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UV/Cl工艺对三氯生的去除与降解机理研究 被引量:6
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作者 周思琪 李佳琦 +2 位作者 杜尔登 李淼 刘翔 《中国环境科学》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第3期1000-1008,共9页
对UV/Cl高级氧化工艺降解水中广谱抗菌剂三氯生(TCS)进行研究,对比单一UV、单一Cl和UV/Cl工艺对TCS的去除效果.考察UV光强、余氯初始浓度、溶液pH值和氨氮浓度等因素对反应的影响,探究TCS在UV/Cl工艺中的降解机理,评估其生态风险.结果表... 对UV/Cl高级氧化工艺降解水中广谱抗菌剂三氯生(TCS)进行研究,对比单一UV、单一Cl和UV/Cl工艺对TCS的去除效果.考察UV光强、余氯初始浓度、溶液pH值和氨氮浓度等因素对反应的影响,探究TCS在UV/Cl工艺中的降解机理,评估其生态风险.结果表明,与单一UV、单一Cl相比,TCS在UV/Cl工艺中降解效果较好,反应符合准一级反应动力学,降解速率常数随UV光强、余氯初始浓度增大而增大,随NH_4^+-N浓度的增加而减小.基于HRMSQ-TOF解析出17种中间产物,提出了降解反应路径.发光细菌毒性分析和ECOSAR预测均表明,TCS在UV/Cl工艺中产生毒性较高的中间产物,随着反应的进行,产生了毒性较低的中间产物,生态环境风险得以减少. 展开更多
关键词 三氯生(TCS) uv/cl 高级氧化工艺 影响因素 降解机理 毒性评价
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UV/Cl降解水中三唑酮的影响因素和机理
2
作者 王国庆 陈苗 +1 位作者 张恒 侯嵩 《环境化学》 CAS CSCD 北大核心 2022年第9期2823-2832,共10页
采用UV/Cl高级氧化技术去除水中三唑酮(TDF),并研究了TDF在UV/Cl体系中的降解动力学、影响因素和降解机理.对比单独UV、单独次氯酸钠(NaClO)和UV/Cl的3种条件下TDF的降解效果,发现UV/Cl体系能有效降解TDF.考察了TDF的初始浓度、NaClO初... 采用UV/Cl高级氧化技术去除水中三唑酮(TDF),并研究了TDF在UV/Cl体系中的降解动力学、影响因素和降解机理.对比单独UV、单独次氯酸钠(NaClO)和UV/Cl的3种条件下TDF的降解效果,发现UV/Cl体系能有效降解TDF.考察了TDF的初始浓度、NaClO初始浓度、不同初始pH、溴离子(Br-)和叔丁醇(t-BuOH)对降解效果的影响.结果表明,UV/Cl降解TDF符合一级动力学方程.pH对降解反应有较大影响,在pH为3时,反应速率最慢,表观反应动力学常数(k_(obs))为0.0150 min^(−1);pH为11时,反应速率最快,k_(obs)为0.211 min^(−1).Br−初始浓度为1μmol·L^(−1)时对降解反应有一定的抑制作用,当Br−初始浓度高于5μmol·L^(−1)时,Br−初始浓度越高对降解反应的促进作用越强.在UV/Cl体系中加入猝灭剂t-BuOH后,k_(obs)降低了33.5%,表明UV/Cl体系中有HO·和Cl·参与反应.通过超高效液相色谱质谱联用仪(UPLC-MS/MS)全扫描模式鉴定了TDF降解的中间体,推断出7种可能的降解中间产物,UV/Cl降解TDF的反应机理包括亲电取代和消除等. 展开更多
关键词 uv/cl 三唑酮 反应动力学 降解机理
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紫外波长对UV/Cl_2高级氧化去除水中有机物的影响 被引量:5
3
作者 喻杰 叶志伟 +1 位作者 党文悦 杨宏伟 《环境工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2019年第3期577-585,共9页
为明确紫外波长对UV/Cl_2高级氧化体系的影响,使用中心波长分别为267、275和286 nm的发光二极管LED作为光源,探究Cl_2光解动力学、UV/Cl_2体系自由基生成、对模式化合物溶液以及天然水、再生水TOC的去除。结果表明:在中性或酸性体系中,2... 为明确紫外波长对UV/Cl_2高级氧化体系的影响,使用中心波长分别为267、275和286 nm的发光二极管LED作为光源,探究Cl_2光解动力学、UV/Cl_2体系自由基生成、对模式化合物溶液以及天然水、再生水TOC的去除。结果表明:在中性或酸性体系中,267 nm最接近HClO最大吸收波长237 nm,吸光度和量子产率均较大,羟基自由基产生水平较高,有机物去除效果较好;在碱性体系中,286 nm最接近ClO^-最大吸收波长292 nm,尽管量子产率较小,但吸光度很大,有机物去除效果较好;由于水杨酸在292 nm附近有较强的竞争吸收,使用UV_(286)去除水杨酸效果被削弱。应用UV/Cl_2技术选择波长时需要考虑吸光度、量子产率、竞争吸收等因素;对于弱碱性天然水或再生水,采用波长为292 nm的紫外光一般可获得较优处理效果。 展开更多
关键词 波长 发光二极管LED uv/cl2高级氧化 有机废水处理
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VUV/UV/Cl2工艺去除饮用水中的乐果 被引量:1
4
作者 吴铮笛 陈芳艳 +3 位作者 唐玉斌 王新刚 李梦凯 强志民 《环境工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2020年第2期305-311,共7页
乐果是常规饮用水处理技术难以去除的一种典型有机磷农药。为了能够控制并去除饮用水中的农药残留,达到进一步净化水质的目的,建立了降解动力学模型,采用模拟降解饮用水中乐果的方法,对比了乐果在紫外(UV)、氯(Cl2)、紫外/氯(UV/Cl2)、... 乐果是常规饮用水处理技术难以去除的一种典型有机磷农药。为了能够控制并去除饮用水中的农药残留,达到进一步净化水质的目的,建立了降解动力学模型,采用模拟降解饮用水中乐果的方法,对比了乐果在紫外(UV)、氯(Cl2)、紫外/氯(UV/Cl2)、真空紫外/紫外(VUV/UV)和真空紫外/紫外/氯(VUV/UV/Cl2)5种工艺下的去除效果,并考察了乐果初始浓度、Cl2投加量、溶液p H、水中共存天然有机物(NOM)和无机阴离子(NO3^-、Cl-、HCO3^-、SO42^-)对VUV/UV/Cl2工艺降解乐果的影响。结果表明:VUV/UV/Cl2对乐果的降解效率最高,乐果的去除率随其初始浓度的增加而减小;适当增加Cl2投加量,可提高乐果的降解效率;提高p H有利于乐果的降解;NOM对乐果的降解有一定的抑制作用;水中共存无机阴离子NO3^-、Cl^-和HCO3^-可以捕获反应体系中的强氧化性羟基自由基(HO·),对乐果的降解起到抑制作用,而SO42-因其捕获HO·的速率很低,无抑制作用。 展开更多
关键词 Vuv/uv/cl2 乐果 去除 饮用水处理
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无铅双钙钛矿Cs_(2)NaScX_(6)(X=Cl,Br,I)的第一性原理研究
5
作者 林佳怡 欧天吉 马新军 《内蒙古民族大学学报(自然科学版)》 2024年第3期75-82,共8页
钙钛矿材料由于具有结构稳定、易于获取、成本低廉和易于合成等优点,在发光二极管、激光器和太阳能电池等光电器件领域具有广阔的应用前景。目前,部分适合UV-LED应用的钙钛矿具有结构不稳定性。为了寻找结构稳定的钙钛矿,此项研究利用... 钙钛矿材料由于具有结构稳定、易于获取、成本低廉和易于合成等优点,在发光二极管、激光器和太阳能电池等光电器件领域具有广阔的应用前景。目前,部分适合UV-LED应用的钙钛矿具有结构不稳定性。为了寻找结构稳定的钙钛矿,此项研究利用第一性原理对无铅双钙钛矿Cs_(2)NaScX_(6)(X=Cl,Br,I)的电子及光学性质进行了理论计算。计算结果表明:Cs_(2)NaScX_(6)(X=Cl,Br,I)为直接带隙半导体,带隙值分别为5.545 e V(Cl)、4.549 eV(Br)和3.408 eV(I),Cs_(2)NaScI_(6)在紫外光范围内具有较强的光吸收。本研究内容为无铅A_(2)B^(I)B^(III)X_(6)型双钙钛矿成为UV-LED的候选材料提供理论支持。 展开更多
关键词 uv-LED 第一性原理 Cs_(2)NaScX_(6)(X=cl Br I) 电子性质 光学性质 超宽带隙
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Formation of halonitromethanes from methylamine in the presence of bromide during UV/Cl2 disinfection
6
作者 Lin Deng Wei Luo +5 位作者 Xiao Chi Tingting Huang Longjia Wen Huiyu Dong Mingxian Wu Jun Hu 《Journal of Environmental Sciences》 SCIE EI CAS CSCD 2022年第7期28-36,共9页
The UV/Clprocess is commonly used to achieve a multiple-barrier disinfection and maintain residuals. The study chose methylamine as a precursor to study the formation of hightoxic halonitromethanes(HNMs) in the presen... The UV/Clprocess is commonly used to achieve a multiple-barrier disinfection and maintain residuals. The study chose methylamine as a precursor to study the formation of hightoxic halonitromethanes(HNMs) in the presence of bromide ions(Br-) during UV/Cldisinfection. The maximum yield of HNMs increased first and then decreased with increasing concentration of Br-. An excessively high concentration of Br-induced the maximum yield of HNMs in advance. The maximum bromine incorporation factor(BIF) increased, while the maximum bromine utilization factor(BUF) decreased with the increase of Br-concentration. The maximum yield of HNMs decreased as p H value increased from 6.0 to 8.0 due to the deprotonation process. The BUF value remained relatively higher under an acidic condition, while p H value had no evident influence on the BIF value. The maximum yield of HNMs and value of BUF maximized at a Cl:Br-ratio of 12.5, whereas the BIF value remained relatively higher at low Cl:Br-ratios(2.5 and 5). The amino group in methylamine was first halogenated, and then released into solution as inorganic nitrogen by the rupture of C-N bond or transformed to nitro group by oxidation and elimination pathways. The maximum yield of HNMs in real waters was higher than that in pure water due to the high content of dissolved organic carbon. Two real waters were sampled to verify the law of HNMs formation. This study helps to understand the HNMs formation(especially brominated species) when the UV/Clprocess is adopted as a disinfection technique. 展开更多
关键词 HNMs uv/cl2 process METHYLAMINE BROMIDE
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UV/H2O2/Cl2组合工艺处理含2-MIB滤后水的中试研究 被引量:6
7
作者 焦浩 崔鹏炜 +3 位作者 岳建刚 宋武昌 贾瑞宝 王洪波 《给水排水》 CSCD 北大核心 2019年第12期29-36,42,共9页
针对饮用水中二甲基异莰醇(2-MIB)污染和UV/H2O2高级氧化工艺H2O2残留问题,构建了UV/H2O2/Cl2组合工艺,并以加标滤后水为原水开展了相关中试研究。基于响应曲面法对UV/H2O2工艺去除2-MIB进行参数优化,在此基础上对出水残留H2O2采用加氯... 针对饮用水中二甲基异莰醇(2-MIB)污染和UV/H2O2高级氧化工艺H2O2残留问题,构建了UV/H2O2/Cl2组合工艺,并以加标滤后水为原水开展了相关中试研究。基于响应曲面法对UV/H2O2工艺去除2-MIB进行参数优化,在此基础上对出水残留H2O2采用加氯中和处理,调整NaClO投加量以保证出水符合出厂水余氯要求。最终确定UV/H2O2/Cl2组合工艺运行的最优工况为:当2-MIB为275ng/L时,UV为350mJ/cm^2,H2O2投加量6mg/L,NaClO投加量7.5mg/L,在确定的最优工况下连续稳定运行组合工艺,对工艺出水进行检测,结果表明UV/H2O2/Cl2组合工艺对2-MIB去除率达到96.95%,出水余氯值0.4~0.5 mg/L,对TOC、UV254去除率分别达到15.59%、65.71%,能够氧化去除水中大分子有机物,对色氨酸等5种溶解性有机物去除效果良好,且不会带来消毒副产物超标和生物毒性问题,最终出水符合《生活饮用水卫生标准》(GB 5749-2006)对水质的要求。 展开更多
关键词 二甲基异莰醇 滤后水 高级氧化 uv/H2O2/cl2组合工艺
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阴离子对UV/H_2O_2/微曝气工艺降解双酚A的影响 被引量:22
8
作者 黎雷 高乃云 +2 位作者 胡玲 赵建夫 李晔冬 《中国环境科学》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第3期233-236,共4页
试验研究了水中典型阴离子对UV/H2O2/微曝气工艺降解内分泌干扰物双酚A的影响.结果表明,随着HCO3-和NO3-浓度的增大,BPA的降解速率下降,当HCO3-浓度增加到400mg/L时,反应常数(k)从0.1613min-1降低到0.0804min-1;当NO3-的浓度增加到800m... 试验研究了水中典型阴离子对UV/H2O2/微曝气工艺降解内分泌干扰物双酚A的影响.结果表明,随着HCO3-和NO3-浓度的增大,BPA的降解速率下降,当HCO3-浓度增加到400mg/L时,反应常数(k)从0.1613min-1降低到0.0804min-1;当NO3-的浓度增加到800mg/L时,k值降低到0.1107min-1;而SO42-和Cl-浓度在一定范围内增加时,有利于BPA的降解,当SO42-的浓度为800mg/L左右时,对降解促进作用最大,k值增加到0.1814min-1;当Cl-的浓度为400mg/L左右时,k值增加到0.1772min-1,但是当浓度继续增加时,BPA的降解速度将降低.4种离子对BPA的降解影响大小顺序为HCO3->NO3->SO42->Cl-. 展开更多
关键词 uv/H2O2/微曝气 双酚A HCO3^- NO3^- SO4^2- cl^-
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Study on superoxide and hydroxyl radicals generated in indirect electrochemical oxidation by chemiluminescence and UV-Visible spectra 被引量:3
9
作者 ZHANG, Bo-Tao ZHAO, Li-Xia LIN, Jin-Ming 《Journal of Environmental Sciences》 SCIE EI CAS CSCD 2008年第8期1006-1011,共6页
The generation and transformation of radicals on the cathode of indirect electrochemical oxidation were studied by chemilumines- cence(CL)and UV-Visible spectra in the reactor with a salt bridge that connected the sep... The generation and transformation of radicals on the cathode of indirect electrochemical oxidation were studied by chemilumines- cence(CL)and UV-Visible spectra in the reactor with a salt bridge that connected the separated chambers.The CL intensity of 4×10^(-9)mol/L luminol on the cathode with bubbling oxygen was about seven times that of the intensity without it,which was because of the generation of reactive oxygen species(ROS).The existence of ROS,especially the generation of the superoxide radical,coul... 展开更多
关键词 chemiluminescence(cl uv-VISIBLE RADICAL indirect electrochemical oxidation
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N—Cl型卤胺抗菌材料紫外稳定性研究进展 被引量:1
10
作者 万建升 李红 +1 位作者 张世豪 闫俊 《精细化工》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第7期1320-1329,共10页
N—Cl型卤胺抗菌剂具有高效、快速、稳定、安全、可再生的抗菌性能,由其开发的抗菌材料广泛应用于医疗卫生、纺织、水过滤等领域。然而,N—Cl型卤胺抗菌材料在应用过程中受紫外光作用会使材料上的N—Cl键或抗菌剂与材料基质的连接共价... N—Cl型卤胺抗菌剂具有高效、快速、稳定、安全、可再生的抗菌性能,由其开发的抗菌材料广泛应用于医疗卫生、纺织、水过滤等领域。然而,N—Cl型卤胺抗菌材料在应用过程中受紫外光作用会使材料上的N—Cl键或抗菌剂与材料基质的连接共价键断裂,导致活性氯的含量降低,进而引起其抗菌性能的下降。如何提高N—Cl型卤胺抗菌材料的紫外稳定性受到了国内外学者的重点关注。该文首先阐述了N—Cl型卤胺抗菌剂的种类和造成N—Cl型卤胺抗菌材料中活性氯含量降低的因素;然后,综述了通过改变卤胺前驱体结构,引入纳米TiO_(2)、ZnO、AgCl无机粒子和有机紫外吸收剂来提高N—Cl型卤胺抗菌材料紫外稳定性的研究进展;最后,讨论了该研究领域所面临的问题和挑战,并对未来发展进行了展望。 展开更多
关键词 N—cl型卤胺抗菌剂 功能材料 紫外稳定性 氯含量 应用
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氯/紫外工艺辅助MBR出水应急脱氮
11
作者 官章琴 周斌 +1 位作者 杨冯睿 吴志超 《净水技术》 CAS 2023年第5期84-92,101,共10页
氯/紫外(Cl/UV)工艺十分适合低有机物污水的应急脱氮处理。文中研究了Cl/UV工艺辅助膜生物反应器(MBR)脱氮的效果和影响因素,并研究确立了最佳工艺参数。结果表明,Cl/UV工艺可以在相同Cl/N下,实现比折点氯化更好的脱氮效果、更低的出水... 氯/紫外(Cl/UV)工艺十分适合低有机物污水的应急脱氮处理。文中研究了Cl/UV工艺辅助膜生物反应器(MBR)脱氮的效果和影响因素,并研究确立了最佳工艺参数。结果表明,Cl/UV工艺可以在相同Cl/N下,实现比折点氯化更好的脱氮效果、更低的出水余氯含量。工艺进水的pH值在6.5~8.0对处理效果没有显著影响。当进水氨氮质量浓度<12 mg/L时,采用Cl/UV工艺比折点氯化更经济,此时可以通过文中公式计算最佳Cl/N。过高的进水COD_(Cr)(>50 mg/L)会导致所需Cl/N增加,且Cl/UV工艺对COD_(Cr)的去除效果不佳。Cl/UV工艺产生的消毒副产物主要为三氯甲烷、三氯乙烷、三氯乙醛和二氯乙腈,生成量随Cl/N的增大而增大,随初始氨氮浓度和UV强度的增大而下降。 展开更多
关键词 氯/紫外(cl/uv) 脱氮 膜生物反应器(MBR) 响应曲面法 消毒副产物
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UV协同ClO_2去除三氯生及其降解产物的研究 被引量:7
12
作者 李玉瑛 何文龙 +3 位作者 李青松 金伟伟 陈国元 李国新 《环境科学》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第2期516-522,共7页
采用UV/Cl O2工艺对三氯生(TCS)的去除进行了研究,考察了初始p H、Cl O2投加量、TCS初始浓度、腐殖酸(HA)在UV/Cl O2联用工艺中对TCS降解的影响.研究表明,UV/Cl O2工艺可以有效去除TCS且具有协同作用,光强为6.5μW·cm-2、Cl O2投... 采用UV/Cl O2工艺对三氯生(TCS)的去除进行了研究,考察了初始p H、Cl O2投加量、TCS初始浓度、腐殖酸(HA)在UV/Cl O2联用工艺中对TCS降解的影响.研究表明,UV/Cl O2工艺可以有效去除TCS且具有协同作用,光强为6.5μW·cm-2、Cl O2投加量为0.5 mg·L-1和TCS浓度为300μg·L-1时,单独UV和Cl O2在1 min内对TCS的去除分别为5.23%和84.93%,UV/Cl O2联用工艺TCS在1 min内去除可达到99.13%.实验范围内(p H 6~9)随着p H的增大TCS去除率从99.4%升到99.63%;增大Cl O2投加量可以提高TCS的去除,Cl O2投加量从0.5~1.5 mg·L-1时TCS去除率由98.1%提高到99.89%;TCS初始浓度与去除率呈负相关,初始浓度从100~500μg·L-1时TCS去除率由99.98%下降到94.39%;低浓度的腐殖酸有利于TCS的去除,高浓度的腐殖酸则相反.GC/MS对TCS的UV、Cl O2和UV/Cl O2的降解产物分析表明,TCS的主要降解产物包括2,4-二氯苯酚(2,4-DCP)、2,7-二氯代二苯并-对-二英(2,7-DCDD)等. 展开更多
关键词 uv/cl O2 三氯生 去除 GC/MS 降解产物
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沉淀敲出法快速发现霍山产铁皮石斛生物碱及其组分抗氧化活性在线测定 被引量:13
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作者 陈存武 陈乃东 +2 位作者 孟云飞 张艳 胡建 《天然产物研究与开发》 CAS CSCD 北大核心 2014年第7期1000-1003,1013,共5页
为了给霍山产铁皮石斛药效物质基础研究及抗氧化活性物质快速发现提供依据,在预实验基础上,采用鲁米诺-双氧水发光体系作为羟自由基清除活性评价平台,HPLC-UV-CL联用在线测定了铁皮石斛生物碱部位各组分清除自由基活性。以磷钼酸、碘-... 为了给霍山产铁皮石斛药效物质基础研究及抗氧化活性物质快速发现提供依据,在预实验基础上,采用鲁米诺-双氧水发光体系作为羟自由基清除活性评价平台,HPLC-UV-CL联用在线测定了铁皮石斛生物碱部位各组分清除自由基活性。以磷钼酸、碘-碘化钾为沉淀试剂敲出总生物碱提取物中生物碱组分,对比敲出前后HPLC图谱变化,确定铁皮石斛的生物碱组分。结果表明,在本实验条件下,霍山产铁皮石斛中检出的5种生物碱中有4种可降低鲁米诺-双氧水发光体系的发光值。HPLC-UV-CL可用于铁皮石斛生物碱清除自由基活性快速测定。实验结果可为铁皮石斛质量控制、抗氧化活性成分定向分离的研究提供依据。 展开更多
关键词 铁皮石斛 沉淀敲出 高效液相色谱-化学发光联用法 生物碱
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电子探针微区紫外阴极荧光分析系统及在沉积碎屑岩分析中的应用 被引量:6
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作者 杨勇 陈能松 《地球科学(中国地质大学学报)》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第3期357-360,共4页
在JCXA 733电子探针上采用一种实用的微区紫外 -可见阴极荧光的探测方案 ,可以分析样品表面微区的不可见和可见的荧光 .荧光的波长和强度特性与物质的成分、结构、缺陷 ,物质的形成条件、经历、所处环境条件等密切相关 .相对于常规的可... 在JCXA 733电子探针上采用一种实用的微区紫外 -可见阴极荧光的探测方案 ,可以分析样品表面微区的不可见和可见的荧光 .荧光的波长和强度特性与物质的成分、结构、缺陷 ,物质的形成条件、经历、所处环境条件等密切相关 .相对于常规的可见阴极荧光测试技术 ,探测紫外和红外阴极荧光可以在更宽的波段上获取更多更新的样品内在信息 .用此方法对河北唐山石英砂岩及其微小次生加大边进行阴极荧光分析 ,发现它们具有不同的紫外荧光特征 ,还有对应波长为 2 87nm的辐射损伤色心 ,由此可以推测至少有两期胶结作用 ,且石英碎屑来源复杂 .这为分析胶结作用期次和碎屑物物源提供了新的技术方法 ,对于沉积盆地分析和油气储集具有重要的实用意义 . 展开更多
关键词 电子探针 阴极荧光 形成条件 胶结作用期次 碎屑物物源 沉积盆地 油气储集 沉积碎屑岩
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Chatham合成钻石紫外阴极发光谱 被引量:3
15
作者 杨勇 亓利剑 袁心强 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第5期913-916,共4页
用自制的阴极发光分析仪在JCXA-733电子探针上分析两批美国Chatham公司合成钻石的微区紫外-可见阴极荧光,结果表明Chatham合成钻石具有峰波长为234,268 nm等的紫外阴极荧光谱。不同批次的Chatham钻石的紫外阴极荧光谱特征也有所不同。... 用自制的阴极发光分析仪在JCXA-733电子探针上分析两批美国Chatham公司合成钻石的微区紫外-可见阴极荧光,结果表明Chatham合成钻石具有峰波长为234,268 nm等的紫外阴极荧光谱。不同批次的Chatham钻石的紫外阴极荧光谱特征也有所不同。这些紫外阴极发光谱在天然钻石和人工处理后的天然钻石中都没有发现,可能是Chatham合成钻石的特征谱,因而可能具有一定鉴定价值。经进一步完善后,紫外阴极荧光谱技术有望成为鉴别天然和合成钻石、不同公司合成钻石或同一公司不同批次合成钻石的有效方法。 展开更多
关键词 Chatham 合成钻石 紫外阴极发光谱 金刚石
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取代金属(铁、锰、钴、铜、锌)卟啉的光谱分析 被引量:27
16
作者 王兰芝 佘远斌 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第10期2312-2317,共6页
对系列取代金属(铁、锰、钴、铜、锌)卟啉化合物的紫外光谱、红外光谱、远红外光谱进行了详尽的测试和分析,揭示了不同结构金属卟啉的光谱规律,从理论上分析了形成光谱规律的原因。针对目前氯化铁卟啉轴向Fe—Cl键远红外表征的报道结果... 对系列取代金属(铁、锰、钴、铜、锌)卟啉化合物的紫外光谱、红外光谱、远红外光谱进行了详尽的测试和分析,揭示了不同结构金属卟啉的光谱规律,从理论上分析了形成光谱规律的原因。针对目前氯化铁卟啉轴向Fe—Cl键远红外表征的报道结果不一致性,采用理论分析与实验测定相结合的方法,探索了氯化铁卟啉中Fe—Cl键远红外吸收规律。研究结果表明:Fe—Cl键的振动吸收频率不是固定不变的,而是与卟啉环的结构有关,且和Fe—Cl的键长呈线性关系。 展开更多
关键词 金属卟啉 紫外-可见光谱 红外光谱 远红外光谱 轴向Fe—cl
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甘蔗糖液中C1^-和SO_4^(2-)的紫外线检测──离子色谱法测定 被引量:2
17
作者 袁建平 郭祀远 李琳 《甘蔗糖业》 1996年第5期29-33,共5页
提出了采用紫外检测——高效离子色谱法测定甘蔗糖液样品中的Cl-和5O42-的分析方法。色谱分离系统由yydac302IC离子色谱柱和3mmol/L邻苯二甲酸溶液(PH=5.0,用四硼酸钠调节)组成。利用流动相具有的紫外光吸收特性,周紫外光度检测... 提出了采用紫外检测——高效离子色谱法测定甘蔗糖液样品中的Cl-和5O42-的分析方法。色谱分离系统由yydac302IC离子色谱柱和3mmol/L邻苯二甲酸溶液(PH=5.0,用四硼酸钠调节)组成。利用流动相具有的紫外光吸收特性,周紫外光度检测器对分离后的Cl-和SO42-进行间接检测。 展开更多
关键词 离子色谱 紫外检测 甘蔗糖液 氯离子 硫酸根离子
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基于HPLC-UV-CL联用分析技术评价不同产地山麦冬清除过氧化氢活性 被引量:2
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作者 陈斐冷 胡正芳 戚进 《中国中药杂志》 CAS CSCD 北大核心 2019年第5期990-995,共6页
采用过氧化氢(H2O2)生成体系,以高效液相色谱-紫外-可见分光光度法-化学发光(HPLC-UV-CL)联用技术在线分析不同产地的山麦冬清除H2O2的作用,明确不同产地山麦冬乙醚部位直接清除H2O2的抗氧化活性特点。利用2种检测方法对不同产地的山麦... 采用过氧化氢(H2O2)生成体系,以高效液相色谱-紫外-可见分光光度法-化学发光(HPLC-UV-CL)联用技术在线分析不同产地的山麦冬清除H2O2的作用,明确不同产地山麦冬乙醚部位直接清除H2O2的抗氧化活性特点。利用2种检测方法对不同产地的山麦冬的指纹图谱进行相似度评价分析。结果发现短葶山麦冬和湖北麦冬的乙醚部位均具有较好的清除过氧化氢活性,不同种之间的总活性差异较大,而同种样品间具有相似的活性,短葶山麦冬总活性较湖北麦冬高。2种检测方法对不同产地的山麦冬的指纹相似度比较分析,化学指纹与活性指纹具有不同的特征,各指纹对于总峰面积和总活性的贡献也不尽相同,2种不同指纹图谱聚类结果存在显著差异。 展开更多
关键词 山麦冬 过氧化氢 HPLC-uv-cl
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水和氯离子在纳米蒙脱土改性光固化涂层中的传输行为
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作者 郑耀臣 陈芳 《腐蚀与防护》 CAS 北大核心 2008年第4期189-191,共3页
采用静态浸泡法绘制了漆膜增重-时间曲线,考察了纳米蒙脱土(nano-MMT)改性紫外光固化涂层的吸水性,分析了纳米蒙脱土用量、环氧丙烯酸酯(EA)与合成活性稀释剂(AD)比例、光固化涂层的固化程度与介质传输行为的关系。结果表明:在浸泡初期,... 采用静态浸泡法绘制了漆膜增重-时间曲线,考察了纳米蒙脱土(nano-MMT)改性紫外光固化涂层的吸水性,分析了纳米蒙脱土用量、环氧丙烯酸酯(EA)与合成活性稀释剂(AD)比例、光固化涂层的固化程度与介质传输行为的关系。结果表明:在浸泡初期,NaCl溶液在涂层中的传输行为符合Fick扩散定律,之后涂层吸水量达到饱和,由计算公式可求得渗透介质在涂层中的扩散系数。同时,涂层的固化程度越高、WEA:WAD越大,涂层的抗介质渗透性能越好。 展开更多
关键词 紫外光固化涂料 纳米蒙脱土 介质传输 cl-
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ε-己内酯的紫外吸收光谱分析 被引量:1
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作者 张文鹏 熊娥 闫锋 《分析仪器》 CAS 2012年第6期44-46,共3页
由环己酮氧化法制备的ε-己内酯单体,由于原料环己酮与产物ε-己内酯的分离较为困难,必须在环己酮存在条件下进行ε-己内酯定量分析。实验研究了ε-己内酯在紫外光区的吸收光谱,找到了ε-己内酯与环己酮的特征吸收峰,绘制了ε-己内酯在... 由环己酮氧化法制备的ε-己内酯单体,由于原料环己酮与产物ε-己内酯的分离较为困难,必须在环己酮存在条件下进行ε-己内酯定量分析。实验研究了ε-己内酯在紫外光区的吸收光谱,找到了ε-己内酯与环己酮的特征吸收峰,绘制了ε-己内酯在λ=350nm处的标准曲线,并通过环己酮的标准加入法以及使用传统的水解法验证了本方法通过紫外可见吸收光谱法对ε-己内酯定量分析的准确性和稳定性。 展开更多
关键词 Ε-己内酯 紫外可见吸收光谱 定量分析
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