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Effect of V content on microstructures and properties of TiC cermet fusion welding interface
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作者 魏炜 徐莹 +2 位作者 王旭 黄智泉 刘胜新 《China Welding》 CAS 2024年第1期40-45,共6页
The effects of vanadium(V)on the microstructures and mechanical properties of the TiC cermet fusion welding interface were studied by adjusting the content of V in the self-developed flux-cored wires using metal inert... The effects of vanadium(V)on the microstructures and mechanical properties of the TiC cermet fusion welding interface were studied by adjusting the content of V in the self-developed flux-cored wires using metal inert gas arc(MIG)welding for surfacing on the TiC cermet.The results show that the increase in V content promotes the element diffusion between TiC cermet and weld metal.There are no de-fects observed in the interface,and the diffusion of elements refers to excellent metallurgical bonding.The shear strength of the fusion zone initially decreases and then increases with the increase in V content.The maximum shear strength of the TiC cermet/weld interface,reaching 552 MPa,occurred when the V content reached 0.65%.Meanwhile,the average hardness in the transition zone reached 488.2 HV0.2. 展开更多
关键词 TiC cermet MIG welding interface v content shear strength
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V/Pd界面氢吸附扩散行为的第一性原理研究
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作者 张江林 王仲民 +4 位作者 王殿辉 胡朝浩 王凤 甘伟江 林振琨 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2023年第16期298-306,共9页
采用钒/钯(V/Pd)金属复合膜渗氢是从混合气体中分离氢气的一种有效实用方法.为深入地了解催化Pd层与金属膜结合处的界面结构与吸氢/渗氢特性的关联性,进而提升合金膜提纯氢气的能力,本文采用基于密度泛函理论的第一性原理研究了V/Pd金... 采用钒/钯(V/Pd)金属复合膜渗氢是从混合气体中分离氢气的一种有效实用方法.为深入地了解催化Pd层与金属膜结合处的界面结构与吸氢/渗氢特性的关联性,进而提升合金膜提纯氢气的能力,本文采用基于密度泛函理论的第一性原理研究了V/Pd金属复合膜界面的氢吸附/扩散行为.研究结果表明:由于V/Pd界面的电荷密度随着V/Pd成键而增加,导致氢原子(H)溶解能随着接近界面而增大,在V/Pd界面附近具有最高的溶解能(0.567 eV).氢迁移能垒计算表明,与H沿V/Pd界面水平扩散的最大能垒(0.64 eV)相比,H垂直V/Pd界面能垒(0.56 eV)更小,因而H倾向于垂直V/Pd界面进行迁移,并由Pd层扩散到V基体一侧,因V/Pd界面处Pd层的氢溶解能(0.238 eV)高于V膜侧(-0.165 eV),H将在界面的V膜侧积累,易引起氢脆.V基体掺杂Pd/Fe的计算表明,与未掺杂的能垒(0.56 eV)相比,掺杂Pd/Fe可明显地降低界面扩散路径中的最大能垒(0.45 eV/0.54 eV),利于氢的渗透扩散,且掺杂界面能一定程度抑制V和催化Pd层的相互扩散,提高复合膜的结构稳定性. 展开更多
关键词 v/pd界面 第一性原理 氢渗透性能 拉伸应变
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The Richtmyer–Meshkov instability of a 'V' shaped air/helium interface subjected to a weak shock 被引量:3
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作者 Zhigang Zhai Xisheng Luo Ping Dong 《Theoretical & Applied Mechanics Letters》 CAS CSCD 2016年第5期226-229,共4页
The Richtmyer-Meshkov instability ofa ‘V' shaped air/helium gaseous interface subjected to a weak shock wave is experimentally studied. A soap film technique is adopted to create a ‘V' shaped interface with accura... The Richtmyer-Meshkov instability ofa ‘V' shaped air/helium gaseous interface subjected to a weak shock wave is experimentally studied. A soap film technique is adopted to create a ‘V' shaped interface with accurate initial conditions. Five kinds of ‘V' shaped interfaces with different vertex angles are formed to highlight the effects of initial conditions on the flow characteristics. The results show that a spike is generated after the shock impact, and grows constantly with time. As the vertex angle increases, vortices generated on the interface become less noticeable, and the spike develops less pronouncedly. The linear growth rate of interface width after compression phase is estimated by a linear model and a revised linear model, and the latter is proven to be more effective for the interface with high initial amplitudes. The linear growth rate of interface width is, for the first time in a heavy/light interface configuration, found to be a non-monotonous function of the initial perturbation amplitude-wavelength ratio. 展开更多
关键词 Richtmyer-Meshkov instability v shaped interface High-speed schlieren photography
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Method of evaluating interface traps in Al2O3/AlGaN/GaN high electron mobility transistors
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作者 包斯琴高娃 马晓华 +5 位作者 陈伟伟 杨凌 侯斌 朱青 祝杰杰 郝跃 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2019年第6期378-383,共6页
In this paper, the interface states of the AlGaN/GaN metal–insulator–semiconductor(MIS) high electron mobility transistors(HEMTs) with an Al2 O3 gate dielectric are systematically evaluated. By frequency-dependent c... In this paper, the interface states of the AlGaN/GaN metal–insulator–semiconductor(MIS) high electron mobility transistors(HEMTs) with an Al2 O3 gate dielectric are systematically evaluated. By frequency-dependent capacitance and conductance measurements, trap density and time constant at Al2 O3/AlGaN and AlGaN/GaN interface are determined.The experimental results reveal that the density of trap states and the activation energy at the Al2 O3/AlGaN interface are much higher than at the AlGaN/GaN interface. The photo-assisted capacitance-voltage measurements are performed to characterize the deep-level traps located near mid-gap at the Al2 O3/AlGaN interface, which indicates that a density of deep-level traps is lower than the density of the shallow-level states. 展开更多
关键词 AlGaN/GaN HEMTS interface TRAPS frequency-dependent C–v MEASUREMENTS photo-assisted C–v MEASUREMENTS
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Pd纳米催化剂在选择性加氢中的研究进展
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作者 陈浦 《广州化工》 CAS 2024年第1期27-29,32,共4页
选择性加氢在化学工业中占有十分重要的地位,在精细化学品和石油化工产品生产、药物合成以及农用化学品的合成中都有重要应用。Pd基催化剂由于其独特的电子结构和吸附活化氢及不饱和底物的能力,在选择性加氢反应中得到了广泛的应用。本... 选择性加氢在化学工业中占有十分重要的地位,在精细化学品和石油化工产品生产、药物合成以及农用化学品的合成中都有重要应用。Pd基催化剂由于其独特的电子结构和吸附活化氢及不饱和底物的能力,在选择性加氢反应中得到了广泛的应用。本文综述了Pd基催化剂的尺寸、组成、表面和界面结构对其性能的影响,并介绍了Pd基催化剂在炔、醛、酮和硝基芳烃选择性加氢反应中的研究进展。 展开更多
关键词 选择性加氢 pd纳米催化剂 尺寸 组成 表面和界面效应
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Pd掺杂的V(100)表面稳定性和氢渗透性能的计算分析 被引量:1
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作者 王仲民 刘智高 +6 位作者 覃甲尧 王殿辉 张艳丽 张晓辉 胡朝浩 龙乾新 杜勇 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第5期1331-1341,共11页
BCC结构的V基固溶体有良好的氢渗透性能,在氢分离膜中具有应用潜力。采用第一性原理方法研究Pd掺杂V(100)表面的H吸附和渗透机理,讨论氢覆盖对氢吸附和扩散的影响。计算结果表明:Pd优先取代V(100)表面的第一层V原子。在V-Pd(100)表面不... BCC结构的V基固溶体有良好的氢渗透性能,在氢分离膜中具有应用潜力。采用第一性原理方法研究Pd掺杂V(100)表面的H吸附和渗透机理,讨论氢覆盖对氢吸附和扩散的影响。计算结果表明:Pd优先取代V(100)表面的第一层V原子。在V-Pd(100)表面不同位置吸附H原子的稳定性由大到小依次为洞位、桥位、顶位,Pd掺杂降低了表面H原子的吸附能力,有利于H原子的解离和缔合效率。Pd掺杂的V(100)表面,H原子从表面扩散到次表面的扩散能垒降低,提高了氢渗透率。随着H原子覆盖度的增加,H吸附于V(100)表面的能力减弱,而吸附于V-Pd(100)表面的能力增强。差分电荷密度的计算结果表明,Pd—H键比V—H键弱,故Pd元素的掺杂能够改善H的渗透性能和解氢能力。 展开更多
关键词 v基固溶体 pd掺杂 表面 氢渗透性 第一性原理计算
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V锥流量计可靠性PDS分析
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作者 马风雷 都吉龙 《长春工业大学学报》 CAS 2016年第1期69-72,共4页
将有限元理论与可靠性设计理论相结合,利用ANSYS提供的PDS概率设计模块进行V锥流量计的参数化建模,编制APDL命令流,建立V锥流量计结构的可靠性分析文件,为V锥流量计结构优化提供了理论依据。
关键词 pdS模块 蒙特卡洛法 v锥流量计 可靠度
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Pd-V/Hβ催化苯与氢气、氧气直接羟基化制取苯酚 被引量:1
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作者 李宏峰 伏再辉 尹笃林 《湖南师范大学自然科学学报》 EI CAS 北大核心 2006年第3期61-64,共4页
在自行设计的常压氢氧混合气体内循环装置上,研究了Pd和Pd-V改性的Hβ分子筛在苯与氢和氧反应中的催化性能.结果表明,Pd/Hβ的催化活性很低;然而,当它进一步用钒氧化物改性后,则苯酚生成速率显著增加,有关钒氧化物的促进作用可用一个协... 在自行设计的常压氢氧混合气体内循环装置上,研究了Pd和Pd-V改性的Hβ分子筛在苯与氢和氧反应中的催化性能.结果表明,Pd/Hβ的催化活性很低;然而,当它进一步用钒氧化物改性后,则苯酚生成速率显著增加,有关钒氧化物的促进作用可用一个协同催化机理来合理解释.此外,反应介质对苯酚生成也有明显的影响.冰乙酸加适量的水作溶剂,不仅苯酚的选择性高(>99%),而且其生成速率相对冰乙酸为溶剂而言也提高了一倍. 展开更多
关键词 苯酚 钒氧化物 pd-v/
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Cu-Pd-V钎料真空钎焊Cf/SiBCN复合材料的界面组织与性能 被引量:2
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作者 李文文 熊华平 +3 位作者 陈波 邹文江 刘伟 谭僖 《焊接学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第9期90-94,132,133,共7页
利用Cu-Pd-V钎料对新型四元陶瓷基复合材料C_f/SiBCN进行了真空钎焊连接.利用座滴法研究了CuPd-V钎料对C_f/SiBCN复合材料的动态润湿性.利用SEM和XRD对钎焊接头微观组织及断口物相进行了分析表征.结果表明,经1 170℃保温30 min后钎料在... 利用Cu-Pd-V钎料对新型四元陶瓷基复合材料C_f/SiBCN进行了真空钎焊连接.利用座滴法研究了CuPd-V钎料对C_f/SiBCN复合材料的动态润湿性.利用SEM和XRD对钎焊接头微观组织及断口物相进行了分析表征.结果表明,经1 170℃保温30 min后钎料在复合材料上的润湿角为57°.在1 170℃-10 min钎焊规范下,CuPd-V钎料在C_f/SiBCN复合材料表面形成厚度约为1μm的V(C,N)反应层,主要包括VC和VN化合物,钎缝中央为Cu_3Pd和CuPd两种固溶体相.接头的室温三点弯曲强度为58.1 MPa,当测试温度提高至600℃时接头强度上升至90.2 MPa,在700和800℃测试温度下钎焊接头强度呈下降趋势,但仍然可以维持在室温强度水平,分别为66.9和64.6 MPa. 展开更多
关键词 Cf/SiBCN复合材料 Cu-pd-v钎料 接头组织 接头强度 界面反应
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Identification and evolution of interfacial structure of SiO2 glass ceramic/Ti-6AI-4V alloy joint bonded with AgCu/Ni interlayer 被引量:1
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作者 刘多 王美荣 +2 位作者 唐冬雁 马蔷 冯吉才 《China Welding》 EI CAS 2014年第3期37-41,共5页
AgCu/Ni composite interlayer was utilized to join SiO2 glass ceramic (74. 52% SiO2-23. 40% Al2 03 -2. 08 % K2 O, wt. % ) and Ti-6Al-4V alloy by eutectic reaction. Interface structures of the joints were identified b... AgCu/Ni composite interlayer was utilized to join SiO2 glass ceramic (74. 52% SiO2-23. 40% Al2 03 -2. 08 % K2 O, wt. % ) and Ti-6Al-4V alloy by eutectic reaction. Interface structures of the joints were identified by means of TEM analysis. This joining method contains three characteristic processes, which are the melting of AgCu eutectic alloy, eutectic reaction between interlayer and Ti-6Al-4V base material and active reaction of element Ti to SiO2 glass ceramic. It is different from traditional active brazing because active element Ti totally dissolves from Ti-6Al-4 V and reacts with SiO2 glass ceramic. SiO2 glass ceramic can be joined suecessfuUy to Ti-6Al-4 V alloy by this novel bonding method and the joint exhibits high shear strength, up to 110 MPa. 展开更多
关键词 CERAMIC Ti-6Al-4v alloy reaction joining microstructure interface
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V形接线方式在低压SPD系统中的应用探讨
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作者 黎莫清 周小武 《电气应用》 北大核心 2011年第10期57-60,共4页
通过对V形接线方式在浪涌保护器系统中的应用,分析了该接线方式的优点与不足之处,并提出了综合的解决方案与相关的建议。
关键词 接线方式 pd系统 应用 v 低压 浪涌保护器
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Pd纳米立方体异质结尺寸依赖的电子界面效应对苯酚加氢反应的促进作用
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作者 夏思源 李奇远 +7 位作者 张仕楠 许冬 林秀 孙露菡 许景三 陈接胜 李国栋 李新昊 《Chinese Journal of Catalysis》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第6期180-187,共8页
作为生产尼龙6、尼龙66和聚酰胺树脂等各种聚合物的重要原材料,环己酮和环己醇(KA oil)每年在全球的消耗量大约在100万吨.KAoil主要采用苯酚加氢法和环己烷氧化法制备,其中苯酚加氢法可以在相对温和的反应条件下实现较高的选择性.目前,P... 作为生产尼龙6、尼龙66和聚酰胺树脂等各种聚合物的重要原材料,环己酮和环己醇(KA oil)每年在全球的消耗量大约在100万吨.KAoil主要采用苯酚加氢法和环己烷氧化法制备,其中苯酚加氢法可以在相对温和的反应条件下实现较高的选择性.目前,Pt基和Pd基非均相催化剂因具有良好的可重复使用性成为加氢反应的主流催化剂,但在实际应用中却面临着催化剂价格昂贵的问题.因此,减少贵金属的消耗量以降低KAoil的最终生产成本,开发探索出更高效的方法最大程度提升贵金属纳米催化剂的活性成为核心问题.目前,研究者致力于通过调控催化剂的金属粒径、合金结构和催化剂孔结构来提高金属纳米催化剂的苯酚加氢活性.近期研究发现,酸性氧化物载体可以用来提升负载金属中心的苯酚加氢活性,可以通过改变金属周围的微环境进一步提高金属活性.本文通过构建尺寸可调控的Pd纳米立方体/硫掺杂碳载体异质结结构,提出一种特殊的电子界面效应成功地提高了活性中心Pd纳米立方体的苯酚加氢活性.在金属/半导体载体异质结中,由金属和半导体之间所形成的肖特基势垒所驱动,电子在金属和半导体载体的界面处发生转移直至金属和半导体载体的费米能级达到平衡,最终在金属和半导体界面处形成由富电子侧和贫电子侧组成的电子界面.有限元计算、密度泛函理论计算、X射线光电子能谱和紫外光电子能谱结果表明,负载到硫掺杂碳载体上的Pd纳米立方体的电子密度和Pd纳米立方体的尺寸有着独特的线性关系.CO程序升温脱附实验结果表明,尺寸更小的Pd纳米立方体拥有更多的表面原子,因此苯酚转化率会随着Pd纳米立方体尺寸的减小而增加,但根据表面原子来计算转换频率(TOF),三种不同尺寸的未负载的Pd纳米立方体的TOF值均约为2.将Pd纳米立方体负载到硫掺杂碳载体上之后,Pd纳米立方体/硫掺杂碳异质结的电子界面效应可显著提高负载的Pd纳米立方体的苯酚加氢活性.相比于未负载的15,11和5 nmPd纳米立方体,负载到载体上之后的Pd纳米立方体的TOF值分别被提高12倍、16倍和20倍.理论计算和实验结果表明,所有负载到硫掺杂碳载体上的Pd纳米立方体中的5 nmPd纳米立方体最贫电,且对酚类加氢反应表现出普遍性的促进作用,与未负载的5 nm Pd纳米立方体相比可以将苯酚及其衍生物的加氢活性提高10–20倍. 展开更多
关键词 电子界面效应 苯酚加氢 钯纳米立方体 肖特基异质结 非均相催化
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Simultaneous removal of ethanol, acetaldehyde and nitrogen oxides over V-Pd/γ-Al_2O_3-TiO_2 catalyst
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作者 Zhe Li Jing Wang Kai He Xia An Wei Huang Kechang Xie 《Journal of Natural Gas Chemistry》 EI CAS CSCD 2011年第2期167-172,共6页
V-Pd/γ-Al2O3-TiO2 catalysts with different vanadium contents were prepared by a combined sol-gel and impregnation method. X-ray diffraction (XRD), N2 adsorption-desorption (BET), X-ray photoelectron spectroscopy ... V-Pd/γ-Al2O3-TiO2 catalysts with different vanadium contents were prepared by a combined sol-gel and impregnation method. X-ray diffraction (XRD), N2 adsorption-desorption (BET), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and catalytic removal of ethanol, acetaldehyde and nitrogen oxides at low temperature (〈300 ?C) were used to assess the properties of the catalysts. The results showed that the sample with 1wt% vanadium exhibited an excellent catalytic performance for simultaneous removal of ethanol, acetaldehyde and nitrogen oxides. The conversions of ethanol, acetaldehyde and nitrogen oxides at 250 ?C were 100%, 74.4% and 98.7%, respectively. V-Pd/γ-Al2O3-TiO2 catalyst with 1 wt% vanadium showed the largest surface area and higher dispersion of vanadium oxide on the catalyst surface, and possessed a larger mole fraction of V4+ species and unique PdO species on the surface, which can be attributed to the strong synergistic effect among palladium, vanadium and the carriers. The higher activity of V-Pd/γ-Al2O3-TiO2 catalyst is related to the V4+ and Pd2+ species on the surface, which might be favorable for the formation of active sites. 展开更多
关键词 v-pd/γ-Al2O3-TiO2 simultaneous removal ETHANOL ACETALDEHYDE nitrogen oxides
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国产化RISC V芯片的健康管理工程设计及实践
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作者 王铜柱 张宇 罗云鹏 《单片机与嵌入式系统应用》 2023年第11期25-28,62,共5页
为了实现基于国产化RISC V芯片的低成本健康管理工程,提出了一种使用两颗低成本单片机的级联方案。将健康管理工程互为备份地实现在两颗芯片上,通过芯片间交互协议同步信息,同时主控芯片也可访问到单片机上的信息。实测结果表明,基于国... 为了实现基于国产化RISC V芯片的低成本健康管理工程,提出了一种使用两颗低成本单片机的级联方案。将健康管理工程互为备份地实现在两颗芯片上,通过芯片间交互协议同步信息,同时主控芯片也可访问到单片机上的信息。实测结果表明,基于国产化RISC V芯片的健康管理工程能够实现稳定、可靠的数据传输,满足系统设计需求。 展开更多
关键词 RISC v芯片 健康管理 CAN接口 GD32vF103
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一种基于拥塞等级划分的LTE-V资源碰撞避免机制
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作者 王致远 刘留 +2 位作者 樊圆圆 庄凌凡 刘美鹭 《电讯技术》 北大核心 2023年第2期226-232,共7页
为了降低车联网(Long Term Evolution-Vehicle to Everything,LTE-V)终端间的相互干扰并提升通信的可靠性,提出通过资源分配和拥塞控制来解决资源碰撞的问题。依据信道忙率(Channel Busy Ratio,CBR)划分拥塞等级,融合资源分配与拥塞控... 为了降低车联网(Long Term Evolution-Vehicle to Everything,LTE-V)终端间的相互干扰并提升通信的可靠性,提出通过资源分配和拥塞控制来解决资源碰撞的问题。依据信道忙率(Channel Busy Ratio,CBR)划分拥塞等级,融合资源分配与拥塞控制提出相应的方案,形成资源碰撞避免机制。为了减少重选资源时发生的碰撞,提出了资源重选竞争退避机制以降低重选带来的不确定性;针对拥塞导致的碰撞,改变调制编码策略从而优化资源占用。仿真结果表明,与标准中基于感知的半持续调度(Semi-persistent Scheduling,SPS)相比,所提出的机制在传输距离为300 m时可以实现0.85以上的数据包投递率,有效减少资源碰撞,提升传输可靠性。 展开更多
关键词 车联网(LTE-v) PC5接口 资源碰撞 资源调度 拥塞控制
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Schottky Barrier Parameters of Pd/Ti Contacts on N-Type InP Revealed from I-V-T And C-V-T Measurements
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作者 D. Subba Reddy M. Bhaskar Reddy +1 位作者 N. Nanda Kumar Reddy V. Rajagopal Reddy 《Journal of Modern Physics》 2011年第3期113-123,共11页
We report on the current-voltage (I-V) and capacitance-voltage (C-V) characteristics of the Pd/Ti/n-InP Schottky barrier diodes (SBDs) in the temperature range 160-400 K in steps of 40 K. The barrier heights and ideal... We report on the current-voltage (I-V) and capacitance-voltage (C-V) characteristics of the Pd/Ti/n-InP Schottky barrier diodes (SBDs) in the temperature range 160-400 K in steps of 40 K. The barrier heights and ideality factors of Schottky contact are found in the range 0.35 eV (I-V), 0.73 eV (C-V) at 160 K and 0.63 eV (I-V), 0.61 eV (C-V) at 400 K, respectively. It is observed that the zero-bias barrier height decreases and ideality factor n increase with a decrease in temperature, this behaviour is attributed to barrier inhomogeneities by assuming Gaussian distribution at the interface. The calculated value of series resistance (Rs) from the forward I-V characteristics is decreased with an increase in temperature. The homogeneous barrier height value of approximately 0.71 eV for the Pd/Ti Schottky diode has been obtained from the linear relationship between the temperature-dependent experimentally effective barrier heights and ideality factors. The zero-bias barrier height ( ) versus 1/2kT plot has been drawn to obtain evidence of a Gaussian distribution of the barrier heights and values of = 0.80 eV and = 114 mV for the mean barrier height and standard deviation have been obtained from the plot, respectively. The modified Richardson ln(I0/T2)- ( ) versus 1000/T plot has a good linearity over the investigated temperature range and gives the mean barrier height ( ) and Richardson constant (A*) values as 0.796 eV and 6.16 Acm-2K-2 respectively. The discrepancy between Schottky barrier heights obtained from I-V and C-V measurements is also interpreted. 展开更多
关键词 SCHOTTKY Barrier Parameters I-v-T and C-v-T MEASUREMENTS pd/Ti SCHOTTKY CONTACTS N-Type InP Gaussian Distribution
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Container Based Nomadic Vehicular Cloud Using Cell Transmission Model
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作者 Devakirubai Navulkumar Menakadevi Thangavelu 《Computer Systems Science & Engineering》 SCIE EI 2023年第1期423-440,共18页
Nomadic Vehicular Cloud(NVC)is envisaged in this work.The predo-minant aspects of NVC is,it moves along with the vehicle that initiates it and functions only with the resources of moving vehicles on the heavy traffic ... Nomadic Vehicular Cloud(NVC)is envisaged in this work.The predo-minant aspects of NVC is,it moves along with the vehicle that initiates it and functions only with the resources of moving vehicles on the heavy traffic road without relying on any of the static infrastructure and NVC decides the initiation time of container migration using cell transmission model(CTM).Containers are used in the place of Virtual Machines(VM),as containers’features are very apt to NVC’s dynamic environment.The specifications of 5G NR V2X PC5 interface are applied to NVC,for the feature of not relying on the network coverage.Nowa-days,the peak traffic on the road and the bottlenecks due to it are inevitable,which are seen here as the benefits for VC in terms of resource availability and residual in-network time.The speed range of high-end vehicles poses the issue of dis-connectivity among VC participants,that results the container migration failure.As the entire VC participants are on the move,to maintain proximity of the containers hosted by them,estimating their movements plays a vital role.To infer the vehicle movements on the road stretch and initiate the container migration prior enough to avoid the migration failure due to vehicles dynamicity,this paper proposes to apply the CTM to the container based and 5G NR V2X enabled NVC.The simulation results show that there is a significant increase in the success rate of vehicular cloud in terms of successful container migrations. 展开更多
关键词 vehicular cloud container migration cell transmission model 5G NR v2X PC5 interface
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“V+数量”结构的“语义—语用”界面研究
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作者 曹彧 《汉语学习》 北大核心 2023年第2期103-112,共10页
本文从“语义—语用”视域出发,选取了10类20个量词研究“V+数量”结构。考察发现,在语义层面,“V+数量”结构中与量词高频共现的动词包括评判类、存有类、施动类、祈使类、感受类5大类,对应17种语义框架。在语用层面,该结构体现出整体... 本文从“语义—语用”视域出发,选取了10类20个量词研究“V+数量”结构。考察发现,在语义层面,“V+数量”结构中与量词高频共现的动词包括评判类、存有类、施动类、祈使类、感受类5大类,对应17种语义框架。在语用层面,该结构体现出整体有界性、语义模糊性、个体化特指等特点。语义、语用层同时作用于界面层,体现出语义框架制约数词虚化发生的特点,语用环境制约数词主观量义的类型。 展开更多
关键词 v+数量”结构 语义 语用 “语义—语用”界面
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界面陷阱分布对SiC MOSFET准静态C-V特性的影响
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作者 高秀秀 王勇志 +3 位作者 胡兴豪 周维 刘洪伟 戴小平 《半导体技术》 CAS 北大核心 2023年第4期294-300,323,共8页
为了分析4H-SiC/SiO_(2)固定电荷和界面陷阱对MOSFET准静态电容-电压(C-V)特性曲线的影响机制,对不同栅氧氮退火条件下的n沟道4H-SiC双注入MOSFET(DIMOSFET)进行了氧化层中可动离子、界面陷阱分布和准静态C-V特性曲线的测试,并结合仿真... 为了分析4H-SiC/SiO_(2)固定电荷和界面陷阱对MOSFET准静态电容-电压(C-V)特性曲线的影响机制,对不同栅氧氮退火条件下的n沟道4H-SiC双注入MOSFET(DIMOSFET)进行了氧化层中可动离子、界面陷阱分布和准静态C-V特性曲线的测试,并结合仿真探讨了测试频率、固定电荷、4H-SiC/SiO_(2)界面陷阱分布对准静态C-V特性曲线的影响。实验和仿真结果表明:电子和空穴界面陷阱分别影响准静态C-V曲线的右半部分和左半部分;界面陷阱的E0、Es、N0(E0为陷阱能级中心与导带底能级或价带顶能级之差,Es为陷阱能级分布的宽度,N0为陷阱能级分布的密度峰值)对准静态C-V曲线的影响是综合的;当E0为0 eV,Es为0.2 eV,电子和空穴捕获截面均为1×10^(-18) cm^(2),电子和空穴界面陷阱的N0分别为5×10^(12) eV^(-1)·cm^(-2)和2×10^(12) eV^(-1)·cm^(-2)时,4H-SiC DIMOSFET准静态C-V仿真曲线和实测曲线相近。 展开更多
关键词 4H-SIC 双注入MOSFET(DIMOSFET) 界面陷阱 准静态电容-电压(C-v)特性 可动离子
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AlN基片金属化Ag-Pd厚膜导体研究 被引量:4
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作者 田民波 何卫 李恒德 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第4期358-362,共5页
在AlN基片上采用Ag-20%Pd浆料实现了厚膜金属化布线。膜层的附着力、表面电阻、可焊性及耐焊料的腐蚀能力都不亚于Al2O3基片上的情况。在烧结过程中,熔化的玻璃料向基片表面流动富集,而导体粉料变成网状结构。结果,... 在AlN基片上采用Ag-20%Pd浆料实现了厚膜金属化布线。膜层的附着力、表面电阻、可焊性及耐焊料的腐蚀能力都不亚于Al2O3基片上的情况。在烧结过程中,熔化的玻璃料向基片表面流动富集,而导体粉料变成网状结构。结果,界面附近的玻璃与导体层之间形成“交联”结构,而与基极之间形成“镶嵌”结构。为了获得这种附着性能良好的界面结构,玻璃料应具有500~600℃合适的软化点,且能润湿金属及AlN基片。 展开更多
关键词 氮化铝 基片 Ag-pd 界面 基片 厚膜 金属化布线
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