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Fabrication of superconducting NbN meander nanowires by nano-imprint lithography 被引量:1
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作者 杨美 刘丽华 +5 位作者 宁鲁慧 金贻荣 邓辉 李洁 李阳 郑东宁 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第1期384-389,共6页
Superconducting nanowire single photon detector (SNSPD), as a new type of superconducting single photon detector (SPD), has a broad application prospect in quantum communication and other fields. In order to prepa... Superconducting nanowire single photon detector (SNSPD), as a new type of superconducting single photon detector (SPD), has a broad application prospect in quantum communication and other fields. In order to prepare SNSPD with high performance, it is necessary to fabricate a large area of uniform meander nanowires, which is the core of the SNSPD. In this paper, we demonstrate a process of patterning ultra-thin NbN films into meander-type nanowires by using the nano- imprint technology. In this process, a combination of hot embossing nano-imprint lithography (HE-NIL) and ultraviolet nano-imprint lithography (UV-NIL) is used to transfer the meander nanowire structure from the NIL Si hard mold to the NbN film. We have successfully obtained a NbN nanowire device with uniform line width. The critical temperature (Tc) of the superconducting NbN meander nanowires is about 5 K and the critical current (lc) is about 3.5 μA at 2.5 K. 展开更多
关键词 nano-imprint lithography meander nanowires ultra-thin NbN films
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UV-LIGA技术制作微型螺旋形加速度开关 被引量:14
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作者 黄新龙 熊瑛 +2 位作者 陈光焱 田扬超 刘刚 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第5期1152-1158,共7页
微型加速度开关是用于空间飞行体中感受加速度并完成致动的重要惯性器件。本文采用UV-LIGA技术,结合SU-8厚胶工艺、微电铸工艺以及牺牲层技术,制作了微型螺旋形加速度开关。研究了牺牲层工艺、SU-8光刻技术以及螺旋形弹簧形变控制等微... 微型加速度开关是用于空间飞行体中感受加速度并完成致动的重要惯性器件。本文采用UV-LIGA技术,结合SU-8厚胶工艺、微电铸工艺以及牺牲层技术,制作了微型螺旋形加速度开关。研究了牺牲层工艺、SU-8光刻技术以及螺旋形弹簧形变控制等微细加工的工艺细节;分析了多种牺牲层材料的特性,优选了与工艺相适应的Zn牺牲层体系,解决了微结构易脱落的工艺问题。通过优化微电铸工艺来减小金属膜层的内应力,优化牺牲层释放工艺来避免腐蚀过程对弹簧膜结构的冲击。实验结果表明,通过工艺优化可得到平整的微型螺旋形弹簧—质量块结构,螺旋弹簧厚度为20μm,质量块厚度达200μm,本文的工作可为大批量、低成本地研制微型加速度开关提供工艺基础。 展开更多
关键词 uv-LIGA SU-8光刻 加速度触发开关 牺牲层技术
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微模具重复利用的高深宽比铜微结构微电铸复制技术
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作者 苏少雄 孙云娜 +3 位作者 宋嘉诚 吴永进 姚锦元 丁桂甫 《微纳电子技术》 CAS 2024年第4期162-169,共8页
针对紫外线光刻、电铸成型和注塑(UV-LIGA)工艺的去胶难题,提出了一种以脱模代替去胶的改良工艺,用于批量制造高深宽比铜微结构。该工艺以可重复利用的硅橡胶软模具代替传统的SU-8光刻微模具,采用硅通孔(TSV)镀铜技术进行微电铸填充,然... 针对紫外线光刻、电铸成型和注塑(UV-LIGA)工艺的去胶难题,提出了一种以脱模代替去胶的改良工艺,用于批量制造高深宽比铜微结构。该工艺以可重复利用的硅橡胶软模具代替传统的SU-8光刻微模具,采用硅通孔(TSV)镀铜技术进行微电铸填充,然后通过直接脱模实现金属微结构的完全释放,既解决了去胶难题,又能够解决高深宽比微模具电铸因侧壁金属化导致的空洞包夹问题,同时可以大幅降低成套工艺成本。仿真和实验结果显示,热处理可以改善脱模效果,显著降低脱模损伤,支持微模具重复利用。采用初步优化的改良工艺已成功实现深宽比约3∶1的铜微结构的高精度复制。 展开更多
关键词 紫外线光刻、电铸成型和注塑(uv-LIGA)工艺 硅橡胶模具 硅通孔(TSV)镀铜 脱模 模具重复利用
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多层UV-LIGA电铸镍材料的抗冲击性能 被引量:4
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作者 周织建 聂伟荣 +1 位作者 席占稳 王晓锋 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第4期1044-1052,共9页
为研究采用UV-LIGA(Ultraviolet Lithography,Galvanoformung,Abformung)技术制作的多层电铸镍的机械可靠性,对其进行了抗冲击性能分析。利用冲击试验台及信号采集系统测试了UV-LIGA多层电铸镍的抗冲击性能。实验分析得到其累积失效概... 为研究采用UV-LIGA(Ultraviolet Lithography,Galvanoformung,Abformung)技术制作的多层电铸镍的机械可靠性,对其进行了抗冲击性能分析。利用冲击试验台及信号采集系统测试了UV-LIGA多层电铸镍的抗冲击性能。实验分析得到其累积失效概率-加速度峰值曲线近似拟合于韦布尔统计分布,韦布尔系数γ=7.6,参考加速度为21 300g。当加速度为12 000~18 000g时,可靠性相对较高;当加速度为12 000~18 000 g时,累计失效概率增加较快;当加速度大于24 000g时,可靠性下降迅速。利用扫描电子显微镜(SEM)观察了试样,得到其主要的失效形式有分层、断裂、塑性变形以及黏连等。初步分析了失效原因,并提出了相应的优化设计方法,为UV-LIGA多层结构的设计提供实验依据。 展开更多
关键词 uv-LIGA 多层电铸镍 抗冲击性能 微机电系统(MEMS)
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利用UV曝光技术研制单根定向碳纳米管阵列冷阴极 被引量:3
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作者 陈长青 丁明清 +3 位作者 李兴辉 白国栋 张甫权 冯进军 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期1-5,共5页
通过普通的紫外(UV)光刻工艺,结合“变倾角缩口”新技术,研制了不同发射单元尺寸的碳纳米管(CNTs)阵列阴极。扫瞄电镜分析表明,随着缩口尺寸的依次减小(从0.6μm到0.4μm,最后到0.2μm),发射单元内CNTs的根数也不断减少... 通过普通的紫外(UV)光刻工艺,结合“变倾角缩口”新技术,研制了不同发射单元尺寸的碳纳米管(CNTs)阵列阴极。扫瞄电镜分析表明,随着缩口尺寸的依次减小(从0.6μm到0.4μm,最后到0.2μm),发射单元内CNTs的根数也不断减少。当孔径缩至0.2μm时,发射单元仅由1根~3根CNTs组成,并且大部分单元顶端均有单根CNT伸出,使得整个发射体近似于单根CNT。场发射特性测试结果表明,0.2μm发射单元尺寸的阵列阴极,开启电场约2V·μm-1;当场强为20V·μm-1时,该阵列的电流密度达到0.35A·cm-2,比1μm尺寸的阵列阴极提高了近4倍,比连续生长的薄膜CNTs阴极则高1~2个数量级。 展开更多
关键词 uv光刻技术 变倾角缩口 定向碳纳米管的生长 场发射阵列冷阴极
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UV-LIGA光刻设备研究 被引量:4
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作者 余国彬 姚汉民 +2 位作者 胡松 王兆志 林大健 《电子工业专用设备》 2000年第4期26-29,共4页
近几年来微型机电系统 (MEMS)的研究得到了高速的发展 ,而MEMS的工艺基础是微细加工技术。针对电铸 (LIGA)技术所存在的缺点提出了紫外光电铸(UV -LIGA)技术 ,并研制了用于UV -LIGA技术的光刻设备。其中介绍了整机的设计要点、所解决的... 近几年来微型机电系统 (MEMS)的研究得到了高速的发展 ,而MEMS的工艺基础是微细加工技术。针对电铸 (LIGA)技术所存在的缺点提出了紫外光电铸(UV -LIGA)技术 ,并研制了用于UV -LIGA技术的光刻设备。其中介绍了整机的设计要点、所解决的关键单元技术和实验结果。 展开更多
关键词 uv-LIGA技术 光刻设备 半导体工艺
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可磁场调控的三维自组装结构及其应用
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作者 张聪 李瑞 +1 位作者 张亚超 陈超 《传感器与微系统》 CSCD 北大核心 2024年第1期12-16,共5页
机械力诱导平面薄膜自组装为三维结构是一种重要的结构成型方法。本文通过飞秒激光将聚合物薄膜切割为二维图案化结构,并利用紫外光刻在二维结构上加工磁性层,随后经机械力诱导自组装为三维磁响应结构,并探讨了该方法制作的结构在仿生... 机械力诱导平面薄膜自组装为三维结构是一种重要的结构成型方法。本文通过飞秒激光将聚合物薄膜切割为二维图案化结构,并利用紫外光刻在二维结构上加工磁性层,随后经机械力诱导自组装为三维磁响应结构,并探讨了该方法制作的结构在仿生抓手、仿生舌头等方面的应用。仿真结果表明:通过有限元分析可精确预测二维平面结构在机械力诱导自组装后三维结构形貌。实验表明:三维结构依托其上磁性层可对外界磁场做出快速响应,实现对三维自组装结构的可逆非接触形貌调控。 展开更多
关键词 磁响应 自组装 飞秒激光 紫外光刻 仿生
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基于紫外纳米压印光刻的生物纳米孔测序MEMS芯片设计
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作者 姜保 侍南 +1 位作者 吴炫烨 徐屹峰 《传感器与微系统》 CSCD 北大核心 2024年第8期79-82,共4页
纳米孔测序作为最新一代的基因测序技术,在生物医学和临床应用中起着至关重要的作用。测序系统中的MEMS结构通常采用传统光刻工艺来实现,本文首次运用紫外纳米压印光刻(UV-NIL)工艺来验证实现纳米孔测序系统中的MEMS芯片的可能性。采用... 纳米孔测序作为最新一代的基因测序技术,在生物医学和临床应用中起着至关重要的作用。测序系统中的MEMS结构通常采用传统光刻工艺来实现,本文首次运用紫外纳米压印光刻(UV-NIL)工艺来验证实现纳米孔测序系统中的MEMS芯片的可能性。采用传统光刻工艺,制造了3种用于纳米孔测序的MEMS双层结构的硅晶圆。这些硅晶圆被用作母板,将其MEMS结构图案精准复制到聚二甲基硅氧烷(PDMS)上,形成压印软模,再用UV-NIL工艺在硅基底上压印出所需的MEMS结构。最后,通过光学和电学两种测试表征手段,成功证实UV-NIL工艺在制造MEMS芯片方面的有效性和可行性。相较于传统光刻,UV-NIL的成功运用将极大提高工艺稳定性并大幅缩减成本。 展开更多
关键词 纳米孔 基因测序 紫外纳米压印光刻
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印刷工艺中的UV固化技术
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作者 辛健 《辽宁省交通高等专科学校学报》 2015年第5期29-31,共3页
快速、高质量、多色一次印刷是现代印刷工业追求的终极目标。而欲达到此目标需解决的一个主要问题就是加快印刷品上油墨的干燥速度,印刷在承印物上的UV固化型油墨经紫外线的照射可在极短的时间内干燥固化,该技术被称为UV固化技术。UV固... 快速、高质量、多色一次印刷是现代印刷工业追求的终极目标。而欲达到此目标需解决的一个主要问题就是加快印刷品上油墨的干燥速度,印刷在承印物上的UV固化型油墨经紫外线的照射可在极短的时间内干燥固化,该技术被称为UV固化技术。UV固化技术在近期因市场的需要而发展的较快,但仍有一些问题需要解决。 展开更多
关键词 uv 上光 胶印 水墨平衡 油墨乳化 效率 成本
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大高宽比阶梯型铜微柱阵列的制作 被引量:1
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作者 杜立群 袁博文 +4 位作者 孔德健 王帅 蔡小可 王胜羿 肖海涛 《航空制造技术》 CSCD 北大核心 2023年第10期14-20,共7页
基于THB–151N光刻胶的微电铸工艺制作了一种阶梯型铜微柱阵列。针对THB–151N光刻胶显影过程中20μm微盲孔显影困难和底部留膜的问题,提出了一种基于浸没式双向兆声波辅助的显影方法。仿真研究了兆声功率密度和微盲孔深宽比对显影液传... 基于THB–151N光刻胶的微电铸工艺制作了一种阶梯型铜微柱阵列。针对THB–151N光刻胶显影过程中20μm微盲孔显影困难和底部留膜的问题,提出了一种基于浸没式双向兆声波辅助的显影方法。仿真研究了兆声功率密度和微盲孔深宽比对显影液传质过程的影响。优选了兆声功率密度和微盲孔深宽比,并开展了兆声辅助显影的试验研究。同时,针对THB–151N胶膜因曝光剂量选择不当导致微盲孔侧壁垂直度差的问题,通过光刻试验分析了曝光剂量对微盲孔侧壁垂直度的影响,拟合出曝光剂量与胶膜厚度的经验方程。在上述工艺方法和试验研究的基础上,制作出高度300μm、整体高宽比达15∶1、最小边长20μm、4×6的阶梯型铜微柱阵列。 展开更多
关键词 铜微柱阵列 紫外光刻 显影 微电铸 兆声
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劳埃德式紫外激光干涉光刻实验
11
作者 钟晓岚 宋佳奇 +3 位作者 李晓苗 姚旭 严琪琪 金硕 《物理实验》 2023年第3期22-28,共7页
搭建了劳埃德式紫外激光干涉光刻系统,利用劳埃德镜产生双光束分波阵面干涉,通过精确调整、控制光束的入射角,设计了曝光图样.基础实验部分可以完成一维光栅制备,分析光栅周期与波长、入射角的关系;在拓展实验中,制备设计部分可以完成... 搭建了劳埃德式紫外激光干涉光刻系统,利用劳埃德镜产生双光束分波阵面干涉,通过精确调整、控制光束的入射角,设计了曝光图样.基础实验部分可以完成一维光栅制备,分析光栅周期与波长、入射角的关系;在拓展实验中,制备设计部分可以完成二维点阵或准晶结构制备,前沿拓展部分可以制备表面等离极化激元微腔.基于劳埃德式激光干涉光刻实验操作便捷、展示度高,同时涵盖光干涉原理的介绍和光路调整、样品制备和表征等实验内容,有助于学生掌握激光干涉光刻的实验技能. 展开更多
关键词 劳埃德镜 紫外激光干涉 激光光刻 微纳米技术
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Photo-responsive droplet manipulation slippery lubricant-infused porous surface with ultra-high durability
12
作者 刘泽志 张琛 +6 位作者 文通 李荟竹 高文萍 王新孔 赵伟 王凯歌 白晋涛 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第11期87-95,共9页
Photo-responsive slippery lubricant-infused porous surface(SLIPS) for droplet manipulation is flexible, noncontact and non-destructive in droplet manipulation, which has promising applications in flexible robotics, mi... Photo-responsive slippery lubricant-infused porous surface(SLIPS) for droplet manipulation is flexible, noncontact and non-destructive in droplet manipulation, which has promising applications in flexible robotics, microfluidics,biomedicine, and chemical analysis. However, the repeated manipulations for droplets of SLIPSs are quite limited in the works reported so far, the poor durability of droplet manipulation severely limits the practical application of the surfaces. In this paper, an Fe3O4-doped polydimethylsiloxane(PDMS)-based SLIPS is proposed and implemented to achieve ultra-high repeated droplet manipulation numbers under near-infrared ray(NIR) laser irradiation. Firstly, a micron columnar array structure with micro-pits on the top side, as well as, a wall structure out of the array is designed on SLIPS to reserve the lubricant. Secondly, the prototype of the SLIPS is fabricated by a 3-step ultraviolet(UV) lithography, and subsequently immersed in silicone oil for more than 96 h to obtain the ultra-high durability slippery lubricant-infused porous surface(UD-SLIPS). With a power of 25 m W–85 m W NIR laser, the repeated manipulation of microdroplets(≤ 5 μL) in the scale of 1 cm can exceed more than 3000 times which is far beyond that in previous reports. Finally, the droplet manipulation performance of this photo-responsive UD-SLIPS and the influence of infusion time on durability are investigated. The mechanism of the PDMS swelling effect is found to be the key factor in improving the droplet manipulation durability of SLIPS. The findings of this work would be of great significance for the development of highly durable photo-responsive functional surfaces for droplet manipulation. 展开更多
关键词 PHOTO-RESPONSIVE droplet manipulation slippery lubricant-infused porous surface(SLIPS) ultra-violet(uv)lithography
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氟化钙晶体生长的研究进展 被引量:7
13
作者 苏良碧 杨卫桥 +3 位作者 董永军 周圣明 周国清 徐军 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第5期476-482,共7页
随着深紫外光刻技术的发展,透光范围宽、透过率高的CaF_2晶体成了人们关注的焦点,其尺寸和质量得到了不断的提高。结合CaF_2的基本性质,综述了CaF_2晶体的主要生长方法及存在的问题。从原料的纯化处理到晶体的光学加工,归纳总结了提高... 随着深紫外光刻技术的发展,透光范围宽、透过率高的CaF_2晶体成了人们关注的焦点,其尺寸和质量得到了不断的提高。结合CaF_2的基本性质,综述了CaF_2晶体的主要生长方法及存在的问题。从原料的纯化处理到晶体的光学加工,归纳总结了提高紫外级CaF_2晶体的尺寸、质量和产率的有效措施。 展开更多
关键词 氟化钙 晶体生长 研究进展 紫外光刻 CAF2 光学材料
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光刻系统用氟化钙晶体的研究进展 被引量:3
14
作者 董永军 周国清 +2 位作者 杨卫桥 苏良碧 徐军 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期449-455,共7页
解释了氟化钙晶体能被应用在光刻系统和掀起研究热潮的原因,概述了氟化钙晶体的研究和发展现状,指出了目前氟化钙晶体在研究和发展过程中要解决的重要问题和措施,最后对氟化钙晶体在光刻系统中的发展前景作了展望.
关键词 氟化钙 晶体 紫外 光刻 157nm 半导体
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SU-8胶紫外光刻的尺寸精度研究 被引量:6
15
作者 杜立群 秦江 +2 位作者 刘冲 朱神渺 李园园 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第4期447-452,共6页
研究了衍射效应对SU-8胶紫外光刻尺寸精度的影响。根据菲涅耳衍射理论建立了紫外曝光改进模型,预测微结构的尺寸,分析了光刻参数变化对尺寸的影响。为了更好地与数值模拟结果进行比较,以硅为基底,进行了SU-8胶紫外光刻的实验研究。实验... 研究了衍射效应对SU-8胶紫外光刻尺寸精度的影响。根据菲涅耳衍射理论建立了紫外曝光改进模型,预测微结构的尺寸,分析了光刻参数变化对尺寸的影响。为了更好地与数值模拟结果进行比较,以硅为基底,进行了SU-8胶紫外光刻的实验研究。实验分四组,实验中掩模的特征宽度分别取50μm、100μm、200μm和400μm,SU-8胶表面的曝光剂量取400 mJ/cm2。用扫描电镜测量了微结构的顶部线宽、底部线宽和SU-8胶的厚度,用MATLAB软件对紫外曝光过程中SU-8胶层内曝光剂量的分布情况进行了数值模拟,数值模拟结果与实验结果基本吻合。数值模拟结果为进一步的实验研究提供了光刻参数的参考值。 展开更多
关键词 SU-8胶 菲涅耳衍射 紫外光刻 尺寸精度 MATLAB
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基于MEMS技术的微型模具制作工艺研究 被引量:8
16
作者 肖日松 杜立群 +2 位作者 刘冲 刘海军 秦江 《高技术通讯》 CAS CSCD 北大核心 2006年第4期368-371,共4页
针对微型模具的结构和精度要求,在研究硅模具和背板生长两种工艺路线的基础上,提出了无背板生长工艺路线,并介绍了工艺路线中所涉及的三种MEMS加工方法,即UV-LIGA技术中的光刻、微电铸以及硅MEMS加工技术中的湿法刻蚀.实验结果表明,硅... 针对微型模具的结构和精度要求,在研究硅模具和背板生长两种工艺路线的基础上,提出了无背板生长工艺路线,并介绍了工艺路线中所涉及的三种MEMS加工方法,即UV-LIGA技术中的光刻、微电铸以及硅MEMS加工技术中的湿法刻蚀.实验结果表明,硅模具和背板生长模具呈54.74°的斜面,且硅模具容易损坏,背板生长模具受应力影响易产生变形;而无背板生长工艺能够获得侧壁垂直、表面细致、使用寿命长的模具,满足结构和精度要求。 展开更多
关键词 微型模具 MEMS uv-LIGA 光刻 微电铸 湿法刻蚀
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紫外光刻中部分相干光的传播及衍射效应 被引量:9
17
作者 李木军 沈连婠 +5 位作者 赵玮 李晓光 范明聪 王晓东 刘雳颋 郑津津 《中国科学技术大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2007年第1期24-29,共6页
基于Hopkins公式,研究了接近式紫外光刻中扩展准单色光源经柯勒照明系统传播到掩模表面上任两点的复相干度,并建立相应的基于部分相干光理论的光刻模型.应用部分相干光的传播理论,研究掩模平面到光刻胶表面任意两点互强度的传播,进而得... 基于Hopkins公式,研究了接近式紫外光刻中扩展准单色光源经柯勒照明系统传播到掩模表面上任两点的复相干度,并建立相应的基于部分相干光理论的光刻模型.应用部分相干光的传播理论,研究掩模平面到光刻胶表面任意两点互强度的传播,进而得到光刻胶表面的光强分布.以此为基础,分析了由于掩模与光刻胶之间光的衍射效应而产生的光刻微结构的图形失真.给出了理论模型的计算模拟结果,并用实验对该理论模型的计算结果进行了验证. 展开更多
关键词 接近式紫外光刻 部分相干光 复相干度 霍普金斯公式 图形失真
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接近式紫外光刻中图形失真的分析与预修正仿真 被引量:5
18
作者 李木军 沈连婠 +3 位作者 李晓光 赵玮 刘雳颋 郑津津 《机械工程学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第11期69-74,共6页
接近式紫外光刻中光刻胶图形形状失真是影响基于紫外光刻工艺的大深宽比微结构质量的重要因素之一。为把握其规律,并探寻减小光刻胶模型形状失真的对策,利用部分相干光理论建立光刻理论模型,计算光刻胶表面的光强分布及变化规律,模拟得... 接近式紫外光刻中光刻胶图形形状失真是影响基于紫外光刻工艺的大深宽比微结构质量的重要因素之一。为把握其规律,并探寻减小光刻胶模型形状失真的对策,利用部分相干光理论建立光刻理论模型,计算光刻胶表面的光强分布及变化规律,模拟得到的光刻胶图形轮廓明显地呈现拐角圆化和直边带毛刺等畸变现象。提出一种应用遗传算法的误差预补偿方法,在掩模图形的设计阶段,调整引起衍射的掩模特征形状以实现光刻胶表面的衍射光场调制,并根据光刻胶曝光轮廓特点,提出一种分段分类的思想,设计评价策略,减小问题的求解空间,实现了掩模设计图形的快速优化。结果表明优化补偿后的掩模图形降低了衍射造成的曝光图形的形状失真程度,图形质量得到了显著改善。该研究为提高接近式紫外光刻精度提供了一种新的思路。 展开更多
关键词 接近式紫外光刻 相干光 图形失真 遗传算法 掩模优化
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SU-8紫外深度光刻的误差及修正(英文) 被引量:4
19
作者 郑津津 陈有梅 +4 位作者 周洪军 田杨超 刘刚 李晓光 沈连婠 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第12期1926-1931,共6页
在深紫外LIGA加工中,制作高精度大高宽比的微器件是很困难的。难点在于SU-8光刻胶对紫外光的吸收系数随着波长变短而很快变大,而且其穿透深度也相应迅速变小;同时由于紫外光的衍射效应,获得高精度的大高宽比结构并不容易。本文深入研究... 在深紫外LIGA加工中,制作高精度大高宽比的微器件是很困难的。难点在于SU-8光刻胶对紫外光的吸收系数随着波长变短而很快变大,而且其穿透深度也相应迅速变小;同时由于紫外光的衍射效应,获得高精度的大高宽比结构并不容易。本文深入研究了影响紫外深度光刻图形转移精度的如下因素:衍射效应、曝光剂量、紫外光波长和蝇眼透镜的分布等等。建立了基于模型区域的校正系统,该校正系统采用了分类分区域的思想将掩模图形按其畸变的特点进行了分类,在校正过程中对不同的类别分别建立校正区域,在每一校正区域内进行校正优化处理和校正评价,这种基于模型的分类分区域评价思想,使得校正过程有效且实时,该校正方法不仅降低了校正的复杂性,同时提高了校正的效率。 展开更多
关键词 SU-8光刻胶 紫外深度光刻 掩模 图形转移 误差修正
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生物兼容蛋白水凝胶微图案的光刻平版印刷 被引量:4
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作者 郑博元 纪锋颖 +3 位作者 侯智善 孙思明 孙允陆 杨蕊竹 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2016年第4期715-722,共8页
通过简易的紫外光刻平版印刷技术,对无化学修饰的生物兼容性良好的天然牛白蛋白的水相光刻胶进行微图案化加工,获得了可用作微光栅器件的蛋白质微条纹结构,表征了蛋白质凝胶微条纹图案的宏观性状.结果表明,其折射散射彩虹色明显,单束激... 通过简易的紫外光刻平版印刷技术,对无化学修饰的生物兼容性良好的天然牛白蛋白的水相光刻胶进行微图案化加工,获得了可用作微光栅器件的蛋白质微条纹结构,表征了蛋白质凝胶微条纹图案的宏观性状.结果表明,其折射散射彩虹色明显,单束激光经过后的衍射条纹对称度高,可获得11级衍射条纹.通过改变参数实现了条纹的可控褶皱.将图案化的蛋白水凝胶膜用于肝癌细胞的培养,实现了细胞图案化排布. 展开更多
关键词 紫外光刻 蛋白质水凝胶 微光栅 生物兼容性 微褶皱
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