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63.5mmX127mm英寸UT 1X光刻版的设计及制造
被引量:
1
1
作者
粟鹏义
陈开盛
曹庄琪
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第6期30-32,35,共4页
提出一种新的UT1X光刻版规格63.5mm×127mm,与原来的76.2mm×127mm的UT1X光刻版适用于同一种UltraTech步进光刻机。相应的光刻版数据处理以及夹具进行了调整。新规格的光刻版将127mm×127mm的基材的产出提高了一倍,加快了...
提出一种新的UT1X光刻版规格63.5mm×127mm,与原来的76.2mm×127mm的UT1X光刻版适用于同一种UltraTech步进光刻机。相应的光刻版数据处理以及夹具进行了调整。新规格的光刻版将127mm×127mm的基材的产出提高了一倍,加快了光刻版的生产速度,同时减少了废弃物的产生,有利于降低成本和环境保护。
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关键词
光刻版
UltraTech
数据处理
ut1x
下载PDF
职称材料
题名
63.5mmX127mm英寸UT 1X光刻版的设计及制造
被引量:
1
1
作者
粟鹏义
陈开盛
曹庄琪
机构
上海光刻电子科技有限公司
上海交通大学
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第6期30-32,35,共4页
文摘
提出一种新的UT1X光刻版规格63.5mm×127mm,与原来的76.2mm×127mm的UT1X光刻版适用于同一种UltraTech步进光刻机。相应的光刻版数据处理以及夹具进行了调整。新规格的光刻版将127mm×127mm的基材的产出提高了一倍,加快了光刻版的生产速度,同时减少了废弃物的产生,有利于降低成本和环境保护。
关键词
光刻版
UltraTech
数据处理
ut1x
Keywords
UltraTech
data handling
photomask
lithography
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
63.5mmX127mm英寸UT 1X光刻版的设计及制造
粟鹏义
陈开盛
曹庄琪
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2004
1
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职称材料
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