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UHV/CVD外延生长锗硅碳三元合金中碳的应变缓解效应
被引量:
2
1
作者
叶志镇
章国强
+5 位作者
亓震
黄靖云
卢焕明
赵炳辉
汪雷
袁骏
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000年第3期239-244,共6页
碳的加入为 Si- Ge系统在能带和应变工程上提供了更大的灵活性 .处于替代位置的碳可以缓解 Si Ge合金的应变 ,同时调节其能带 .报道了用 UHV/CVD生长的掺碳达 2 .2 %的锗硅碳合金 ,获得了良好的外延层质量 ,应变缓解效应明显 .使用了 X...
碳的加入为 Si- Ge系统在能带和应变工程上提供了更大的灵活性 .处于替代位置的碳可以缓解 Si Ge合金的应变 ,同时调节其能带 .报道了用 UHV/CVD生长的掺碳达 2 .2 %的锗硅碳合金 ,获得了良好的外延层质量 ,应变缓解效应明显 .使用了 X射线衍射 ( XRD) ,二次离子质谱( SIMS)与高分辨电子透射显微镜 ( HRTEM)对外延层进行检测 ;使用傅里叶红外吸收光谱( FTIR)确定碳原子处于替代位置 。
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关键词
锗硅碳合金
碳
外延生长
应变缓解效应
下载PDF
职称材料
题名
UHV/CVD外延生长锗硅碳三元合金中碳的应变缓解效应
被引量:
2
1
作者
叶志镇
章国强
亓震
黄靖云
卢焕明
赵炳辉
汪雷
袁骏
机构
浙江大学硅材料国家重点实验室
出处
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000年第3期239-244,共6页
基金
国家自然科学基金重大项目 !( 69890 2 3 0 )
国家自然科学基金!( 696860 0 2 )
文摘
碳的加入为 Si- Ge系统在能带和应变工程上提供了更大的灵活性 .处于替代位置的碳可以缓解 Si Ge合金的应变 ,同时调节其能带 .报道了用 UHV/CVD生长的掺碳达 2 .2 %的锗硅碳合金 ,获得了良好的外延层质量 ,应变缓解效应明显 .使用了 X射线衍射 ( XRD) ,二次离子质谱( SIMS)与高分辨电子透射显微镜 ( HRTEM)对外延层进行检测 ;使用傅里叶红外吸收光谱( FTIR)确定碳原子处于替代位置 。
关键词
锗硅碳合金
碳
外延生长
应变缓解效应
Keywords
uhv/cvd
,
gesic
,
strain compensation
,
epitaxy
分类号
TN304.055 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
UHV/CVD外延生长锗硅碳三元合金中碳的应变缓解效应
叶志镇
章国强
亓震
黄靖云
卢焕明
赵炳辉
汪雷
袁骏
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000
2
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