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UHV/CVD外延生长锗硅碳三元合金中碳的应变缓解效应 被引量:2
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作者 叶志镇 章国强 +5 位作者 亓震 黄靖云 卢焕明 赵炳辉 汪雷 袁骏 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第3期239-244,共6页
碳的加入为 Si- Ge系统在能带和应变工程上提供了更大的灵活性 .处于替代位置的碳可以缓解 Si Ge合金的应变 ,同时调节其能带 .报道了用 UHV/CVD生长的掺碳达 2 .2 %的锗硅碳合金 ,获得了良好的外延层质量 ,应变缓解效应明显 .使用了 X... 碳的加入为 Si- Ge系统在能带和应变工程上提供了更大的灵活性 .处于替代位置的碳可以缓解 Si Ge合金的应变 ,同时调节其能带 .报道了用 UHV/CVD生长的掺碳达 2 .2 %的锗硅碳合金 ,获得了良好的外延层质量 ,应变缓解效应明显 .使用了 X射线衍射 ( XRD) ,二次离子质谱( SIMS)与高分辨电子透射显微镜 ( HRTEM)对外延层进行检测 ;使用傅里叶红外吸收光谱( FTIR)确定碳原子处于替代位置 。 展开更多
关键词 锗硅碳合金 外延生长 应变缓解效应
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