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UV光源在光固化涂料中的应用
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作者 李一明 周伟 《上海涂料》 CAS 1999年第2期47-49,共3页
利用金属卤化物灯的放电机理,选择辐射光谱在365nm附近的金属元素作为发光物质并做成金属卤化物填充剂,制成高强度UV光源。大大提高光电转换率,加快了光固化的速度,达到节约能源和提高效率的目的。
关键词 uv光源 光固化 涂料 固化
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EUV光源输出功率获突破32 nm工艺更近一步
2
《真空电子技术》 2005年第6期16-16,共1页
德国Xtreme Technologies GmbH日前宣称在提高EUV光源的功率输出上超越了其目标,以寻求将甚超紫外线(EUV)光刻引入到芯片制造。
关键词 uv光源 输出功率 工艺 功率输出 芯片制造 紫外线
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EUV光源研发的新突破
3
作者 Nigel Farrar David Brandt James Bonafede 《集成电路应用》 2008年第4期26-26,28,29,30,共4页
在32nm技术节点以下时,尽管极紫外(EUV)光刻技术已被视为主流的光刻生产技术解决方案,但是如何研发一套可靠、高性能EUV光源系统仍然是摆在业界面前的一道难题。此文将着重介绍了基于触发模式、输出功率达到100W的光源系统。
关键词 uv光源 光刻技术 光源系统 技术节点 生产技术 触发模式 输出功率
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UV光源对湿膜应用的影响
4
作者 李春甫 《网印工业》 2007年第10期49-50,共2页
一、UV光源的选择 不同品牌的湿膜对UV光源的选择也有差异,而UV灯的差别尤为突出。 1.光谱匹配的峰值。曝光灯所发射的光谱应和湿膜内光引发体系的光谱相匹配,并被其所利用,这是最基本的应用原理。通常,UV灯管说明书上均有光谱... 一、UV光源的选择 不同品牌的湿膜对UV光源的选择也有差异,而UV灯的差别尤为突出。 1.光谱匹配的峰值。曝光灯所发射的光谱应和湿膜内光引发体系的光谱相匹配,并被其所利用,这是最基本的应用原理。通常,UV灯管说明书上均有光谱图、标识和峰值,而湿膜说明书上极少有峰值的标示,只是告知毫焦数的范围或感光级数。使用湿膜时只有获得正确的曝光能量,才能满足曝光级数,所以对购进的每一批号的湿膜进行试曝光是非常必要的。 展开更多
关键词 uv光源 湿膜 应用 光谱匹配 光引发体系 曝光灯 说明书 uv
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UV油墨与UV光源的匹配
5
作者 刘斌辉 《印刷杂志》 2001年第2期46-47,共2页
关键词 uv油墨 uv光源 匹配 印刷
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ASML选择Cymer公司EUV光源
6
作者 Aaron Hand 《集成电路应用》 2007年第11期30-30,共1页
伴随着大量的新闻发布,Cmer公司在SEMICON West2007期间宣布其在极紫外线(EUV)光刻光源上的成功。光刻设备供应商ASML已经选择Cymer公司的极紫外线光源用于量产设备,并签署了一份长达多年的多项目协议,计划在2008年底首次供货。
关键词 uv光源 SEMICON 紫外线光源 设备供应商 新闻发布 光刻
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激光等离子体EUV光源令人期待
7
作者 Aaron Hand 《集成电路应用》 2007年第9期30-30,共1页
虽然近来放电等离子体(DPP)光源被认为是极紫外(EUV)光刻beta工具的最强有力的候选者,但是根据最近由Sematech在Baltimore,Md.主办的EUV光源研讨会(EUV Source Workshop)上的科学家们的观点,激光等离子体(LPP)光源似乎正在... 虽然近来放电等离子体(DPP)光源被认为是极紫外(EUV)光刻beta工具的最强有力的候选者,但是根据最近由Sematech在Baltimore,Md.主办的EUV光源研讨会(EUV Source Workshop)上的科学家们的观点,激光等离子体(LPP)光源似乎正在取得进展。 展开更多
关键词 激光等离子体 uv光源 放电等离子体 SOURCE BETA 极紫外 科学家 光刻
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EUV光源
8
《集成电路应用》 2009年第6期45-45,共1页
EQ—10HR是满足高量产EUV光刻的光源,工作频率为10kHz。无电极z箍缩通过感应耦合连接电流与放电等离子体,使得等离子体更加稳定可控。
关键词 uv光源 放电等离子体 Euv光刻 工作频率 耦合连接 Z箍缩 无电极
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准火花隙高速低压UV光源
9
作者 史永基 史建军 史红军 《中国照明电器》 2002年第2期5-8,共4页
描述一种具有高速低压特征的准火花隙UV光源的设计和制造方法。该光源的运转频率高达2 5kHz ,而脉冲电压仅为 2 8V ,光子脉冲上升时间小于 10ns ,可以快速触发和同步 ,是一种有效的紫外点光源 ,已用于微微秒CO2 激光器系统的触发器。
关键词 准火花隙 uv光源 微微秒激光脉冲
原文传递
IMEC利用配备LA—DPP光源的EUV曝光装置成功曝光晶圆
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《中国集成电路》 2011年第8期4-5,共2页
IMEC宣布,成功利用ASML的EUV(extreme ultraviolet)曝光装置NXE:3100进行曝光。该EUV曝光装置配备了日本牛尾电机的全资子公司德国XTREME technologies GmbH公司生产的LA—DPP(laser assisted discharge produced plasma)方式EUV... IMEC宣布,成功利用ASML的EUV(extreme ultraviolet)曝光装置NXE:3100进行曝光。该EUV曝光装置配备了日本牛尾电机的全资子公司德国XTREME technologies GmbH公司生产的LA—DPP(laser assisted discharge produced plasma)方式EUV光源。 展开更多
关键词 曝光装置 uv光源 Euv LA 配备 利用 DPP 晶圆
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Cymer专注于DUV/EUV光刻光源
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《集成电路应用》 2008年第5期16-16,共1页
随着半导体设计规则的紧缩,在65nm及更高节点,浸没式光刻和EUV被认为是获得更小节距的可选择方案,出于技术极限和成本的考量,在实现量产上光刻技术面临极大挑战,其中之一来自于光刻光源。Cymer作为光源领域的领先供应商,目前提供... 随着半导体设计规则的紧缩,在65nm及更高节点,浸没式光刻和EUV被认为是获得更小节距的可选择方案,出于技术极限和成本的考量,在实现量产上光刻技术面临极大挑战,其中之一来自于光刻光源。Cymer作为光源领域的领先供应商,目前提供DUV及EUV光源。 展开更多
关键词 Euv光刻 uv光源 光刻技术 设计规则 半导体 可选择 浸没式 供应商
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EUV光刻技术进展 被引量:10
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作者 占平平 刘卫国 《科技信息》 2011年第21期I0044-I0044,I0418,共2页
极紫外光刻(Extreme Ultraviolet Lithography),是以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源,EUV技术最明显的特点是曝光波长一下子降到13.5nm,它能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸。本文介绍了EUV的光刻原理和EUV光源的选择,以及EUV... 极紫外光刻(Extreme Ultraviolet Lithography),是以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源,EUV技术最明显的特点是曝光波长一下子降到13.5nm,它能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸。本文介绍了EUV的光刻原理和EUV光源的选择,以及EUV对掩膜版和光刻胶的技术要求,以及EUV的发展趋势。 展开更多
关键词 极紫外光刻 uv光源 掩模 光刻胶
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高性能UV色浆在紫外光固化涂料中的应用 被引量:4
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作者 王兆华 金琳 +2 位作者 袁哲 陈雄伟 刘树华 《中国涂料》 CAS 2018年第6期16-22,共7页
简要介绍了UV涂料组成及其固化,着重介绍了高性能UV色浆的组成及其应用,探讨了光引发剂、辐射光源、颜色对UV涂料固化的影响程度。
关键词 uv色浆 光引发剂 uv光源 uv固化
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巴斯夫涂料汽车修补漆计划2008年推UV固化新品
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《中国涂料》 CAS 2008年第1期I0014-I0014,共1页
巴斯夫涂料旗下的汽车修补漆品牌Glasurit,计划在2008年初推出该品牌下一套全新的UV固化技术汽车修补漆产品,其中包括UV固化车身厚浆修补涂料、UV底漆厚浆修补涂料以及UV固化清漆以及UV固化涂料基料。巴斯夫的研发中心同样对UV涂装工... 巴斯夫涂料旗下的汽车修补漆品牌Glasurit,计划在2008年初推出该品牌下一套全新的UV固化技术汽车修补漆产品,其中包括UV固化车身厚浆修补涂料、UV底漆厚浆修补涂料以及UV固化清漆以及UV固化涂料基料。巴斯夫的研发中心同样对UV涂装工艺需要的UV光源设备和技术进行了开发。 展开更多
关键词 uv固化技术 汽车修补漆 修补涂料 巴斯夫 涂料基料 uv光源 涂装工艺 研发中心
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关于UV光信息转移的技术研究
15
作者 王春霞 《中国包装》 2018年第9期61-64,共4页
UV光信息转移的技术研究,主要针对UV油墨的特点、组成和各成分的作用;UV油墨与基材如何更好的结合;UV光源系统;光信息转移的原理及研制出的设备;UV光信息转移研制过程中解决的问题。通过对UV光信息技术的研究,已制作出较好的光学全息防... UV光信息转移的技术研究,主要针对UV油墨的特点、组成和各成分的作用;UV油墨与基材如何更好的结合;UV光源系统;光信息转移的原理及研制出的设备;UV光信息转移研制过程中解决的问题。通过对UV光信息技术的研究,已制作出较好的光学全息防伪膜,并在包装印刷和防伪领域做了推广应用。 展开更多
关键词 uv油墨 uv光源 光信息转移 uv固化
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UV油墨的后固化特性知多少?
16
作者 傅强 《标签技术》 2022年第1期44-44,共1页
在标签印刷行业中,UV油墨是标签印刷企业常用油墨之一,UV油墨固化干燥问题自然也备受大家的关注。目前,随着LED-UV光源在市场上的普及应用,UV油墨的固化质量、速率得到大幅提高,然而UV油墨的后固化特性却依然是操作者、质检人员应该注... 在标签印刷行业中,UV油墨是标签印刷企业常用油墨之一,UV油墨固化干燥问题自然也备受大家的关注。目前,随着LED-UV光源在市场上的普及应用,UV油墨的固化质量、速率得到大幅提高,然而UV油墨的后固化特性却依然是操作者、质检人员应该注意的问题。本文,笔者继续和大家以案例的形式来分享,通过观察印刷样品在不同时间段的固化效果。 展开更多
关键词 uv油墨 标签印刷 固化特性 固化效果 质检人员 uv光源 普及应用
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UVCTP,技术成熟带来稳定的市场
17
作者 赵沐栋 《中国印刷》 2018年第4期55-58,共4页
UVCTP也叫CTcP,是ComputerToConventionalPlate的英文缩写,是指使朋UV光源在传统PS版材上进行计算机直接制版的设备,以能够使用普通PS版材的优势进入印刷行业,沿用传统紫外光岍版的基本成像原理,光源基本没有改变。
关键词 技术成熟 计算机直接制版 市场 稳定 PS版材 uv光源 CTCP 英文缩写
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简谈UV油墨的使用
18
作者 周文书 《包装世界》 2002年第4期40-40,共1页
UV油墨是近年来迅速发展的一种环保型油墨,它以瞬间固化(干燥)、不含挥发性溶剂、应用简单方便等迅速占领市场.UV油墨包括UV磨砂、UV冰花、UV发泡、UV皱纹、UV凸字、UV折光、UV宝石、UV光固色墨、UV上光油等特种包装油墨在具有金属镜面... UV油墨是近年来迅速发展的一种环保型油墨,它以瞬间固化(干燥)、不含挥发性溶剂、应用简单方便等迅速占领市场.UV油墨包括UV磨砂、UV冰花、UV发泡、UV皱纹、UV凸字、UV折光、UV宝石、UV光固色墨、UV上光油等特种包装油墨在具有金属镜面光泽的承印物表面,采用丝网印刷工艺手段将UV油墨印在其表面上,经紫外线干燥设备光照处理后,产生一种别具一格的视觉效果,显得高雅、庄重、华贵.产品主要应用于高档、精美别致的烟、酒、化妆品、保健品、食品、药品等包装印刷. 展开更多
关键词 印刷油墨 uv光源 uv油墨 使用
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UVCTP:新常态下降本增效的利器
19
作者 俞江 《中国印刷》 2017年第5期69-74,共6页
UVCTP解决了CTP普及过程中存在的版材价格高等问题,同时也为数字印前制版业的发展开拓了另一片蓝海,奠定了平民化发展的基石。UVCTP也叫CTcP,是Computer To Conventional Plate的英文缩写,是指使用uV光源在传统Ps版材上进行计算机... UVCTP解决了CTP普及过程中存在的版材价格高等问题,同时也为数字印前制版业的发展开拓了另一片蓝海,奠定了平民化发展的基石。UVCTP也叫CTcP,是Computer To Conventional Plate的英文缩写,是指使用uV光源在传统Ps版材上进行计算机直接制版的设备,以能够使用普通PS版材的优势进入印刷行业,沿用传统紫外光晒版的基本成像原理,光源基本没有改变。但是减少传统工艺中的出胶片,人工拼版和晒版等工艺,可节省耗材等相关费用。 展开更多
关键词 降本增效 计算机直接制版 传统工艺 PS版材 uv光源 印前制版 CTCP 英文缩写
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适用于LED光固化体系的光引发剂的研究进展 被引量:15
20
作者 简凯 李东兵 +2 位作者 胡春青 杨金梁 聂俊 《涂料工业》 CAS CSCD 北大核心 2016年第10期75-82,87,共9页
光引发剂的吸收光谱与灯源的发射光谱是否匹配直接影响光引发体系的效率,目前,商业化的光引发剂只有部分适用于LED光聚合体系。为了更好地将LED技术应用在光聚合领域中,对在LED光源的辐照下具有较好引发效率的光引发剂或光引发体系进行... 光引发剂的吸收光谱与灯源的发射光谱是否匹配直接影响光引发体系的效率,目前,商业化的光引发剂只有部分适用于LED光聚合体系。为了更好地将LED技术应用在光聚合领域中,对在LED光源的辐照下具有较好引发效率的光引发剂或光引发体系进行研究非常有意义。本研究重点论述了适用于LED光固化体系的光引发剂或光引发体系的研究现状及最新研究进展。 展开更多
关键词 光聚合技术 uv光源 LED光固化 光引发剂
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