烷/炔气低温沉积TiC黑膜的研究

研究输入 C2 H2 +C3H8+Ar+N2 混合气的低温沉积 Ti C涂层真空阴极电弧离子镀技术 ,研究结果表明 :Ti C涂层层深 0 .0 0 5～ 0 .0 0 2 5 m m,涂层硬度 2 80 0～ 35 0 0 Hv0 .0 2 ,主要用于材料表面工程中耐磨。

柱弧离子镀制备Ti/TiN/Ti(N,C)/TiC黑色硬质膜

利用自制的柱弧离子镀膜机,在不同硬度基体上制备了Ti/TiN/Ti(N,C)/TiC多层复合膜。膜呈深黑色,反射率小于14%,亮度值L*小于43,沉积速率约为0.78μm/h,表面分布较多液滴缺陷。膜的力学性能测试受基体硬度和膜层厚度影响较大,基体越硬、膜层越厚,膜的硬度以及与基体的结合力测试结果越大。YW2硬质合金基体上制备0.82μm的黑色硬质膜显微硬度Hv(25g)=3229,结合力为26.70 N。该设备和工艺已成功应用于工业生产。