热等静压处理对U/Al镀层界面特性的影响

采用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线结构衍射仪(XRD)及拉伸实验等方法,研究了铀(U)上磁控溅射A l镀层在480℃,2小时,60 MPa条件下热等静压(H IP)处理对界面特性以及膜基结合强度的影响.结果表明:经H IP处理后,镀层密度达到了其理论密度;镀层由柱状晶转变为致密的层状结构,在界面处A l、U元素形成了互扩散,并生成了金属间化合物UA l2和UA l3;膜基结合形成了冶金结合,结合强度有所增强.