离子束溅射沉积Ti-Ni薄膜及其电化学性能的研究

利用离子束溅射沉积的方法在不同基片温度条件下制备了不同成分的Ti Ni贮氢薄膜 ,研究了其电化学贮氢性能。结果表明 :用离子束溅射沉积制备的Ti Ni薄膜的结构为非晶态 ,薄膜对基片的附着力较强 ,在冲放电循环 5 0次后仍为非晶态 ;在基片温度为 35 0℃时制备的薄膜的结构为晶态 ,在多次放电循环后呈现非晶化趋势 ;Ti Ni薄膜具有较高的电化学活性 ,晶化薄膜比非晶态薄膜的最大放电容量高 。

Ti-Ni形状记忆合金薄膜的研究进展

综述了Ti-Ni形状记忆合金(SMA)薄膜的制备、特性及应用的研究现状。介绍了影响Ti-Ni SMA薄膜性能的相关因素及磁控溅射和熔体快淬两种Ti-Ni基SMA薄膜的制备方法,论述了Ti-Ni基SMA薄膜在微机电系统中的应用。最后,指出了Ti-Ni SMA薄膜存在的问题及今后的研究方向。

电化学测试系统及Ti-Ni贮氢薄膜的性能

设计了三电极电化学测试系统,采用恒电流法进行充放电循环,过程全部由程序控制.本文介绍了贮氢材料的充放电实验装置原理图及相应的程序控制框图,并采用此装置研究了Ti-Ni薄膜的电化学性能.

共沉积法制造的Ti-Ni薄膜的马氏体相变

韩国材料科学研究院Seong-WoongKim等人评估了共沉积法制造的Ti—Ni薄膜。用先进的多靶溅射装置沉积出Ti-Ni薄膜，Ti板中间夹人薄膜Ni，