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磁控溅射TiC/a-C薄膜的结构和摩擦学性能研究
被引量:
5
1
作者
张文艳
张旭海
+1 位作者
方峰
蒋建清
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第3期282-286,共5页
采用磁控溅射法制备不同碳含量的碳化钛薄膜。采用SEM、XRD及HR-TEM等手段分析了TiC/a-C薄膜的微观组织结构,采用摩擦磨损仪和台阶仪研究了薄膜的摩擦学性能。研究结果表明,碳含量在40%~74%时,随碳含量的增加,薄膜结构由疏松变得致密,(...
采用磁控溅射法制备不同碳含量的碳化钛薄膜。采用SEM、XRD及HR-TEM等手段分析了TiC/a-C薄膜的微观组织结构,采用摩擦磨损仪和台阶仪研究了薄膜的摩擦学性能。研究结果表明,碳含量在40%~74%时,随碳含量的增加,薄膜结构由疏松变得致密,(111)择优取向逐渐转变为无明显择优取向生长。当碳含量为60%时,薄膜结构为TiC晶粒镶嵌在非晶碳基体中的纳米复合结构,此时薄膜的机械性能及耐磨性最佳。磨损机制主要为粘着磨损和磨粒磨损,通过调节薄膜中非晶碳的含量及晶粒大小并增加薄膜的硬度可改善其摩擦学性能。
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关键词
tic/a-c薄膜
磁控溅射
碳含量
微结构
摩擦性能
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职称材料
非平衡磁控溅射沉积TiC/a-C多层膜的组织结构
被引量:
3
2
作者
肖晓玲
洪瑞江
+2 位作者
林松盛
李洪武
侯惠君
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2008年第5期684-687,672,共5页
本文采用非平衡磁控溅射沉积技术,分别以石墨和甲烷气体为碳源,制备TiC/a-C多层膜。利用X-射线衍射仪、透射电子显微镜、俄歇电子能谱仪和拉曼光谱仪等实验手段对所沉积的TiC/a-C多层膜的组织形态、结构及成份进行了分析。结果表明:所...
本文采用非平衡磁控溅射沉积技术,分别以石墨和甲烷气体为碳源,制备TiC/a-C多层膜。利用X-射线衍射仪、透射电子显微镜、俄歇电子能谱仪和拉曼光谱仪等实验手段对所沉积的TiC/a-C多层膜的组织形态、结构及成份进行了分析。结果表明:所制备的两种TiC/a-C薄膜中,TiC的晶粒呈柱状生长;用溅射石墨靶方法获得的TiC/a-C薄膜,无明显的层状结构,a-C相为石墨化和非石墨化的碳原子构成,碳原子的有序化程度较大;而采用甲烷气体为碳源沉积的TiC/a-C薄膜,呈规则的分层结构,碳原子的有序化程度低。采用过渡层及添加适当的金属元素能改善膜/基的结合强度。
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关键词
tic/a-c薄膜
非平衡磁控溅射
组织形态
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职称材料
题名
磁控溅射TiC/a-C薄膜的结构和摩擦学性能研究
被引量:
5
1
作者
张文艳
张旭海
方峰
蒋建清
机构
东南大学江苏省先进金属材料高技术重点实验室
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第3期282-286,共5页
基金
国家973计划资助项目(No.2007CB616903)
张家港市科技攻关项目(No.2JG200609)
文摘
采用磁控溅射法制备不同碳含量的碳化钛薄膜。采用SEM、XRD及HR-TEM等手段分析了TiC/a-C薄膜的微观组织结构,采用摩擦磨损仪和台阶仪研究了薄膜的摩擦学性能。研究结果表明,碳含量在40%~74%时,随碳含量的增加,薄膜结构由疏松变得致密,(111)择优取向逐渐转变为无明显择优取向生长。当碳含量为60%时,薄膜结构为TiC晶粒镶嵌在非晶碳基体中的纳米复合结构,此时薄膜的机械性能及耐磨性最佳。磨损机制主要为粘着磨损和磨粒磨损,通过调节薄膜中非晶碳的含量及晶粒大小并增加薄膜的硬度可改善其摩擦学性能。
关键词
tic/a-c薄膜
磁控溅射
碳含量
微结构
摩擦性能
Keywords
tic/
a-c
films, Magnetron sputtering, C content, Microstructure, Tribological properties
分类号
TB43 [一般工业技术]
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职称材料
题名
非平衡磁控溅射沉积TiC/a-C多层膜的组织结构
被引量:
3
2
作者
肖晓玲
洪瑞江
林松盛
李洪武
侯惠君
机构
广州有色金属研究院
出处
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2008年第5期684-687,672,共5页
基金
广东省自然科学基金资助项目(06026151A)
文摘
本文采用非平衡磁控溅射沉积技术,分别以石墨和甲烷气体为碳源,制备TiC/a-C多层膜。利用X-射线衍射仪、透射电子显微镜、俄歇电子能谱仪和拉曼光谱仪等实验手段对所沉积的TiC/a-C多层膜的组织形态、结构及成份进行了分析。结果表明:所制备的两种TiC/a-C薄膜中,TiC的晶粒呈柱状生长;用溅射石墨靶方法获得的TiC/a-C薄膜,无明显的层状结构,a-C相为石墨化和非石墨化的碳原子构成,碳原子的有序化程度较大;而采用甲烷气体为碳源沉积的TiC/a-C薄膜,呈规则的分层结构,碳原子的有序化程度低。采用过渡层及添加适当的金属元素能改善膜/基的结合强度。
关键词
tic/a-c薄膜
非平衡磁控溅射
组织形态
Keywords
tic/
a-c
thin film
unbalanced magnetron sputtering
microstructure
分类号
O484.5 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
磁控溅射TiC/a-C薄膜的结构和摩擦学性能研究
张文艳
张旭海
方峰
蒋建清
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009
5
下载PDF
职称材料
2
非平衡磁控溅射沉积TiC/a-C多层膜的组织结构
肖晓玲
洪瑞江
林松盛
李洪武
侯惠君
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2008
3
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职称材料
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