UV/H_2O_2工艺降解水中污染物的动力学研究进展

介绍了目前最重要的商用高级氧化工艺之一的UV/H_2O_2工艺,叙述了UV/H_2O_2工艺动力学研究进展,认为目前此方面的研究仍有所欠缺,鉴于此,将分别从动力学参数及动力学模型2方面对UV/H_2O_2工艺降解污染物的动力学特性进行了探讨。以UV曝辐量为主线,分别阐述并比较了不同反应器中UV曝辐量的测定、基于UV光量子剂量的动力学参数及动力学模型等,指出了UV曝辐量对于光化学反应的重要性,分析表明该模型的建立对单一目标污染物的模拟和预测有较好效果。认为需进一步探讨研究,找到最适合的动力学模型;还应开发高效低耗的新型光源、反应器。

O_3/UV/H_2O_2对石化二级出水的深度处理研究

采用O_3/UV/H_2O_2耦合工艺对成分复杂、可生化性差的兰州某石化企业二级出水进行预处理,分析了不同因素对COD去除率及废水可生化性的影响。结果表明,当O_3投加量为62.63 mg/L,UV功率为25 W,照射时间为15 min,n(H_2O_2)/n(O_3)为0.5,原水pH为9时,COD去除率可达29.34%,BOD5/COD可由0.05增加到0.34。此工艺对石化二级出水水质具有明显的改善作用,同时大幅提升了废水的可生化性。

UV/H_2O_2工艺处理污水厂尾水CDOM的三维荧光分析

使用UV/H_2O_2工艺深度处理污水厂尾水,评估对水中有色可溶性有机物(CDOM)的去除效果。基于三维荧光光谱组合平行因子分析,提取出3个有效荧光组分,分别代表C1(色氨酸类蛋白)、C2(类腐殖酸)和C3(酪氨酸类蛋白)。UV/H_2O_2工艺能有效去除CDOM荧光组分,使用响应面分析对反应条件进行优化,优化后最佳反应条件为:H_2O_2投加量1.2mg/L、紫外光强7.1mW/cm2、反应时间43min,荧光组分C1预测和实际去除率分别为94.2%和91.8%,说明响应面能够有效描述UV/H_2O_2工艺降解反应过程,优化降解反应条件,为UV/H_2O_2氧化工艺工程应用提供技术参考。

UV/H2O2/Cl2组合工艺处理含2-MIB滤后水的中试研究

针对饮用水中二甲基异莰醇(2-MIB)污染和UV/H2O2高级氧化工艺H2O2残留问题,构建了UV/H2O2/Cl2组合工艺,并以加标滤后水为原水开展了相关中试研究。基于响应曲面法对UV/H2O2工艺去除2-MIB进行参数优化,在此基础上对出水残留H2O2采用加氯中和处理,调整NaClO投加量以保证出水符合出厂水余氯要求。最终确定UV/H2O2/Cl2组合工艺运行的最优工况为:当2-MIB为275ng/L时,UV为350mJ/cm^2,H2O2投加量6mg/L,NaClO投加量7.5mg/L,在确定的最优工况下连续稳定运行组合工艺,对工艺出水进行检测,结果表明UV/H2O2/Cl2组合工艺对2-MIB去除率达到96.95%,出水余氯值0.4~0.5 mg/L,对TOC、UV254去除率分别达到15.59%、65.71%,能够氧化去除水中大分子有机物,对色氨酸等5种溶解性有机物去除效果良好,且不会带来消毒副产物超标和生物毒性问题,最终出水符合《生活饮用水卫生标准》(GB 5749-2006)对水质的要求。