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Nano-precision combined process of electrolytic in-process dressing grinding and magnetic assisted polishing on optics glass material 被引量:1
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作者 Tae-Soo KWAK Yong-Chul LEE +3 位作者 Gyung-Nyun KIM Dae-Bong CHOI Mikio YAMANOI Hitoshi OHMORI 《中国有色金属学会会刊:英文版》 CSCD 2009年第B09期301-306,共6页
This study is focused on the application of an effective fabrication method combining electrolytic in-process dressing(ELID) grinding and magnetic assisted polishing(MAP) to nano-precision mirror surface grinding on t... This study is focused on the application of an effective fabrication method combining electrolytic in-process dressing(ELID) grinding and magnetic assisted polishing(MAP) to nano-precision mirror surface grinding on the optics glass-ceramic named Zerodure that is commonly used in precision optics components. The results show the variation of surface roughness after MAP processes utilizing Fe+CeO2, Fe+CeO2+diamond paste and Fe+diamond paste are applied to ELID ground surfaces. The MAP surface roughnesses for ELID ground surface roughnesses(Ra) of 52.1, 39.8 and 51.1 nm using #1200 grinding wheel are improved to 6.1, 4.6 and 1.9 nm, respectively. The surface roughness of MAP process using Fe+CeO2+diamond paste is superior to that using other processes. Moreover, it takes less than 10 min to conduct the MAP processes. The combined method suggested effectively reduces the working time to get the required surface qualities. 展开更多
关键词 在线电解修整 光学玻璃 纳米相 抛光材料 电解过程 表面粗糙度 地面粗糙度 磨削
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Mathematical model determination for improvement of surface roughness in magnetic-assisted abrasive polishing of nonferrous AISI316 material
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作者 Jae-Seob KWAK 《中国有色金属学会会刊:英文版》 CSCD 2012年第S3期845-850,共6页
The new magnetic-assisted abrasive polishing process for non-ferrous materials was proposed in order to increase the magnetic flux density which directly influences the contact force between the workpiece and the abra... The new magnetic-assisted abrasive polishing process for non-ferrous materials was proposed in order to increase the magnetic flux density which directly influences the contact force between the workpiece and the abrasives.The permanent magnets were installed under the workpiece and their effects were verified by the experiments.The effect of polishing factors on the improvement of surface roughness was evaluated based on the Taguchi experimental method,and the optimal conditions for polishing AISI316 stainless steel were determined.The predicting model for improving surface roughness was developed and the validity of the developed model was tested.The results show that the permanent magnets are very useful in improving the surface roughness in the magnetic-assisted abrasive polishing process. 展开更多
关键词 nonferrous metals surface analysis magnetic-assisted ABRASIVE polishing process contact force
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熔石英元件磁性复合流体抛光去除特性研究
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作者 叶卉 李壮 +2 位作者 王健 姜晨 孙来喜 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2024年第7期214-225,共12页
基于磁性复合流体(Magnetic Compound Fluid,MCF)抛光技术开展了熔石英元件抛光工艺研究,对比了传统MCF和超声辅助MCF(以下简称UMCF)抛光对熔石英材料去除特性的影响,探究了不同抛光时间下MCF和UMCF抛光对熔石英材料去除量/去除率和表... 基于磁性复合流体(Magnetic Compound Fluid,MCF)抛光技术开展了熔石英元件抛光工艺研究,对比了传统MCF和超声辅助MCF(以下简称UMCF)抛光对熔石英材料去除特性的影响,探究了不同抛光时间下MCF和UMCF抛光对熔石英材料去除量/去除率和表面粗糙度的影响,并构建了与抛光应力和抛光时间有关的材料去除率模型。研究结果表明,相较于传统MCF,UMCF在提高材料去除率和降低表面粗糙度方面均有优势。两种抛光方式下材料去除机制均为弹塑性去除,UMCF抛光获得的表面粗糙度相比于MCF抛光优化了68.88%。由于流体动压力和超声振动压力的联合作用,UMCF抛光材料去除率最高可达5.74×10^(-3)mm^(3)/min,相比于MCF抛光提升了4.04倍。MCF和UMCF抛光材料去除率与抛光应力和抛光时间均呈现幂函数相关性,且在UMCF抛光中抛光应力对去除率的影响权重大于MCF抛光。 展开更多
关键词 磁性复合流体抛光 超声振动辅助 材料去除率 粗糙度 抛光应力
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钴铬钼合金超声振动辅助抛光力与表面质量的探究
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作者 于保军 吴爽 +2 位作者 辛成磊 贾茹 谷岩 《机械科学与技术》 CSCD 北大核心 2024年第3期497-503,共7页
针对钴铬钼合金的难加工性,采用超声振动辅助抛光的加工方法改善其加工效果。根据超声振动装置的运动特性,分析了单磨粒运动速度、单磨粒与工件接触轨迹坐标和单磨粒受力,建立了抛光系统的抛光力预测模型,讨论了主轴转速、进给速度和抛... 针对钴铬钼合金的难加工性,采用超声振动辅助抛光的加工方法改善其加工效果。根据超声振动装置的运动特性,分析了单磨粒运动速度、单磨粒与工件接触轨迹坐标和单磨粒受力,建立了抛光系统的抛光力预测模型,讨论了主轴转速、进给速度和抛光深度对钴铬钼合金表面质量的影响并用实验验证了预测模型的合理性。结果表明:抛光力预测模型和实验的变化趋势一致,抛光力随着主轴转速和抛光深度的增大而增大,随着进给速度的增大而减小。本研究将为超声振动辅助抛光工艺提供理论基础。 展开更多
关键词 超声振动辅助抛光 钴铬钼合金 抛光力 表面质量
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振动辅助抛光装置设计与性能研究
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作者 刘亚梅 张森 +1 位作者 谷岩 周佰通 《机床与液压》 北大核心 2024年第16期99-107,共9页
为了解决传统抛光技术及机床在过程中存在的加工效率低、表面质量差、周期性抛光纹理等问题,基于柔性机构理论,采用中心对称的方式,设计一个二维振动辅助装置;基于柔度矩阵法,建立二维振动辅助装置的理论模型。对二维振动辅助装置进行... 为了解决传统抛光技术及机床在过程中存在的加工效率低、表面质量差、周期性抛光纹理等问题,基于柔性机构理论,采用中心对称的方式,设计一个二维振动辅助装置;基于柔度矩阵法,建立二维振动辅助装置的理论模型。对二维振动辅助装置进行性能测试及有限元仿真。结果表明:此装置的最大行程约为46μm,放大比约为1.21,固有频率约为933 Hz,耦合误差率约为2.5%,最大应力不超过83 MPa,输入刚度为23.52 N/μm,输出刚度为12.29 N/μm。并通过振动辅助加工实验及有限元仿真,证明了振动辅助抛光装置具有改善实际抛光效果的能力。 展开更多
关键词 振动辅助抛光装置 柔性铰链 有限元分析 性能测试 抛光实验
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基于磁性复合磨粒的磁流变抛光试验研究
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作者 李伊伦 魏镜弢 +1 位作者 吕彤辉 吴张永 《兵器材料科学与工程》 CAS CSCD 北大核心 2024年第2期1-8,共8页
针对铝合金磁流变抛光过程中出现的磨粒分布不均,提出基于二氧化硅包覆四氧化三铁(Fe_(3)O_(4)@SiO_(2))壳核结构磁性复合磨粒的化学辅助磁流变抛光工艺。用溶胶-凝胶法制备Fe_(3)O_(4)@SiO_(2)磁性复合磨粒,通过X射线衍射(XRD)、傅里... 针对铝合金磁流变抛光过程中出现的磨粒分布不均,提出基于二氧化硅包覆四氧化三铁(Fe_(3)O_(4)@SiO_(2))壳核结构磁性复合磨粒的化学辅助磁流变抛光工艺。用溶胶-凝胶法制备Fe_(3)O_(4)@SiO_(2)磁性复合磨粒,通过X射线衍射(XRD)、傅里叶变换红外光谱(FT-IR)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、X射线电子能谱仪(EDS)及振动样品磁强计(VSM)对其进行表征。进行6061铝合金平面材料的单因素抛光试验,研究主轴转速、抛光间隙、进给速度及抛光时间等对表面质量的影响。结果表明:主轴转速为600 r/min、抛光间隙为3 mm、进给速度为80 mm/min、抛光时间为40 min是最优参数组,在此参数下抛光6061铝合金,获得了Ra=0.02μm的超光整表面。对比同参数下传统磁流变抛光后的铝合金表面,因磨粒分布不均导致的表面细小划痕得到改善。 展开更多
关键词 铝合金 磁性复合磨粒 化学辅助磁流变抛光 抛光工艺参数 表面质量
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碳化硅衬底磨抛加工技术的研究进展与发展趋势
7
作者 罗求发 陈杰铭 +1 位作者 程志豪 陆静 《湖南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第4期140-152,共13页
碳化硅衬底难加工的材料特性叠加其大尺寸化、超薄化的放大效应,给现有的加工技术带来了巨大的挑战,高效率、高质量的碳化硅衬底加工技术成了当下的研究热点.本文综述了碳化硅衬底机械磨抛加工技术和化学反应磨抛加工技术的研究进展,对... 碳化硅衬底难加工的材料特性叠加其大尺寸化、超薄化的放大效应,给现有的加工技术带来了巨大的挑战,高效率、高质量的碳化硅衬底加工技术成了当下的研究热点.本文综述了碳化硅衬底机械磨抛加工技术和化学反应磨抛加工技术的研究进展,对比各类磨抛技术的特点,指出碳化硅衬底磨抛加工技术面临的挑战和发展趋势,以期为大尺寸碳化硅衬底的高质量、高效率、低成本加工提供新的思路和方法. 展开更多
关键词 碳化硅 表面粗糙度 机械磨抛技术 化学反应磨抛技术 多能场辅助磨抛技术
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单晶SiC的化学机械抛光及辅助技术的研究进展
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作者 张佩嘉 雷红 《上海大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2024年第2期289-298,共10页
由于单晶碳化硅(SiC)的传统化学机械抛光(chemical mechanical polishing,CMP)技术加工效率低,故提高SiC表面质量和材料去除率成为研究热点.总结了CMP中抛光液的主要成分,比较了CMP辅助抛光技术对单晶SiC抛光性能和作用机理的影响,并对... 由于单晶碳化硅(SiC)的传统化学机械抛光(chemical mechanical polishing,CMP)技术加工效率低,故提高SiC表面质量和材料去除率成为研究热点.总结了CMP中抛光液的主要成分,比较了CMP辅助抛光技术对单晶SiC抛光性能和作用机理的影响,并对单晶SiC-CMP技术的未来发展进行了展望. 展开更多
关键词 碳化硅 化学机械抛光 CMP辅助技术 抛光速率
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不锈钢振动辅助力流变抛光 被引量:1
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作者 邵琦 邵蓝樱 +4 位作者 郁炜 王金虎 赵萍 吕冰海 袁巨龙 《哈尔滨工业大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第1期142-150,共9页
为进一步提高力流变抛光效率与抛光质量,提出振动辅助力流变抛光方法。对不锈钢振动辅助力流变抛光加工过程中,工件材料去除过程及不同工艺参数对抛光特性影响进行研究。基于振动辅助力流变抛光原理及试验,以材料去除率和表面粗糙度为... 为进一步提高力流变抛光效率与抛光质量,提出振动辅助力流变抛光方法。对不锈钢振动辅助力流变抛光加工过程中,工件材料去除过程及不同工艺参数对抛光特性影响进行研究。基于振动辅助力流变抛光原理及试验,以材料去除率和表面粗糙度为评价条件,分析了抛光速度、振动频率和振幅3个关键参数对抛光影响规律。基于田口法设计试验,采用信噪比评估试验结果并得出优化的工艺参数,通过方差分析法得出各因素的权重。结果表明:抛光速度对材料去除率影响最大,振幅次之,振动频率影响最小;抛光速度对表面粗糙度影响最大,振动频率次之,振幅影响最小。在优选的抛光参数组合下,抛光速度40 r·min^(-1)、振幅0.35 mm、振动频率80 Hz,加工30 min后工件表面粗糙度由(80±10)nm下降至(7.1±0.9)nm,其材料去除率达到68 nm·min^(-1)。受振动的抛光液中粒子间发生相对相位差并形成一定的剪切速率,使抛光液产生流变效应并把持游离磨粒。在相对运动作用下对工件表面施加压力及剪切力,以塑性去除方式实现不锈钢材料去除。利用所提方法,在优化工艺参数下可有效去除不锈钢表面划痕,提高表面质量。 展开更多
关键词 振动辅助 力流变抛光 去除过程 材料去除率 表面粗糙度
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超声振动辅助抛光BK7过程中聚氨酯抛光垫磨损行为 被引量:2
10
作者 梁赢东 牛俊开 +1 位作者 张超 于天彪 《东北大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第1期82-88,共7页
抛光光学玻璃等硬脆材料时常选用聚氨酯抛光垫,其微观形貌和磨损直接影响抛光精度和效率.本文对不同抛光时长下聚氨酯抛光垫微观形貌和磨损行为及其对材料去除率和表面粗糙度的影响进行了实验研究.结果表明:当主轴转速为8000 r/min,进... 抛光光学玻璃等硬脆材料时常选用聚氨酯抛光垫,其微观形貌和磨损直接影响抛光精度和效率.本文对不同抛光时长下聚氨酯抛光垫微观形貌和磨损行为及其对材料去除率和表面粗糙度的影响进行了实验研究.结果表明:当主轴转速为8000 r/min,进给速度为0.0150 mm/s,轴向超声振幅为5μm时,材料去除率和表面粗糙度分别为0.977μm/min和153.67 nm.聚氨酯抛光垫在30 min内磨损量较小,随着抛光时长的增加,抛光垫表面孔隙逐渐被磨粒和玻璃碎屑填充,破坏抛光垫表面的疏松多孔结构,导致抛光垫表面硬化,失去弹性.同时,侵入抛光垫表面的磨粒会阻止抛光接触区域内的磨粒更新,导致抛光质量降低. 展开更多
关键词 超声振动辅助抛光 微观形貌:抛光垫磨损 光学玻璃(BK7) 聚氨酯抛光垫
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磁场辅助剪切增稠流体抛光硬质合金刀片的仿真与实验研究 被引量:1
11
作者 李鸿宇 黄向明 +3 位作者 明阳 李希扬 曾清 周东栋 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第6期650-659,共10页
为了提高硬质合金刀片磨削后的表面质量,提出了一种用于硬质合金刀片抛光的新方法——磁场辅助剪切增稠流体抛光。介绍了该抛光方法的基本原理,配制抛光液并进行流变特性的测试与分析,基于流变测试结果,获得了抛光液的优化配制方案。通... 为了提高硬质合金刀片磨削后的表面质量,提出了一种用于硬质合金刀片抛光的新方法——磁场辅助剪切增稠流体抛光。介绍了该抛光方法的基本原理,配制抛光液并进行流变特性的测试与分析,基于流变测试结果,获得了抛光液的优化配制方案。通过ANSYS FLUENT模块获得不同放置方式下工件表面的流场状态,分析在不同抛光速度与磁感应强度下工件表面的动压力与剪切应力分布情况,确定了工件的放置方式和加工参数。建立抛光实验平台,通过抛光实验探究了抛光速度、磁感应强度等工艺参数对表面粗糙度与材料去除率的影响规律。实验结果表明:刀片表面粗糙度Ra随着抛光速度的增大而降低,但磁感应强度对表面粗糙度影响不明显;工件表面抛光液的剪切应力和速度的乘积与材料去除率成正相关性。通过优化抛光工艺参数(工件竖直放置、抛光速度100 r/min、磁感应强度30 mT),可以获得刀片表面粗糙度Ra=15 nm的超精密加工表面,以及11.1μm/h的高材料去除率。 展开更多
关键词 硬质合金刀片 磁场辅助剪切增稠抛光 流变特性 表面质量 材料去除率
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TA1纯钛毛细管化学辅助磁性复合流体抛光实验研究
12
作者 薛玉峰 张文韬 +3 位作者 武韩强 孙旭 郑旸轲 吴勇波 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2023年第6期657-667,共11页
对医用TA1纯钛毛细管内表面进行镜面抛光,有助于减小检测样本残留、提高毛细管移液精度,从而提高体外诊断设备的检测精度与可靠性。针对纯钛毛细管内表面质量差、材质难抛光的问题,提出一种新型化学辅助磁性复合流体抛光方法,将化学氧... 对医用TA1纯钛毛细管内表面进行镜面抛光,有助于减小检测样本残留、提高毛细管移液精度,从而提高体外诊断设备的检测精度与可靠性。针对纯钛毛细管内表面质量差、材质难抛光的问题,提出一种新型化学辅助磁性复合流体抛光方法,将化学氧化与机械去除相结合,实现对毛细管内表面的高效精密抛光。采用单因素实验探究抛光液中的铁粉质量、过氧化氢质量分数与苹果酸质量分数对毛细管内表面材料去除率和粗糙度的影响,获得最佳抛光参数;检测在抛光过程中毛细管内表面的材料去除与元素变化,分析该技术用于纯钛毛细管内表面的综合抛光效果。结果表明:在铁粉质量为2 mg、过氧化氢质量分数为7.2%、苹果酸质量分数为6%的条件下抛光90 min后,纯钛毛细管内表面粗糙度由R_(a)675 nm降至R_(a)75 nm,无原始裂隙的平整抛光区域粗糙度低至R_(a)19.5 nm,材料去除深度达28μm,原始表面的细微裂痕被基本去除,粗壮裂隙减小;抛光过程没有引入其他元素。 展开更多
关键词 化学辅助磁性复合流体抛光 TA1纯钛毛细管 内表面 粗糙度
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磁流变抛光技术 被引量:64
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作者 张峰 余景池 +1 位作者 张学军 王权陡 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 1999年第5期1-8,共8页
对磁介质辅助抛光技术20 年来的发展作了简要的回顾,进而介绍了磁流变抛光技术的产生和发展背景、抛光机理及微观解释、数学模型,同时提出了这种抛光技术的关键所在,并对其发展未来进行了展望。
关键词 磁介质辅助抛光 磁流变抛光 磁流变抛光液 抛光
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基于CAM的机器人抛光轨迹规划 被引量:12
14
作者 韩光超 孙明 +1 位作者 张海鸥 王桂兰 《华中科技大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第5期60-62,共3页
在快速制造金属模具工艺中,采用工业机器人对具有复杂形状的模具型腔进行抛光加工,开发了基于CAM软件模块的机器人抛光轨迹自动规划系统.该系统利用UG CAM软件中的多轴铣加工功能模块获得型腔的表面信息,然后采用辅助区域驱动法在复杂... 在快速制造金属模具工艺中,采用工业机器人对具有复杂形状的模具型腔进行抛光加工,开发了基于CAM软件模块的机器人抛光轨迹自动规划系统.该系统利用UG CAM软件中的多轴铣加工功能模块获得型腔的表面信息,然后采用辅助区域驱动法在复杂型腔表面映射生成连续的多轴数控加工轨迹,然后根据抛光工艺要求调节工艺参数,并将多轴数控加工轨迹转化成机器人抛光加工轨迹.实验结果表明,该系统所生成的抛光轨迹可满足面向复杂模具型腔的机器人抛光加工要求. 展开更多
关键词 计算机辅助制造 抛光 工业机器人 轨迹规划 辅助区域 映射
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单晶碳化硅晶片高效超精密抛光工艺 被引量:9
15
作者 何艳 苑泽伟 +1 位作者 段振云 张幼军 《哈尔滨工业大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第1期115-121,共7页
为改善现有碳化硅抛光方法存在的效率低、有污染、损伤大等问题,提出采用机械研磨与光催化辅助化学机械抛光组合工艺抛光单晶碳化硅晶片.光催化辅助化学机械抛光利用纳米二氧化钛在紫外光照射下生成羟基自由基的强氧化作用原子级去除碳... 为改善现有碳化硅抛光方法存在的效率低、有污染、损伤大等问题,提出采用机械研磨与光催化辅助化学机械抛光组合工艺抛光单晶碳化硅晶片.光催化辅助化学机械抛光利用纳米二氧化钛在紫外光照射下生成羟基自由基的强氧化作用原子级去除碳化硅.通过L9(33)正交试验研制光催化辅助化学机械抛光抛光液,采用对碳化硅晶片表面粗糙度跟踪检测的方法确定优化加工工艺.甲基紫有机显色剂静态氧化试验结果表明:光催化剂对抛光液氧化性的影响最大,其次是电子俘获剂,再次是分散剂;较好的抛光液配方为二氧化钛0.5 g獉L-1、过氧化氢1.5 mol獉L-1、六偏磷酸钠0.1 g獉L-1.确定的优化抛光工艺为:采用5μm和2μm金刚石微粉分别研磨单晶碳化硅晶片30 min,材料去除率分别为8.72μm/h和4.56μm/h;然后采用光催化辅助化学机械抛光单晶碳化硅去除机械研磨带来的损伤,粗抛光选用0.5μm氧化铝微粉抛光60 min,精抛光选用0.05μm氧化铝微粉抛光50 min,粗抛光和精抛光的材料去除率分别为1.81μm/h和1.03μm/h.用该工艺抛光单晶碳化硅,获得的表面粗糙度约为0.47 nm,基本能满足单晶碳化硅高效、超光滑、低损伤的抛光要求. 展开更多
关键词 碳化硅 抛光液 机械研磨 光催化辅助化学机械抛光 抛光工艺
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球形磁铁在弯管内表面磁力研磨中的应用 被引量:37
16
作者 韩冰 邓超 陈燕 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第6期565-570,共6页
空间弯管内表面微裂纹用传统的研磨方法难以去除.利用六自由度机械手结合磁力研磨加工装置实现空间弯管内表面研磨加工.为了提高磁力研磨弯管内表面的加工效率,根据研磨工艺数学模型分析得到提高研磨压力是提高研磨效率的有效手段.因此... 空间弯管内表面微裂纹用传统的研磨方法难以去除.利用六自由度机械手结合磁力研磨加工装置实现空间弯管内表面研磨加工.为了提高磁力研磨弯管内表面的加工效率,根据研磨工艺数学模型分析得到提高研磨压力是提高研磨效率的有效手段.因此,提出在研磨介质中添加球形磁铁作为辅助抛光工具提高研磨介质对弯管内表面的压力.通过Ansoft Maxwell软件分析得到添加球形磁铁后加工区域的磁感应强度增大,即研磨压力变大.并对TB8合金弯管进行研磨试验,试验结果表明添加球形磁铁后研磨加工效率提高约40%;表面粗糙度降至0.09μm左右,并通过电子显微镜观察到内表面上的微裂纹已去除.实验验证了球形磁铁辅助研磨弯管内表面的可行性,为提高磁力研磨加工效率提供了一种新方法. 展开更多
关键词 磁力研磨 球形磁铁 辅助抛光 弯管 研磨效率
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KDP晶体超声辅助磨削的亚表面损伤研究 被引量:14
17
作者 王强国 高航 +3 位作者 裴志坚 鲁春朋 王碧玲 滕晓辑 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期67-71,共5页
通过采用角度抛光和逐层抛光法以及择优化学腐蚀,对基于超声辅助磨削的KDP晶体试件进行亚表面损伤形式观察以及损伤深度检测,以便为后续加工提供指导。损伤检测实验表明:在超声辅助磨削工艺条件下,亚表面损伤以与磨粒运动方向平行的中... 通过采用角度抛光和逐层抛光法以及择优化学腐蚀,对基于超声辅助磨削的KDP晶体试件进行亚表面损伤形式观察以及损伤深度检测,以便为后续加工提供指导。损伤检测实验表明:在超声辅助磨削工艺条件下,亚表面损伤以与磨粒运动方向平行的中位裂纹为主,且裂纹间距具有一定的规律性;亚表面损伤深度为19~48μm,磨头形状(有无倒角)较之磨头磨粒粒度对亚表面损伤深度具有更大的影响,使用有倒角的磨头可得最小亚表面损伤。 展开更多
关键词 KDP晶体 磨削 超声辅助加工 亚表面损伤 角度抛光
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热辅助纳秒脉冲激光抛光试验研究 被引量:3
18
作者 姜长城 袁建东 +3 位作者 成海东 林新贵 易根苗 梁良 《机电工程》 CAS 北大核心 2021年第5期617-622,共6页
为提升纳秒脉冲激光抛光加工的质量及效率,对基于热辅助的纳秒脉冲激光抛光开展了试验研究。定性分析了工件热辅助对激光抛光的热影响;以通过增材制造的Ti-6Al-4V原始表面为试验对象,利用共焦显微镜、扫描电子显微镜和能谱仪,对在不同... 为提升纳秒脉冲激光抛光加工的质量及效率,对基于热辅助的纳秒脉冲激光抛光开展了试验研究。定性分析了工件热辅助对激光抛光的热影响;以通过增材制造的Ti-6Al-4V原始表面为试验对象,利用共焦显微镜、扫描电子显微镜和能谱仪,对在不同激光能量密度及补偿温度下抛光后的表面及横截面进行了分析,揭示了工件补偿温度、激光能量及表面加工质量间的关系;进一步利用维氏硬度计测量了其维氏硬度,分析了重结晶层及熔融层对表面硬度的影响规律。研究结果表明:在较高的补偿温度下,热辅助激光抛光获得与无热辅助条件下相似的表面粗糙度只需较低的能量密度;这也表明了在相同的激光输出功率下,热辅助激光抛光补偿温度越高,加工速度越高,其抛光效率也会得到有效提升。 展开更多
关键词 热辅助激光加工 激光抛光 表面质量 钛合金
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新型电流变抛光工具开发及其抛光实验 被引量:6
19
作者 张雷 贺新升 +1 位作者 张莹 杨赫然 《吉林大学学报(工学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第4期1009-1014,共6页
针对当前电流变抛光研究中所用尖锥状工具要求抛光间隙为μm级、对设备定位精度要求高及抛光非导体需加辅助电极等不足,研制了一种新型的电流变抛光工具——集成电极工具。介绍了集成电极工具的结构,并对其电场分布进行了计算。新工具... 针对当前电流变抛光研究中所用尖锥状工具要求抛光间隙为μm级、对设备定位精度要求高及抛光非导体需加辅助电极等不足,研制了一种新型的电流变抛光工具——集成电极工具。介绍了集成电极工具的结构,并对其电场分布进行了计算。新工具不仅可以抛光导体工件,而且也可以抛光非导体工件。工具与工件之间的抛光间隙可以大到mm数量级。以碳化钨(WC)和光学玻璃为对象,分别进行了抛光实验,并通过单因素实验给出了电压、转速、磨料浓度、抛光时间等因素与表面粗糙度的关系曲线。实验结果表明:抛光10min后,WC的表面粗糙度由Ra66.48nm下降到Ra33.18nm;光学玻璃的表面粗糙度由Ra11.02nm下降到Ra3.67nm。 展开更多
关键词 机械制造与自动化 刀具技术 电流变抛光 集成电极工具 表面粗糙度
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熔石英玻璃高效低缺陷磁辅助抛光 被引量:4
20
作者 叶卉 李晓峰 +1 位作者 崔壮壮 姜晨 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第15期1857-1867,共11页
为了实现熔石英元件的高效低缺陷加工,研究了基于磁辅助抛光技术的元件材料去除特性和表面质量形成机制。采用不同抛光间隙和不同铁粉体积比的磁性抛光液对研磨后的熔石英元件进行磁辅助抛光,并对元件材料去除率、抛光斑轮廓、表面粗糙... 为了实现熔石英元件的高效低缺陷加工,研究了基于磁辅助抛光技术的元件材料去除特性和表面质量形成机制。采用不同抛光间隙和不同铁粉体积比的磁性抛光液对研磨后的熔石英元件进行磁辅助抛光,并对元件材料去除率、抛光斑轮廓、表面粗糙度和透过率进行评价,结合空间磁感应强度仿真和抛光压力分析,确定加工参数对元件加工效率和表面质量的影响规律。结果表明:材料深度去除率随空间磁感应强度的增强呈幂函数上升且随抛光液中铁粉体积比增加而显著提升,低空间磁场强度和低铁粉体积比的抛光液有利于促进以化学去除为主的磁辅助弹性抛光从而获得光洁表面。小抛光间隙(0.5 mm)及高铁粉体积比(14.18%)的抛光液可实现最大材料深度去除率0.4392μm/min和体积去除率1.49×10^(-4) mm^(3)/min,大抛光间隙(1.5 mm)及低铁粉体积比(9.93%)的抛光液能够获得粗糙度R_(a)低至8.1 nm的光滑表面。 展开更多
关键词 磁辅助抛光 抛光间隙 铁粉体积比 材料去除率 粗糙度
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