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Fabrication of Cr coating on AZ31 magnesium alloy by magnetron sputtering 被引量:1
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作者 吴国松 汪爱英 +3 位作者 丁克俭 徐采云 代伟 徐爱娇 《中国有色金属学会会刊:英文版》 CSCD 2008年第A01期329-333,共5页
Chromium-plating is considered an effective method to improve surface properties of metal materials.Magnetron sputtering was applied to prepare Cr coating on AZ31 magnesium alloy and the influence of bias voltage on p... Chromium-plating is considered an effective method to improve surface properties of metal materials.Magnetron sputtering was applied to prepare Cr coating on AZ31 magnesium alloy and the influence of bias voltage on properties of Cr coating was investigated.The obtained coatings present an(110) preferred texture and have a developed columnar structure.With increasing bias voltage,the surface structure of Cr coating becomes denser.All of the Cr-coated AZ31 have much higher surface microhardness than bare AZ31.The Cr coating deposited on AZ31 at bias voltage of -150 V has a higher corrosion potential than others.The result of the immersion test shows that it decreases the damaged area compared with bare AZ31.The failure of the coated AZ31 is mainly attributed to the existence of through-thickness defects in the coating. 展开更多
关键词 AZ31镁合金 耐蚀性能 单壳焊结构
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Microstructures and properties of aluminum film and its effect on corrosion resistance of AZ31B substrate 被引量:4
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作者 张津 杨栋华 欧信兵 《中国有色金属学会会刊:英文版》 CSCD 2008年第A01期312-317,共6页
Aluminum films with thickness of 8.78-20.82μm were deposited on the AZ31B magnesium alloys by DC magnetron sputtering.The influences of aluminum film on the micro-mechanical properties and corrosion behavior of the m... Aluminum films with thickness of 8.78-20.82μm were deposited on the AZ31B magnesium alloys by DC magnetron sputtering.The influences of aluminum film on the micro-mechanical properties and corrosion behavior of the magnesium alloys were investigated.The morphology of aluminum film was examined by scanning electron microscopy and the microstructure of aluminum film was analyzed by X-ray diffiactometry.Nanoindentation and nanoscratch tests were conducted to investigate their micromechanical properties.Moreover,potentiodynamical polarization test performed in 3.5%NaCl solution was carried out to study their anticorrosion performances.The results show that the surface hardness of AZ31B magnesium alloy with aluminum film is 1.38-2.01 GPa,higher than that of the magnesium alloy substrate.The critical load of Al film/AZ31B substrate is in the range of 0.68-2.77 N. The corrosion current density of AZ31B with aluminum film is 2-3 orders of magnitude less than that of bare AZ31B.And the corrosion potential with aluminum film positively shifts.Thus aluminum film can increase the corrosion resistance of Mg alloys obviously. 展开更多
关键词 AZ31B合金 镁合金 铝箔 强度 性能
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Second phase effect on corrosion of nanostructured Mg-Zn-Ca dual-phase metallic glasses 被引量:1
3
作者 Chang Liu Qing Wang +5 位作者 Bin Han Junhua Luan Ji-Jung Kai Chain-Tsuan Liu Ge Wu Jian Lu 《Journal of Magnesium and Alloys》 SCIE EI CAS CSCD 2021年第5期1561-1570,共10页
Dual-phase metallic glasses(DP-MGs),a special member of the MGs family,often reveal unusual strength and ductility,yet,their corrosion behaviors are not understood.Here,we developed a nanostructured Mg_(57)Zn_(36)Ca_(... Dual-phase metallic glasses(DP-MGs),a special member of the MGs family,often reveal unusual strength and ductility,yet,their corrosion behaviors are not understood.Here,we developed a nanostructured Mg_(57)Zn_(36)Ca_(7)(at.%)DP-MG and uncovered its corrosion mechanism in simulated body fluid(SBF)at the near-atomic scale utilizing transmission electron microscope(TEM)and atom probe tomography(APT).The 10-nm-wide Ca-rich amorphous phases allow oxygen propagation into the DP-MG,resulting in a micrometer thick hydroxides/oxides layer.This dense corrosion layer protects the DP-MG from further corrosion,enabling a corrosion rate that is 77%lower than that of Mg(99.99%purity). 展开更多
关键词 magnesium alloys Metallic glass corrosion Sputtered films TEM APT
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Zr_(55)Al_(10)Ni_(5)Cu_(30)amorphous alloy film prepared by magnetron sputtering method
4
作者 Dong-Mei Mi Sheng-Li Zhu +4 位作者 Yan-Qin Liang Zhao-Yang Li Zhen-Duo Cui Xian-Jin Yang Akihisa Inoue 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2021年第8期2237-2243,共7页
In this work,amorphous Zr_(55)Al_(10)Ni_(5)Cu_(30)alloy thin film was prepared on D36 steel substrate by magnetron sputtering method.The film was characterized by scanning electron microscopy(SEM),X-ray diffraction(XR... In this work,amorphous Zr_(55)Al_(10)Ni_(5)Cu_(30)alloy thin film was prepared on D36 steel substrate by magnetron sputtering method.The film was characterized by scanning electron microscopy(SEM),X-ray diffraction(XRD),atomic force microscopy(AFM),hardness tester and nano indentation.Corrosion behavior of the film was investigated in 3.5%NaCl aqueous solutions by an electrochemical method.At room temperature,the amorphous alloy film was formed completely after sputtering for 5 h.The surface morphology of the amorphous alloy film was uniform and smooth.Formation of the amorphous alloy film improved the microhardness and corrosion resistance of the D36 substrate.The amorphous alloy film(prepared at room temperature for 5 h)exhibited good adhesion strength with the substrate.The as-sputtered sample exhibited a crevice corrosion trend when the sputtering time was too short(1 h)or too long(10 h). 展开更多
关键词 magnetron sputtering Amorphous alloy Thin film corrosion resistance Zr_(55)Al_(10)Ni_(5)Cu_(30)
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电弧离子镀和磁控溅射TiAlN涂层的耐蚀性能 被引量:12
5
作者 潘晓龙 王少鹏 +1 位作者 李争显 赵永庆 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2013年第24期184-186,共3页
分别采用电弧离子镀和磁控溅射工艺在TC4钛合金基材表面制备了TiAlN涂层。利用扫描电镜、能谱仪和XRD分析了两种方法制备TiAlN涂层的表面形貌、表面成分和相结构,并对TiAlN涂层的耐蚀性等进行了分析。结果表明,磁控溅射制备的TiAlN涂层... 分别采用电弧离子镀和磁控溅射工艺在TC4钛合金基材表面制备了TiAlN涂层。利用扫描电镜、能谱仪和XRD分析了两种方法制备TiAlN涂层的表面形貌、表面成分和相结构,并对TiAlN涂层的耐蚀性等进行了分析。结果表明,磁控溅射制备的TiAlN涂层较电弧离子镀的致密、均匀,耐蚀性要好。 展开更多
关键词 TC4钛合金 tialn涂层 电弧离子镀 磁控溅射 耐蚀性
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TC4钛合金表面磁控溅射TiAlN涂层的组织与性能 被引量:14
6
作者 潘晓龙 刘啸锋 王少鹏 《钛工业进展》 CAS 2013年第5期31-34,共4页
采用TiAl合金靶材,在TC4钛合金基材表面以不同磁控溅射工艺沉积制备了TiAlN涂层。利用扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)分别分析了不同工艺制备的TiAlN涂层的表面形貌、表面成分及相结构,并对TiAlN涂层的耐蚀性、耐... 采用TiAl合金靶材,在TC4钛合金基材表面以不同磁控溅射工艺沉积制备了TiAlN涂层。利用扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)分别分析了不同工艺制备的TiAlN涂层的表面形貌、表面成分及相结构,并对TiAlN涂层的耐蚀性、耐磨性等进行了研究。结果表明,采用磁控溅射工艺可在TC4钛合金表面制备出表面相对平整且结构致密的TiAlN涂层;沉积了TiAlN涂层的TC4钛合金试样的表面性能得到了提高,其磨损失重量和TC4钛合金基材相比降低了80%,耐盐雾腐蚀性能达到了保护级9级。 展开更多
关键词 TC4钛合金 tialn涂层 磁控溅射 耐蚀性 耐磨性
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制备工艺参数对AZ31镁合金表面溅射TiAlN薄膜耐腐蚀性能的影响 被引量:1
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作者 黄佳木 陈韦 +1 位作者 彭佳 江四川 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第4期386-390,共5页
采用射频反应磁控溅射法在AZ31镁合金表面沉积了TiAlN薄膜。用场发射扫描电镜、电化学工作站研究分析了薄膜的表面形貌以及电化学性能,研究了铝靶溅射功率、钛靶溅射功率、氮气流量、沉积时间对TiAlN薄膜耐腐蚀性能的影响。结果表明实... 采用射频反应磁控溅射法在AZ31镁合金表面沉积了TiAlN薄膜。用场发射扫描电镜、电化学工作站研究分析了薄膜的表面形貌以及电化学性能,研究了铝靶溅射功率、钛靶溅射功率、氮气流量、沉积时间对TiAlN薄膜耐腐蚀性能的影响。结果表明实验所制备的TiAlN薄膜表面光滑、致密。当Al靶功率为50 W,Ti靶功率为125 W,N2流量为30 mL/min(标准状态),沉积时间为8 h时薄膜耐腐蚀性能最佳。薄膜腐蚀电流密度(4.321×10-7 A/cm2)比镁合金基体(1.066×10-5 A/cm2)降低了1个数量级以上,镁合金耐腐蚀性能得到较大提高。 展开更多
关键词 tialn薄膜 磁控溅射 镁合金 腐蚀
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磁控溅射镀铝AZ31镁合金等离子体电解氧化揭示的放电通道结构及其腐蚀行为
8
作者 胡攀峰 魏兵剑 +1 位作者 程昱琳 程英亮 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第1期139-156,共18页
在硅酸盐-六偏磷酸盐电解液中对覆盖薄磁控溅射铝层的AZ31镁合金进行等离子体电解氧化(PEO),以研究PEO机理并提高合金的耐腐蚀性。使用SEM和EDS检测涂层形貌并追踪涂层中Mg和Al元素的分布。新的涂层主要在靠近涂层/金属基体界面的放电... 在硅酸盐-六偏磷酸盐电解液中对覆盖薄磁控溅射铝层的AZ31镁合金进行等离子体电解氧化(PEO),以研究PEO机理并提高合金的耐腐蚀性。使用SEM和EDS检测涂层形貌并追踪涂层中Mg和Al元素的分布。新的涂层主要在靠近涂层/金属基体界面的放电通道下部形成。在放电通道上部先前形成的氧化物大部分以固态形式保留在原先的位置,只有少部分熔融氧化物通过涂层的微孔流出,到达表层。阴离子可以通过涂层充满电解液的孔传输,自由地进入涂层的最深部位。在3.5%NaCl (质量分数)中进行开路电位、极化曲线和EIS测试。结果表明,致密的磁控溅射Al层可以显着提高AZ31镁合金的耐腐蚀性,其耐腐蚀性甚至优于PEO处理后的样品。 展开更多
关键词 AZ31镁合金 磁控溅射Al层 等离子体电解氧化 放电通道 耐腐蚀性能
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AZ31镁合金表面低偏压磁控溅射TiAlN薄膜的结构与耐蚀耐磨性能 被引量:2
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作者 曹慧 张发 郭玉利 《材料保护》 CAS CSCD 2021年第4期118-122,共5页
针对镁合金不抗蚀、不耐磨2大问题,采用直流磁控溅射的方法,通过对基体施加偏压调控,在AZ31镁合金表面制备了TiAlN薄膜。借助XRD和SEM等方法研究了薄膜的微观结构,通过电化学工作站和销盘式摩擦磨损试验机评估了薄膜的耐腐蚀和耐磨性能... 针对镁合金不抗蚀、不耐磨2大问题,采用直流磁控溅射的方法,通过对基体施加偏压调控,在AZ31镁合金表面制备了TiAlN薄膜。借助XRD和SEM等方法研究了薄膜的微观结构,通过电化学工作站和销盘式摩擦磨损试验机评估了薄膜的耐腐蚀和耐磨性能。结果表明:施加偏压后的镀膜基体结构发生很大变化,薄膜由岛状生长模式转变为层状生长模式,由等轴晶转变为柱状晶结构。当偏压增大到-30 V后的薄膜开始在(111)择优生长,薄膜主要为柱状晶结构。镀膜后基体的腐蚀电位明显提高,腐蚀电流密度下降了2个数量级,表明其具有良好的耐蚀性能,-30 V偏压的薄膜的耐腐蚀性能最佳。薄膜的摩擦系数在0.19~0.30范围,磨损率在10-6 mm^(3)/(N·m)数量级,薄膜的摩擦系数和磨损率从小到大对应的偏压依次为-30 V<-15 V<-45 V<0 V。 展开更多
关键词 AZ31镁合金 低偏压调控 tialn薄膜 磁控溅射 结构 性能
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沉积工艺对磁控溅射TiAlN薄膜微观形貌及性能的影响 被引量:4
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作者 刘安强 袁建鹏 谢建刚 《热喷涂技术》 2021年第1期33-42,21,共11页
采用非平衡磁控溅射技术在Q235钢基体上制备了TiAlN薄膜,研究了沉积工艺参数对薄膜微观形貌、力学性能及耐腐蚀性能的影响规律,通过扫描电镜、纳米力学探针、划痕测试仪对薄膜的微观形貌和力学性能进行表征,并利用盐雾试验和电化学极化... 采用非平衡磁控溅射技术在Q235钢基体上制备了TiAlN薄膜,研究了沉积工艺参数对薄膜微观形貌、力学性能及耐腐蚀性能的影响规律,通过扫描电镜、纳米力学探针、划痕测试仪对薄膜的微观形貌和力学性能进行表征,并利用盐雾试验和电化学极化测试研究了薄膜在含Cl-环境中的腐蚀行为。结果表明,随着N_(2)流量的升高,TiAlN薄膜的硬度和结合力先升高后降低,当N_(2)流量为10sccm时,薄膜具有最高的硬度和结合力,分别为30.7GPa和44.2N,其耐腐蚀性能最优。随着Al靶功率的增加,薄膜的硬度和结合力先增大后减小,当Al靶功率为90W时,薄膜的硬度和结合力达到了最大值,分别为28.6GPa和38.4N,具有最佳的抗腐蚀性能。随着基体温度的升高,薄膜的硬度和结合力逐渐增大,基体温度低于300℃时,增大幅度较明显,基体温度高于300℃时,二者增加幅度趋于平缓,薄膜表现出优异的耐腐蚀性能。 展开更多
关键词 磁控溅射 tialn薄膜 工艺参数 显微组织 耐腐蚀性
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AZ31镁合金微弧氧化-磁控溅射镀钽复合膜的制备及耐蚀性 被引量:1
11
作者 万梓璇 刘平 姜涛 《广州化学》 CAS 2023年第4期47-52,共6页
在AZ31镁合金表面制备了含P、Sr、F、Ca等元素的微弧氧化膜层,再利用磁控溅射技术对膜层进行后处理,实现了钽纳米薄膜的均匀沉积,对微弧氧化涂层微孔和微裂纹形成有效封闭;利用SEM、EDS、XRD等手段分析膜层微观形貌、元素组成;并通过电... 在AZ31镁合金表面制备了含P、Sr、F、Ca等元素的微弧氧化膜层,再利用磁控溅射技术对膜层进行后处理,实现了钽纳米薄膜的均匀沉积,对微弧氧化涂层微孔和微裂纹形成有效封闭;利用SEM、EDS、XRD等手段分析膜层微观形貌、元素组成;并通过电化学测试和浸泡实验测试复合膜层的耐腐性能。结果表明:钽薄膜改善了微弧氧化膜表面结构,弥补了微弧氧化的不足。复合膜层的腐蚀电流密度相比AZ31基底至少降低了7个数量级,比微弧氧化涂层降低了5个数量级,腐蚀电压也有相应的提高。 展开更多
关键词 AZ31镁合金 微弧氧化 磁控溅射 腐蚀防护 复合膜
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镁合金微弧氧化膜上不同功率磁控溅射制得复合膜的摩擦学性能研究
12
作者 安凌云 常成功 +4 位作者 岳峥 王钊 康迪菘 赵迎杰 孟雷超 《材料保护》 CAS CSCD 2023年第3期20-27,40,共9页
为进一步改善镁合金微弧氧化膜的摩擦学性能,在该微弧氧化膜上,采用磁控溅射技术,在不同功率下沉积碳膜,制备碳含量不同的微弧氧化/磁控溅射复合膜。利用拉曼光谱仪检测膜层中碳结构,采用扫描电镜(SEM)和能谱(EDS)考察膜层摩擦磨损前后... 为进一步改善镁合金微弧氧化膜的摩擦学性能,在该微弧氧化膜上,采用磁控溅射技术,在不同功率下沉积碳膜,制备碳含量不同的微弧氧化/磁控溅射复合膜。利用拉曼光谱仪检测膜层中碳结构,采用扫描电镜(SEM)和能谱(EDS)考察膜层摩擦磨损前后微观形貌、元素组成、分布及含量;应用球-盘摩擦试验机研究膜层摩擦学性能。结果表明:利用磁控溅射技术在镁合金微弧氧化膜表面沉积的碳膜,部分地封闭了微弧氧化膜微孔,减小了微孔孔径和微孔数量,降低了膜层表面粗糙度。复合膜在摩擦磨损过程中,摩擦系数较小,磨痕较窄且浅,磨损率较低,呈现出较优异的摩擦学性能。功率对微弧氧化/磁控溅射复合膜具有明显的影响,高溅射功率下制备的复合膜,由于拥有更光滑的表面,更多地具有自润滑特性的碳,摩擦系数更小,磨痕更窄且浅,磨损率更低,摩擦学性能更为优异,尤其是在高载荷下,可对基体提供更显著的保护。 展开更多
关键词 镁合金 微弧氧化 磁控溅射 碳膜 溅射功率 摩擦学性能
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镁合金表面溅射沉积M-TaC多层涂层的微观结构与性能
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作者 胡旭军 张海波 +2 位作者 李海洋 李文元 丁泽良 《包装学报》 2023年第5期23-30,共8页
采用磁控溅射技术在ZK60镁合金表面制备了M-TaC多层涂层,并以TaC单层涂层作为对照,研究了涂层的微观结构、结合性能和耐腐蚀性能。结果表明,涂层呈多孔柱状结构和亲水性,能显著提高ZK60镁合金的耐腐蚀性能。相比于TaC单层涂层,M-TaC多... 采用磁控溅射技术在ZK60镁合金表面制备了M-TaC多层涂层,并以TaC单层涂层作为对照,研究了涂层的微观结构、结合性能和耐腐蚀性能。结果表明,涂层呈多孔柱状结构和亲水性,能显著提高ZK60镁合金的耐腐蚀性能。相比于TaC单层涂层,M-TaC多层涂层的表面粗糙度增大,亲水性减弱,结合力提高(约60%),耐腐蚀性能增强(腐蚀电流密度减小2.382μA/cm^(2))。 展开更多
关键词 镁合金 溅射沉积 TAC 多层涂层 结合性能 耐腐蚀性能
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制备工艺参数对镁合金表面沉积TiCN薄膜耐蚀性的影响 被引量:6
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作者 张兴元 江四川 +2 位作者 杨辉 张义豪 黄佳木 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第18期115-117,共3页
采用射频磁控溅射法在AZ31镁合金表面沉积TiCN薄膜,研究了制备工艺参数对TiCN薄膜耐腐蚀性能的影响。结果表明,在Ti靶功率50W,C靶功率50W,N2流量20sccm,溅射时间4.5h条件下,镀TiCN薄膜的镁合金基体具有最佳的耐蚀性,其在3.5%(质量分数)N... 采用射频磁控溅射法在AZ31镁合金表面沉积TiCN薄膜,研究了制备工艺参数对TiCN薄膜耐腐蚀性能的影响。结果表明,在Ti靶功率50W,C靶功率50W,N2流量20sccm,溅射时间4.5h条件下,镀TiCN薄膜的镁合金基体具有最佳的耐蚀性,其在3.5%(质量分数)NaCl溶液中的腐蚀电流密度为1.664×10-6 A/cm2,比同等条件下纯镁合金基体的腐蚀电流密度(1.785×10-5 A/cm2)下降了1个数量级。 展开更多
关键词 磁控溅射 镁合金 TiCN薄膜 耐腐蚀性
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磁控溅射镀钛提高AZ31镁合金耐磨耐蚀性能的研究 被引量:9
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作者 李忠厚 郭腾腾 +2 位作者 宫学博 马芹芹 杨迪 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第6期121-124,共4页
目的提高AZ31镁合金的耐磨及耐腐蚀性能。方法采用磁控溅射技术对镁合金进行表面镀钛处理,用扫描电镜研究膜基界面形貌及界面成分,分析结合性能。通过摩擦磨损试验,对比分析镁合金基体和镀Ti膜样品的耐磨性能;通过Tafel极化曲线,对比分... 目的提高AZ31镁合金的耐磨及耐腐蚀性能。方法采用磁控溅射技术对镁合金进行表面镀钛处理,用扫描电镜研究膜基界面形貌及界面成分,分析结合性能。通过摩擦磨损试验,对比分析镁合金基体和镀Ti膜样品的耐磨性能;通过Tafel极化曲线,对比分析镁合金基体和镀Ti膜样品的耐蚀性能。结果 Ti膜均匀致密,与镁合金基体结合良好。镁合金镀Ti膜后,摩擦系数和磨损失重率下降,腐蚀电位向正方向移动了430 m V,腐蚀电流密度从10.83 m A/cm2下降到2.62×10-7m A/cm2。结论磁控溅射镀Ti膜提高了AZ31镁合金的耐磨和耐蚀性能。 展开更多
关键词 AZ31镁合金 磁控溅射 镀钛 耐磨性 耐蚀性
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镁合金表面Ni+C涂层的耐腐蚀与耐磨性能研究 被引量:9
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作者 冯凯 李铸国 张超 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第3期28-33,共6页
目的提高镁合金表面的耐腐蚀和耐磨损性能。方法采用非平衡磁控溅射离子镀技术与化学镀技术相结合,在GW83镁合金表面制备Ni+C复合膜层。通过扫描电子显微镜和拉曼光谱分析了薄膜的形貌、成分和结构。利用电化学和浸泡后ICP-AES测试,评... 目的提高镁合金表面的耐腐蚀和耐磨损性能。方法采用非平衡磁控溅射离子镀技术与化学镀技术相结合,在GW83镁合金表面制备Ni+C复合膜层。通过扫描电子显微镜和拉曼光谱分析了薄膜的形貌、成分和结构。利用电化学和浸泡后ICP-AES测试,评价了该复合碳膜涂层的耐腐蚀性能。同时采用摩擦磨损试验获得Ni+C复合膜层的磨损寿命。结果 Ni+C复合膜层致密均匀,表面孔隙率极低,表面碳层为典型的类石墨膜并且含有大量的无序结构。相对于GW83镁合金来说,Ni+C复合膜层的存在导致在3.5%Na Cl溶液中的腐蚀电位正移了301 m V,腐蚀电流密度从186μA/cm2降低至11μA/cm2。浸渍后ICP-AES试验显示,Ni+C涂覆的镁合金GW83的金属离子释放量更低。摩擦磨损试验表明,Ni+C涂层的磨损寿命为7000 s,与镁合金基体相比,Ni+C复合涂层极大地提高了其磨损寿命。结论在该Ni+C复合膜层中,表面碳层较致密,与Ni层结合良好,显著提高了基体的耐腐蚀性能。此外由于存在较厚的Ni中间层,对膜层起到了较大的支撑作用,Ni+C复合膜层从而延长了基体镁合金的磨损寿命。 展开更多
关键词 镁合金 磁控溅射 C膜 Ni镀层 耐腐蚀性 耐磨性
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Mg-3Sn合金表面高导热耐腐蚀SiC_x涂层研究 被引量:4
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作者 刘霞 陈云贵 +5 位作者 肖素芬 唐永柏 丁武成 王春明 何代澄 唐永清 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第10期1480-1483,共4页
高导热耐腐蚀涂层在轻质镁合金散热器件中的应用具有重要的意义。研究了Mg-3Sn合金表面磁控溅射SiC薄膜的组织结构、导热及耐腐蚀性能。结果表明,Mg-3Sn镁合金表面磁控溅射SiCx薄膜为非晶态。相对于经盐雾实验后的Mg-3Sn合金基体,在25和... 高导热耐腐蚀涂层在轻质镁合金散热器件中的应用具有重要的意义。研究了Mg-3Sn合金表面磁控溅射SiC薄膜的组织结构、导热及耐腐蚀性能。结果表明,Mg-3Sn镁合金表面磁控溅射SiCx薄膜为非晶态。相对于经盐雾实验后的Mg-3Sn合金基体,在25和100℃条件下,经SiCx涂覆的Mg-3Sn材料腐蚀后的热导率分别提高23和16W/(m.K),且具有良好的耐腐蚀性能。 展开更多
关键词 镁合金 磁控溅射 碳化硅涂层 导热 腐蚀
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磁控溅射TiAlVN薄膜中V含量对其结构和抗腐蚀性能的影响 被引量:11
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作者 宋庆功 辛慧 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2011年第2期61-63,9,共3页
向TiAlN薄膜中添加V可改善薄膜性能。采用磁控溅射技术沉积了不同V含量的TiAlVN薄膜,通过能谱仪、台阶仪、X射线衍射仪(XRD)和原子力显微镜(AFM)分析薄膜的成分、厚度、相结构和表面形貌,用动电位极化的方法研究薄膜的抗腐蚀性能。结果... 向TiAlN薄膜中添加V可改善薄膜性能。采用磁控溅射技术沉积了不同V含量的TiAlVN薄膜,通过能谱仪、台阶仪、X射线衍射仪(XRD)和原子力显微镜(AFM)分析薄膜的成分、厚度、相结构和表面形貌,用动电位极化的方法研究薄膜的抗腐蚀性能。结果表明:TiAlVN薄膜属于面心立方(fcc)和六方密排(hcp)二重结构,晶格常量比TiAlN薄膜小,晶粒尺寸比TiAlN薄膜大,含V10.20%的TiAlVN薄膜质量相对较好;TiAlVN薄膜的腐蚀电流明显小于TiAlN薄膜,抗腐蚀性能增强,含V 10.20%的TiAlVN薄膜的抗腐蚀性能约为TiAlN薄膜的4倍。 展开更多
关键词 磁控溅射 TiAlVN薄膜 tialn薄膜 抗腐蚀性能
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从工艺参数角度探讨AZ系镁合金表面磁控溅射单层铝及氧化铝膜的耐腐蚀和耐磨损性能 被引量:4
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作者 高正源 胡琳盛 +2 位作者 刘浪 任毅 李辉君 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第1期90-96,共7页
AZ系镁合金在工业领域具有广阔的应用前景,但其耐腐蚀性能和耐磨损性能差阻碍了其发展。绿色环保的磁控溅射表面涂覆技术是防止镁合金腐蚀和磨损的方法之一。简要地介绍了磁控溅射镀膜技术的原理及特点,评述了当今磁控溅射的重要发展。... AZ系镁合金在工业领域具有广阔的应用前景,但其耐腐蚀性能和耐磨损性能差阻碍了其发展。绿色环保的磁控溅射表面涂覆技术是防止镁合金腐蚀和磨损的方法之一。简要地介绍了磁控溅射镀膜技术的原理及特点,评述了当今磁控溅射的重要发展。结合近几年的实验研究,回顾和总结了溅射沉积薄膜技术的发展历程和应用现状,重点分析了溅射工艺参数对薄膜耐腐蚀和耐磨损性能的影响。最后,展望了磁控溅射技术未来的发展趋势。 展开更多
关键词 镁合金 磁控溅射 铝及氧化铝膜 耐腐蚀/耐磨损性能
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AZ31镁合金表面磁控溅射Zr(Al,Ti)-SiN_X复合薄膜及其耐蚀性能 被引量:2
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作者 黄佳木 罗先盛 +1 位作者 邹阳 孟曦 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2010年第1期1-4,共4页
镁合金表面沉积薄膜可以提高其耐蚀性,但现有的几种沉积方法得到的膜疏松、与基体结合力差,影响了其耐腐蚀性能。为此,采用磁控溅射法在AZ31镁合金表面制备了Al,Zr,Ti膜及其与SiNx的复合薄膜。用扫描电镜、X射线衍射、XPS研究了金属膜... 镁合金表面沉积薄膜可以提高其耐蚀性,但现有的几种沉积方法得到的膜疏松、与基体结合力差,影响了其耐腐蚀性能。为此,采用磁控溅射法在AZ31镁合金表面制备了Al,Zr,Ti膜及其与SiNx的复合薄膜。用扫描电镜、X射线衍射、XPS研究了金属膜及其与SiNiX复合薄膜的晶体结构、表面形貌和化学成分。结果表明:所制备的SiNx薄膜为非晶态的富N膜;Zr膜的耐腐蚀性最好,Al膜的保护性最差;Zr-SiNx复合薄膜比AZ31镁合金的腐蚀电流密度降低了3个数量级,Ti-SiNx复合薄膜在阳极极化区出现了钝化。SiNX复合薄膜的耐腐蚀性优于AZ31镁合金和单一金属膜。 展开更多
关键词 磁控溅射 金属膜 复合薄膜 镁合金 腐蚀
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