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Ti(t)/Co(54nm)/Ti(t)纳米薄膜的制备和磁特性
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作者 封顺珍 郭小方 +3 位作者 顾建军 李耀鹏 徐芹 孙会元 《河北师范大学学报（自然科学版）》 CAS 北大核心 2009年第4期465-467,472,共4页
应用对靶磁控溅射法在玻璃基底上制备了Ti(t)/Co(54 nm)/Ti(t)(t=5,10,15,20,25 nm)纳米薄膜,研究了非磁性Ti层厚度对样品磁特性的影响.实验结果显示,Ti(5 nm)/Co(54 nm)/Ti(5 nm)样品的垂直膜面矫顽力高达159 kA.m-1.研究表明,如此高... 应用对靶磁控溅射法在玻璃基底上制备了Ti(t)/Co(54 nm)/Ti(t)(t=5,10,15,20,25 nm)纳米薄膜,研究了非磁性Ti层厚度对样品磁特性的影响.实验结果显示,Ti(5 nm)/Co(54 nm)/Ti(5 nm)样品的垂直膜面矫顽力高达159 kA.m-1.研究表明,如此高的矫顽力主要源于样品晶粒的磁晶各向异性.另外,非磁性Ti原子的扩散在一定程度上减小了磁性颗粒间的交换相互作用,导致出现大的矫顽力. 展开更多
关键词 薄膜 磁晶各向异性 ti层厚度
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