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Vacuum Magnetron Sputtering System
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《China's Foreign Trade》 1994年第4期17-17,共1页
The Vacuum magnetron sputtering system co-developed by the Qinghuangdao Changcheng Plating Technique Inc. and domestic aviation materials research departments, is hightech equipment, specially for making vacuum plated... The Vacuum magnetron sputtering system co-developed by the Qinghuangdao Changcheng Plating Technique Inc. and domestic aviation materials research departments, is hightech equipment, specially for making vacuum plated building glass. Heat reflective glass film layer made by this system compares favorably 展开更多
关键词 aviation magnetron sputtering REFLECTIVE specially insulation vacuum REQUIREMENT
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多功能复合磁控溅射平台的应用研究
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作者 范志鹏 韩辉 张松林 《现代机械》 2024年第2期12-16,102,共6页
磁控溅射具有沉积温度低、薄膜致密且牢固等优点,广泛用于制备超硬膜等各种功能性薄膜,但也存在离化率和沉积速率较低、溅射平台功能较单一等缺陷,难以实现特种功能薄膜严苛的技术要求。为解决以上问题,设计了具有前后双开门、可安装多... 磁控溅射具有沉积温度低、薄膜致密且牢固等优点,广泛用于制备超硬膜等各种功能性薄膜,但也存在离化率和沉积速率较低、溅射平台功能较单一等缺陷,难以实现特种功能薄膜严苛的技术要求。为解决以上问题,设计了具有前后双开门、可安装多个不同类型的溅射阴极、离子源和行星工件转架可接高压脉冲偏压等的复合溅射平台,对真空镀膜室、水冷系统、整体绝缘的多工位工件转架和真空气路系统进行了优化设计,并通过理论计算、有限元分析校核了该设计的可行性。 展开更多
关键词 物理气相沉积 磁控溅射平台 溅射阴极 真空气路系统
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Magnetron sputtering NbSe_(2)film as lubricant for space current-carrying sliding contact
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作者 Yang YANG Lulu PEI +8 位作者 Hongzhang ZHANG Kai FENG Pengfei JU Wenshan DUAN Li JI Hongxuan LI Xiaohong LIU Huidi ZHOU Jianmin CHEN 《Friction》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第3期383-394,共12页
This study demonstrates that magnetron-sputtered NbSe_(2)film can be used as a lubricant for space current-carrying sliding contact,which accommodates both metal-like conductivity and MoS_(2)-like lubricity.Deposition... This study demonstrates that magnetron-sputtered NbSe_(2)film can be used as a lubricant for space current-carrying sliding contact,which accommodates both metal-like conductivity and MoS_(2)-like lubricity.Deposition at low pressure and low energy is performed to avoid the generation of the interference phase of NbSe_(3).The composition,microstructure,and properties of the NbSe_(2)films are further tailored by controlling the sputtering current.At an appropriate current,the film changed from amorphous to crystalline,maintained a dense structure,and exhibited excellent comprehensive properties.Compared to the currently available electrical contact lubricating materials,the NbSe_(2)film exhibits a significant advantage under the combined vacuum and current-carrying conditions.The friction coefficient decreases from 0.25 to 0.02,the wear life increases more than seven times,and the electric noise reduces approximately 50%. 展开更多
关键词 NbSe_(2)films magnetron sputtering vacuum current-carrying tribological properties
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镀银玻璃镜用钝化剂研究进展
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作者 罗漫 肖文德 《涂层与防护》 2023年第2期58-62,共5页
为了提高镀银玻璃镜镜背涂料和镀银层之间的附着力,在镀银层上必须用钝化剂钝化镀银层,但现有钝化剂的使用造成镀银玻璃镜生产过程中的废水排放量增大。因此,开发环境友好的钝化剂很有现实意义。本文对镀银玻璃镜钝化剂的发展过程中的... 为了提高镀银玻璃镜镜背涂料和镀银层之间的附着力,在镀银层上必须用钝化剂钝化镀银层,但现有钝化剂的使用造成镀银玻璃镜生产过程中的废水排放量增大。因此,开发环境友好的钝化剂很有现实意义。本文对镀银玻璃镜钝化剂的发展过程中的文献进行了梳理,虽然无铜镀银钝化剂解决了镀银玻璃镜镀铜层钝化剂生产过程中铜离子对环境的污染问题,但还是会产生有害的废水,而且生产工艺比采用镀铜层钝化剂更复杂和耗时耗能。因此,镀银玻璃镜镀银层的钝化剂应向高交联反应的有机高分子钝化剂和真空磁控溅射镀金属钝化剂方向发展才能真正解决镀银玻璃镜的环境污染问题。 展开更多
关键词 镀银玻璃镜镜背涂料 镀银玻璃镜 镀铜层钝化剂 无铜镀银钝化剂 有机高分子钝化剂 真空磁控溅射 金属钝化剂 可见光反射率
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国内外无机抗菌涂层技术研发现状
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作者 张鹏举 赵娣芳 王勇 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2023年第S02期637-641,647,共6页
对国内外材料表面无机抗菌涂层的种类及制备新技术进行了论述。介绍了金属离子类抗菌涂层、光催化类抗菌涂层、石墨烯类抗菌涂层等无机抗菌涂层。综述了磁控溅射法、粉末包埋法、溶胶-凝胶法、浸涂法、等离子体法、层层自组装法、电泳... 对国内外材料表面无机抗菌涂层的种类及制备新技术进行了论述。介绍了金属离子类抗菌涂层、光催化类抗菌涂层、石墨烯类抗菌涂层等无机抗菌涂层。综述了磁控溅射法、粉末包埋法、溶胶-凝胶法、浸涂法、等离子体法、层层自组装法、电泳沉积法、冷喷涂法、响应性法等国内外抗菌涂层的制备技术及其发展现状,并指出其优缺点及今后抗菌涂层材料的发展趋势。 展开更多
关键词 抗菌涂层 复合材料 磁控溅射 真空镀膜
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磁控溅射Ti-Al-N复合膜的摩擦磨损性能分析
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作者 陆昆 杨海 《宁德师范学院学报(自然科学版)》 2023年第2期138-142,共5页
采用真空磁控溅射技术的方法制备了不同Al质量分数的Ti-Al-N薄膜,分别研究了室温及高温下不同Al质量分数的Ti-Al-N薄膜的摩擦磨损性能.研究结果表明,Al质量分数和温度都对薄膜的摩擦磨损性能产生较大的影响.室温时,当Al质量分数为49.97%... 采用真空磁控溅射技术的方法制备了不同Al质量分数的Ti-Al-N薄膜,分别研究了室温及高温下不同Al质量分数的Ti-Al-N薄膜的摩擦磨损性能.研究结果表明,Al质量分数和温度都对薄膜的摩擦磨损性能产生较大的影响.室温时,当Al质量分数为49.97%时,薄膜的平均摩擦系数最小,为0.772 3;高温条件下,薄膜的摩擦系数显著低于室温条件下,当Al质量分数为39.51%时,平均摩擦系数最小,为0.379 2. 展开更多
关键词 Ti-Al-N薄膜 真空磁控溅射技术 摩擦磨损 AL原子 摩擦系数
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共焦式磁控溅射设备研制及工艺验证
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作者 黄也 何秋福 +5 位作者 石任凭 龚俊 王建青 肖晓雨 尹联民 佘鹏程 《电子工业专用设备》 2023年第6期41-46,共6页
通过分析InP基激光器和探测器芯片电极金属薄膜工艺需求与特性,采用多靶共焦结构,多梯度真空等设计优化了专用磁控溅射系统,实现晶圆复合膜层沉积,晶圆台面或沟槽图形良好的覆盖性。针对标准100 mm(4英寸)InP基片的生产需求,满足100 mm... 通过分析InP基激光器和探测器芯片电极金属薄膜工艺需求与特性,采用多靶共焦结构,多梯度真空等设计优化了专用磁控溅射系统,实现晶圆复合膜层沉积,晶圆台面或沟槽图形良好的覆盖性。针对标准100 mm(4英寸)InP基片的生产需求,满足100 mm片剥离工艺的低温溅射成膜要求设计工艺试验。实验结果表明,所沉积的金属薄膜均匀性优于5%,台阶覆盖比大于0.3,满足InP基晶圆薄膜沉积和表面覆盖层制备工艺需求。 展开更多
关键词 磁控溅射 多靶共焦 多梯度真空 均匀性 台阶覆盖比
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低阻高透过率ITO薄膜的制备与性能 被引量:17
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作者 王刚 刘宏宇 +2 位作者 赵超 杨柏梁 黄锡珉 《液晶与显示》 CAS CSCD 1999年第1期23-28,共6页
研究了直流磁控溅射法制备的ITO薄膜的光电特性与溅射工艺参数的关系以及退火处理对ITO薄膜光电特性的影响。在低衬底温度、低溅射功率下获得了优质的ITO薄膜,可见光透过率高于85%,在厚度为100nm时其方块电阻在15... 研究了直流磁控溅射法制备的ITO薄膜的光电特性与溅射工艺参数的关系以及退火处理对ITO薄膜光电特性的影响。在低衬底温度、低溅射功率下获得了优质的ITO薄膜,可见光透过率高于85%,在厚度为100nm时其方块电阻在150~200Ω/□之间,并且ITO薄膜的制备工艺完全与AMLCD中TFT器件的制作工艺兼容。 展开更多
关键词 直流磁控溅射 薄膜 TIO 半导体 透过率 真空退火
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全玻璃SS-AlN金属陶瓷真空太阳集热管 被引量:12
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作者 章其初 陈革 +3 位作者 王双 池华敬 周旭 孟秀清 《真空》 CAS 北大核心 2010年第4期27-32,共6页
不锈钢-氮化铝(SS-AlN)金属陶瓷太阳选择性吸收涂层于1995年在实验室制备成功,采用真空磁控溅射沉积。太阳吸收复合膜采用干涉吸收型膜层结构,由不同金属含量的两层金属陶瓷层组成吸收层。金属陶瓷吸收层采用在镀膜室中SS和Al金属靶,在... 不锈钢-氮化铝(SS-AlN)金属陶瓷太阳选择性吸收涂层于1995年在实验室制备成功,采用真空磁控溅射沉积。太阳吸收复合膜采用干涉吸收型膜层结构,由不同金属含量的两层金属陶瓷层组成吸收层。金属陶瓷吸收层采用在镀膜室中SS和Al金属靶,在溅射气体Ar和反应气体N2中同时溅射运行,SS靶非反应溅射沉积SS金属组分,Al靶反应溅射沉积AlN陶瓷组分。实验室沉积的SS-AlN吸收涂层的太阳吸收比高达94%~96%,室温辐射比3.5%~4.0%。皇明公司2001年开始产业化生产全玻璃SS-AlN真空太阳集热管。我们开发了立式集热管连续镀膜线,第一条镀膜线于2007年调试成功,投入生产。集热管镀膜线真空系统长约41 m,高约3 m。每条线日产约为1.8~2.0万支。 展开更多
关键词 真空太阳集热管 太阳吸收涂层 金属陶瓷 磁控溅射 镀膜机 集热管镀膜线
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MEMS器件真空封装用非蒸散型吸气剂薄膜研究概述 被引量:11
10
作者 周超 李得天 +2 位作者 周晖 张凯锋 曹生珠 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第3期438-443,共6页
MEMS器件是机械电子系统未来的发展趋势。许多MEMS器件需要进行真空封装,从最大程度地减少残余气体,且真空封装水平的高低决定了器件的性能优劣甚至决定器件能否正常工作。常规的MEMS器件封装是在真空腔内放置块体吸气剂,占空间且容易... MEMS器件是机械电子系统未来的发展趋势。许多MEMS器件需要进行真空封装,从最大程度地减少残余气体,且真空封装水平的高低决定了器件的性能优劣甚至决定器件能否正常工作。常规的MEMS器件封装是在真空腔内放置块体吸气剂,占空间且容易产生微小颗粒污染。在器件的真空腔室内镀上吸气剂薄膜,吸气剂薄膜在器件高温键合的同时被激活,就可在后期维持真空腔内的真空度。非蒸散型吸气剂薄膜激活后在室温下即具有优异的吸气性能,应用于MEMS器件真空封装可以提高器件的寿命和可靠性。目前,提高非蒸散型吸气剂薄膜的吸气性能,降低其激活温度是国内外研究的焦点。本文简要介绍了非蒸散型吸气剂薄膜的吸气原理,从膜系材料和制备技术两方面分析了国内外研究现状。在膜材料方面,目前采用ⅣB族+ⅤB族组合的三元合金作为非蒸散型吸气剂薄膜的膜系材料。另外,在材料中掺入Fe、稀土元素等进行薄膜结构的修饰也是较常用的手段。值得指出的是,TiZrV合金薄膜是兼具较好的吸气性能和最低激活温度的非蒸散型吸气剂(NEG)薄膜。在制备技术方面,MEMS器件用非蒸散型吸气剂薄膜一般采用磁控溅射镀膜,磁控溅射镀膜工艺的关键是制备出柱状的纳米晶结构,该结构存在大量的晶界,可促进原子的扩散,降低激活温度。磁控溅射镀膜工艺的研究围绕靶材选择、基片温度、溅射电压、溅射气氛等。探索综合性能更优的新型材料体系和增大薄膜的比表面积仍然是目前非蒸散型吸气剂薄膜研究的关键。本文最后对非蒸散型吸气剂薄膜的研究趋势进行了展望,指出加入调节层的双层膜的激活性能和吸气性能优于单层膜,但调控机理有待明确,今后可以在TiZrV薄膜研究的基础上进一步进行双层薄膜的研究,也可横向拓展进行新型薄膜体系,如ZrCoRE等新型合金薄膜的研究。 展开更多
关键词 MEMS真空封装 非蒸散型吸气剂薄膜 吸气机理 TiZrV薄膜 磁控溅射
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反应磁控溅射法制备氧化钒薄膜 被引量:6
11
作者 刘凤举 余志明 +1 位作者 陈爽 方梅 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第12期2221-2225,共5页
采用反应磁控溅射加真空退火分别在玻璃和Si(100)基底上制备氧化钒薄膜,利用X射线衍射和原子力显微镜分析其物相和表面形貌。结果表明:氧气体积分数低于15%时,玻璃上薄膜为低价钒氧化物,Si(100)上薄膜为V2O5(001)织构和V2O3(104)织构,高... 采用反应磁控溅射加真空退火分别在玻璃和Si(100)基底上制备氧化钒薄膜,利用X射线衍射和原子力显微镜分析其物相和表面形貌。结果表明:氧气体积分数低于15%时,玻璃上薄膜为低价钒氧化物,Si(100)上薄膜为V2O5(001)织构和V2O3(104)织构,高于20%时两基底上薄膜均为V2O5;玻璃上V2O5薄膜500℃下退火3h生成VO2,退火后薄膜粗糙度明显下降;Si(100)上V2O5薄膜500℃下退火2h生成V2O3(104)织构,退火后薄膜粗糙度变化不大。 展开更多
关键词 反应磁控溅射 真空退火 V2O3 VO2 V2O5
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磁控溅射TiO_2膜的真空度对薄膜亲水性影响的实验研究 被引量:7
12
作者 巴德纯 常学森 +1 位作者 闻立时 刘坤 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期155-158,共4页
采用反应溅射技术可以制备出具有亲水作用的TiO2薄膜。这种TiO2薄膜断面呈现柱状晶体结构。薄膜表面出现不规则起伏。薄膜的晶相主体均为锐钛矿型。TiO2薄膜的光透射谱变化不大。这种TiO2薄膜经紫外光辐照后,可以降低水和TiO2薄膜表面... 采用反应溅射技术可以制备出具有亲水作用的TiO2薄膜。这种TiO2薄膜断面呈现柱状晶体结构。薄膜表面出现不规则起伏。薄膜的晶相主体均为锐钛矿型。TiO2薄膜的光透射谱变化不大。这种TiO2薄膜经紫外光辐照后,可以降低水和TiO2薄膜表面之间的接触角。不同工艺条件下制备的TiO2薄膜接触角相差很大。在纯氧条件下,薄膜制备的真空度对薄膜的亲水性有着决定性的影响。 展开更多
关键词 TIO2薄膜 亲水特性 反应溅射 真空度
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磁控溅射钛膜的沉积过程及表面形貌研究 被引量:5
13
作者 李丽 吴卫 +1 位作者 金永中 于越 《西华大学学报(自然科学版)》 CAS 2009年第2期92-95,共4页
实验研究了在磁控溅射工艺的溅射功率和工作压强恒定的情况下,薄膜在基底表面的沉积及生长的过程。结果表明,在溅射参数恒定、Ti膜尚未连续的情况下,薄膜的覆盖率的对数与时间基本成正比关系,即薄膜的覆盖率随时间指数增加。在薄膜连续... 实验研究了在磁控溅射工艺的溅射功率和工作压强恒定的情况下,薄膜在基底表面的沉积及生长的过程。结果表明,在溅射参数恒定、Ti膜尚未连续的情况下,薄膜的覆盖率的对数与时间基本成正比关系,即薄膜的覆盖率随时间指数增加。在薄膜连续后,出现晶粒长大并合并的现象。薄膜的生长方式为先层状生长再岛状生长。 展开更多
关键词 真空技术 Ti膜 磁控溅射 表面形貌
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不同技术制备DLC膜的激光损伤特性研究 被引量:9
14
作者 徐均琪 苏俊宏 +1 位作者 谢松林 梁海锋 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第3期181-184,共4页
随着高能量大功率激光器的发展和激光元件的广泛应用,用于红外窗口表面增透保护的类金刚石薄膜(DLC)的抗激光损伤特性成为评价薄膜质量优劣的一个重要指标。然而,不同的制备方法和技术沉积的DLC薄膜具有各异的微观结构,从而具有不同的... 随着高能量大功率激光器的发展和激光元件的广泛应用,用于红外窗口表面增透保护的类金刚石薄膜(DLC)的抗激光损伤特性成为评价薄膜质量优劣的一个重要指标。然而,不同的制备方法和技术沉积的DLC薄膜具有各异的微观结构,从而具有不同的抗激光损伤特性。本文采用脉冲真空电弧(PVAD)和非平衡磁控溅射(UBMS)技术沉积了DLC膜,对两种DLC膜抗激光损伤特性进行了研究,测试结果表明,两种技术沉积的DLC薄膜激光损伤阈值分别0.6 J/cm2和0.3 J/cm2,PVAD技术比UBMS技术沉积的DLC薄膜具有更高的抗激光损伤阈值。基于实验研究了薄膜光学常数和表面形态,分析了两种技术制备DLC膜激光损伤特性差异的主要原因。结果表明,采用UBMS技术沉积的DLC膜具有较小的折射率和较大的消光系数,薄膜表面存在较多的疵病和缺陷,这些是其激光损伤阈值较低的主要原因。 展开更多
关键词 类金刚石膜(DLC) 脉冲真空电弧沉积(PVAD) 非平衡磁控溅射(UBMS) 激光损伤阈值(LIDT)
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TiN/Ti复合膜与多层膜对Ti811合金高温摩擦性能及微动疲劳抗力的影响 被引量:10
15
作者 张晓化 刘道新 +1 位作者 王小锋 唐宾 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第4期311-318,共8页
在Ti811钛合金表面分别利用真空阴极电弧沉积技术和磁控溅射技术制备了TiN/Ti复合膜,利用磁控溅射技术制备了TiN/Ti多层膜,测试了膜层的剖面成分分布、膜基结合强度、膜层显微硬度和韧性,对比研究了不同结构膜层对钛合金基材摩擦学性能... 在Ti811钛合金表面分别利用真空阴极电弧沉积技术和磁控溅射技术制备了TiN/Ti复合膜,利用磁控溅射技术制备了TiN/Ti多层膜,测试了膜层的剖面成分分布、膜基结合强度、膜层显微硬度和韧性,对比研究了不同结构膜层对钛合金基材摩擦学性能和高温微动疲劳抗力的影响.结果表明:TiN/Ti复合膜和多层膜均有效提高了钛合金表面的硬度和耐磨性能;电弧沉积TiN/Ti膜层对钛合金高温微动疲劳抗力的改善程度高于磁控溅射TiN/Ti膜层,原因归于电弧沉积TiN/Ti膜层强韧性好、结合强度高,且膜层中的钛颗粒有良好的减摩润滑作用;磁控溅射TiN/Ti多层膜对钛合金高温微动疲劳抗力的改善程度高于磁控溅射TiN/Ti复合膜层,原因是前者韧性高、减摩润滑作用显著. 展开更多
关键词 微动疲劳 摩擦磨损 TiN/Ti复合膜 多层膜 真空阴极电弧沉积 磁控溅射 钛合金 高温
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真空热处理对镀Al薄膜NdFeB磁体组织和耐蚀性的影响 被引量:6
16
作者 孙宝玉 巴德纯 +3 位作者 段永利 房也 杨彬 岳向吉 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第2期221-224,共4页
用直流磁控溅射工艺,在NdFeB磁体表面镀Al薄膜,并对镀Al薄膜的磁体进行真空热处理,研究工艺、温度和时间对镀层成分、组织和性能的影响。结果表明:NdFeB镀Al薄膜磁体经650℃,10 min热处理后,综合性能最佳,Al膜层与Nd-FeB磁体在界面产生... 用直流磁控溅射工艺,在NdFeB磁体表面镀Al薄膜,并对镀Al薄膜的磁体进行真空热处理,研究工艺、温度和时间对镀层成分、组织和性能的影响。结果表明:NdFeB镀Al薄膜磁体经650℃,10 min热处理后,综合性能最佳,Al膜层与Nd-FeB磁体在界面产生冶金结合,增强了界面结合力,又保持了Al膜层的完整性、连续性和良好耐蚀性。通过对样品微组织的观察发现,当热处理温度高于650℃时,Al膜层与基体之间产生互扩散,形成新的RFeAlB相,随着温度继续升高,新相的长大,破坏了Al膜层的完整性和连续性,产生许多微缺陷和裂纹,耐蚀性降低。 展开更多
关键词 NDFEB 磁控溅射 Al薄膜 真空热处理 耐蚀性能
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金属铀膜的制备及应用现状 被引量:4
17
作者 易泰民 邢丕峰 +3 位作者 李朝阳 谢军 郑凤成 李国荣 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2009年第12期905-910,共6页
介绍了国内外目前主要采用的制备金属铀膜的技术及各制备技术的应用现状,包括机械研磨、轧制、高真空蒸发沉积,脉冲激光气相沉积和溅射沉积,重点介绍了各种制备铀膜技术的工艺条件和制备出铀膜的厚度、表面质量、成分、晶粒结构以及其... 介绍了国内外目前主要采用的制备金属铀膜的技术及各制备技术的应用现状,包括机械研磨、轧制、高真空蒸发沉积,脉冲激光气相沉积和溅射沉积,重点介绍了各种制备铀膜技术的工艺条件和制备出铀膜的厚度、表面质量、成分、晶粒结构以及其表征方法。以及薄膜沉积过程中生长速率和厚度监控的常用方法。 展开更多
关键词 金属铀膜 蒸镀 磁控溅射
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基于PEM的反应磁控溅射镀膜机参数监控系统 被引量:3
18
作者 李锐 张军 +2 位作者 汪小芳 张道配 王斌华 《计算机测量与控制》 北大核心 2014年第10期3223-3226,共4页
实时在线监测磁控溅射反应气体的参数可有效保证镀膜质量;针对反应磁控溅射离子镀膜机反应气体的功能需求,分析了反应气体的控制原理,基于PEM方法提出了控制器方案和反应气体的参数监控方案,分析了监控系统的功能需求,自定义了串口通信... 实时在线监测磁控溅射反应气体的参数可有效保证镀膜质量;针对反应磁控溅射离子镀膜机反应气体的功能需求,分析了反应气体的控制原理,基于PEM方法提出了控制器方案和反应气体的参数监控方案,分析了监控系统的功能需求,自定义了串口通信协议,基于LabVIEW和串口设计了反应气体的参数监控系统系统,并与设计的控制器用于镀膜工艺试验;试验结果表明,基于PEM方法设计的反应气体参数监控系统功能正确,可为控制器和镀膜机提供参数调控依据,为提高硬质镀膜质量提供了一套有效的监控方法。 展开更多
关键词 磁控溅射 真空镀膜 串口通信 LabVIEW
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高体积比SiC_p/6063Al复合材料表面预置钛膜及真空钎焊分析 被引量:2
19
作者 王鹏 李强 +2 位作者 高增 程东锋 牛济泰 《焊接学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第4期43-46,82+115,共6页
以增强相体积比为60%的Si Cp/6063Al复合材料为母材,首先在母材上磁控溅射钛膜,然后在580℃保温40 min的条件下,采用Al-Si-Mg共晶钎料对复合材料进行真空钎焊.利用扫描电镜、EDS局部能谱分析和XRD衍射的方法对接头的界面组织及断口形貌... 以增强相体积比为60%的Si Cp/6063Al复合材料为母材,首先在母材上磁控溅射钛膜,然后在580℃保温40 min的条件下,采用Al-Si-Mg共晶钎料对复合材料进行真空钎焊.利用扫描电镜、EDS局部能谱分析和XRD衍射的方法对接头的界面组织及断口形貌进行了研究.结果表明,活性钛膜提高了钎料对母材的润湿性,钎焊过程中钎料与镀层、镀层与母材基体界面处均形成了过渡层,且钎料与Si C颗粒间形成致密连接,并在过渡层中发现了Ti C0.981新相. 展开更多
关键词 铝基复合材料 磁控溅射钛膜 真空钎焊 润湿性
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真空退火温度对GZO/Ag/GZO三层膜性能的影响 被引量:2
20
作者 辛艳青 姜丽莉 +2 位作者 宋淑梅 杨田林 李延辉 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2009年第11期32-35,共4页
室温下在玻璃衬底上,采用射频磁控溅射GZO(Ga掺杂ZnO)膜和离子束溅射Ag膜的方法,制备了GZO/Ag/GZO三层膜,分析了真空退火温度对样品结构、光学、电学性能的影响。结果显示:随着退火温度的升高,Ag层的结构得到明显改善,但GZO层结晶度受到... 室温下在玻璃衬底上,采用射频磁控溅射GZO(Ga掺杂ZnO)膜和离子束溅射Ag膜的方法,制备了GZO/Ag/GZO三层膜,分析了真空退火温度对样品结构、光学、电学性能的影响。结果显示:随着退火温度的升高,Ag层的结构得到明显改善,但GZO层结晶度受到了Ag扩散的影响。经过350℃退火后,样品在可见光区平均透射率达92.63%,电阻率由8.0×10–5Ω·cm降至4.0×10–5Ω·cm。 展开更多
关键词 透明导电膜 射频磁控溅射 三层膜 GZO/Ag/GZO 真空退火
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