛地应用于HKMG结构中以实现对器件阈值电压的调控。实验采用射频(RF)-直流(DC)磁控溅射的方式沉积TiAl薄膜,通过优化直流功率、射频功率和反应压强工艺参数,实现了对薄膜Ti/Al原子比率的调节,提高了Ti/Al原子比率分布均匀度。基于实验结果,采用后栅工艺流程制造HKMG NMOSFET,讨论不同的Ti/Al原子比率和TiAl层厚度对NMOSFET阈值电压的影响。Ti/Al原子比率增大10%,NMOSFET的阈值电压增加12.6%;TiAl层厚度增加2 nm,NMOSFET的阈值电压下降19.5%。这种方法已经被成功应用于HKMG器件的生产。 展开更多
关键词 高k金属栅(HKMG) 功函数层 磁控溅射 ti/Al原子比率 阈值电压 n型金属氧化物半导体场效应晶体管(NMOSFET)
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衬底温度对反应溅射TiN_x薄膜结构与电阻率的影响 被引量:4
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作者 安玉凯 刘雅泉 刘技文 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第2期213-216,共4页
采用反应磁控溅射方法,在不同Si(100)衬底温度下,制备出了TiNx薄膜。通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)对TiNx薄膜的物相、微观结构进行了表征,采用电子能谱仪(EDS)测定了TiNx薄膜的成分,运用四探针测试仪测量了TiNx薄膜的电阻率... 采用反应磁控溅射方法,在不同Si(100)衬底温度下,制备出了TiNx薄膜。通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)对TiNx薄膜的物相、微观结构进行了表征,采用电子能谱仪(EDS)测定了TiNx薄膜的成分,运用四探针测试仪测量了TiNx薄膜的电阻率,研究了衬底温度对溅射TiNx薄膜结构与电阻率的影响。研究结果表明:衬底温度从室温升高到600℃时,随着温度升高,TiNx薄膜的(111)晶面衍射峰逐渐增强,500℃后减弱;(200)晶面衍射峰在300℃时最强,之后减弱。随着衬底温度的升高,TiNx薄膜的晶粒逐渐增大,300℃达最大后减小。随着衬底温度升高,TiNx薄膜的N/Ti原子含量比降低,200℃时降到最低为0.99,随后升高,500℃时最高为1.34,随后再次降低。N/Ti原子含量比与薄膜电阻率呈明显反比变化。 展开更多
关键词 tiNx薄膜 反应磁控溅射 N/ti原子含量比 电阻率
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电弧离子镀CrTiN涂层的结构及耐腐蚀性能 被引量:4
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作者 王其晒 张林 +2 位作者 李伯荣 张宝荣 赵志勇 《金属热处理》 CSCD 北大核心 2021年第8期219-225,共7页
采用电弧离子镀技术在模具钢H13表面沉积Cr_(x)Ti_(1-x)N涂层,系统研究了不同Cr/Ti原子比对CrTiN合金化涂层结构、力学性能以及耐腐蚀性能的影响。结果表明:通过改变分离靶弧流实现CrTiN涂层中Cr/Ti原子比的有效调控,所制备的CrTiN涂层... 采用电弧离子镀技术在模具钢H13表面沉积Cr_(x)Ti_(1-x)N涂层,系统研究了不同Cr/Ti原子比对CrTiN合金化涂层结构、力学性能以及耐腐蚀性能的影响。结果表明:通过改变分离靶弧流实现CrTiN涂层中Cr/Ti原子比的有效调控,所制备的CrTiN涂层主要由面心立方结构(Cr,Ti)N和CrN组成,随着Cr/Ti原子比从1.1增加至1.8,涂层相结构由随机取向向(111)晶面优先生长转变。CrTiN合金化涂层显微硬度较CrN涂层得到明显提升,并随着固溶引起的晶格畸变程度变化而具有一个极大值。通过电化学阻抗谱和动电位极化曲线分析,当Cr/Ti原子比为1.4时,致密的Cr_(0.59)Ti_(0.41)N涂层具有最佳的耐腐蚀性能。 展开更多
关键词 电弧离子镀 Cr/ti原子 力学性能 耐蚀性
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Ti在TiY分子筛骨架中的稳定性研究
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作者 陈然 沈志虹 +2 位作者 齐欣 齐颖 李聃 《分子催化》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第1期7-10,共4页
采用水热法直接合成了含过渡金属Ti的杂原TiY分子筛,并通过X射线衍射仪(XRD)、X射线荧光光谱分析(XRF)、紫外可见漫反射(UV-vis-DRS)和X射线光电子能谱(XPS)对经过超稳和水热处理前后的TiY分子筛进行了表征。结果表明:少量杂原子Ti进入... 采用水热法直接合成了含过渡金属Ti的杂原TiY分子筛,并通过X射线衍射仪(XRD)、X射线荧光光谱分析(XRF)、紫外可见漫反射(UV-vis-DRS)和X射线光电子能谱(XPS)对经过超稳和水热处理前后的TiY分子筛进行了表征。结果表明:少量杂原子Ti进入到分子筛的骨架后,不影响Y分子筛的晶型,水热前后TiY分子筛中的Ti含量基本相同,且水热处理后TiY分子筛中的大部分Ti仍处于分子筛骨架上。说明杂原子Ti在TiY分子筛中具有良好的骨架稳定性。 展开更多
关键词 原子ti tiY分子筛 骨架稳定性
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