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31.38 Gb/s GaN-based LED array visible light communication system enhanced with V-pit and sidewall quantum well structure 被引量:3
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作者 Zengyi Xu Wenqing Niu +12 位作者 Yu Liu Xianhao Lin Jifan Cai Jianyang Shi Xiaolan Wang Guangxu Wang Jianli Zhang Fengyi Jiang Zhixue He Shaohua Yu Chao Shen Junwen Zhang Nan Chi 《Opto-Electronic Science》 2023年第5期12-24,共13页
Although the 5G wireless network has made significant advances,it is not enough to accommodate the rapidly rising requirement for broader bandwidth in post-5G and 6G eras.As a result,emerging technologies in higher fr... Although the 5G wireless network has made significant advances,it is not enough to accommodate the rapidly rising requirement for broader bandwidth in post-5G and 6G eras.As a result,emerging technologies in higher frequencies including visible light communication(VLC),are becoming a hot topic.In particular,LED-based VLC is foreseen as a key enabler for achieving data rates at the Tb/s level in indoor scenarios using multi-color LED arrays with wavelength division multiplexing(WDM)technology.This paper proposes an optimized multi-color LED array chip for high-speed VLC systems.Its long-wavelength GaN-based LED units are remarkably enhanced by V-pit structure in their efficiency,especially in the“yellow gap”region,and it achieves significant improvement in data rate compared with earlier research.This work investigates the V-pit structure and tries to provide insight by introducing a new equivalent circuit model,which provides an explanation of the simulation and experiment results.In the final test using a laboratory communication system,the data rates of eight channels from short to long wavelength are 3.91 Gb/s,3.77 Gb/s,3.67 Gb/s,4.40 Gb/s,3.78 Gb/s,3.18 Gb/s,4.31 Gb/s,and 4.35 Gb/s(31.38 Gb/s in total),with advanced digital signal processing(DSP)techniques including digital equalization technique and bit-power loading discrete multitone(DMT)modulation format. 展开更多
关键词 GaN-based LED LED array VLC v-pit sidewall quantum well high-frequency response
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Effects of V-pits covering layer position on the optoelectronic performance of InGaN green LEDs 被引量:3
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作者 Chen Xu Changda Zheng +4 位作者 Xiaoming Wu Shuan Pan Xingan Jiang Junlin Liu Fengyi Jiang 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2019年第5期61-65,共5页
The impact of the V-pits covering layer(VCL) position on the optoelectronic performance of InGaN-based green light-emitting diodes(LEDs) was investigated. It is found that earlier covering of V-pits will hinder the ho... The impact of the V-pits covering layer(VCL) position on the optoelectronic performance of InGaN-based green light-emitting diodes(LEDs) was investigated. It is found that earlier covering of V-pits will hinder the hole injection via the sidewall of V-pits, and then result in less quantum wells(QWs) participating in radioluminescence. The current-voltage characteristics show that the LEDs with earlier covering of V-pits have higher operating voltage at room temperature, and a more dramatic voltage rise with the reduction of temperature. Meanwhile, more manifested emission peaks for sidewall QWs and deeper QWs near to ntype layer was observed in the sample with earlier coveing of V-pits at cryogenic temperatures, for the reason that the holes being injected via V-pits sidewall have higher kinetic energy and could transport to deeper QWs. 展开更多
关键词 green LIGHT-EMITTING DIODES v-pits covering layer hole injection efficiency operating voltage
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Aging mechanism of GaN-based yellow LEDs with V-pits
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作者 Tian-Ran Zhang Fang Fang +5 位作者 Xiao-Lan Wang Jian-Li Zhang Xiao-Ming Wu Shuan Pan Jun-Lin Liu Feng-Yi Jiang 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2019年第6期384-388,共5页
GaN-based yellow light-emitting diodes(LEDs) on Si substrates are aged at a direct current density of 50 A/cm^2 for500 h. After the aging process, it can be found that the LEDs have a stable electrical property but th... GaN-based yellow light-emitting diodes(LEDs) on Si substrates are aged at a direct current density of 50 A/cm^2 for500 h. After the aging process, it can be found that the LEDs have a stable electrical property but their light output power is decayed by 4.01% at 35 A/cm^2. Additionally, the aging mechanism of GaN-based yellow LED is analyzed. It is found that the decay of light output power may be attributed to the following two reasons: one is the increase of Shockley–Rrad–Hall recombination and the other is the change of the transport path of holes via V-pits after aging, which may induce the radiative recombination current to decrease. In this paper, not only the aging mechanism of GaN-based yellow LED is investigated, but also a new possible research direction in LED aging is given. 展开更多
关键词 GAN-BASED YELLOW LED AGING mechanisms v-pits
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Effects of hole-injection through side-walls of large V-pits on efficiency droop in Ⅲ–nitride LEDs
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作者 Dong-Yan Zhang Jie Zhang +5 位作者 Xiao-Feng Liu Sha-Sha Chen Hui-Wen Li Ming-Qing Liu Da-Qian Ye Du-Xiang Wang 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2019年第4期370-374,共5页
Although the solid-state lighting market is growing rapidly, it is still difficult to obtain ultra-high brightness white light emitting diodes(LEDs). V-pits are inevitably introduced during the metalorganic chemical v... Although the solid-state lighting market is growing rapidly, it is still difficult to obtain ultra-high brightness white light emitting diodes(LEDs). V-pits are inevitably introduced during the metalorganic chemical vapor deposition(MOCVD)growth of multiple quantum wells(MQWs) in Ⅲ–nitride LEDs, and thus affecting the carrier dynamics of the LEDs.Specifically designed structures are fabricated to study the influence of the V-pits on the hole transportation and efficiency droop, and double quantum wells(QWs) are used to monitor the transportation and distribution of holes based on their emission intensity. It is found that when compared with the planar QWs, the injection of holes into the QWs through the side walls of the V-pits changes the distribution of holes among the MQWs. This results in a higher probability of hole injection into the middle QWs and enhanced emission therein, and, consequently, a lower efficiency droop. 展开更多
关键词 v-pits efficiency droop side-wall injection
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通过诱导载流子的V坑传输提升GaN基绿光LED的空穴注入效率
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作者 张东皓 杨东锴 +2 位作者 徐畅 刘信佑 包立君 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第5期800-808,共9页
为了提升GaN基多量子阱LED的空穴注入效率,设计了具有不同最后势垒层结构的GaN基多量子阱外延结构,并将其制备为绿光mini-LED发光芯片,利用低温电致发光光谱、电流电压特性测试对其载流子传输机制进行了研究。结果表明,在采用AlGaN或GaN... 为了提升GaN基多量子阱LED的空穴注入效率,设计了具有不同最后势垒层结构的GaN基多量子阱外延结构,并将其制备为绿光mini-LED发光芯片,利用低温电致发光光谱、电流电压特性测试对其载流子传输机制进行了研究。结果表明,在采用AlGaN或GaN/AlN最后势垒层的样品中,有更多载流子可以传输到深层量子阱,空穴注入效率获得提升。本文对这一现象中的载流子运输机制以及V坑缺陷在其中所起的作用进行了研究,发现这种提升主要来自空穴V坑注入比例的增大。实验还发现,过大的V坑注入比例也会造成非辐射复合率上升,从而抑制了AlGaN最后势垒层样品的电光转换效率。 展开更多
关键词 发光二极管 最后势垒层 空穴注入 INGAN/GAN多量子阱 V坑
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模拟湿寒条件下HRB500钢筋的腐蚀行为研究
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作者 彭佳航 阳辉 +2 位作者 曾泽芸 张轩瑞 李长荣 《工程技术研究》 2023年第13期104-108,共5页
通过盐雾箱模拟高原湿寒环境分析V/Nb微合金化HRB500钢的腐蚀行为,采用扫描电子显微镜、X射线衍射、显微拉曼光谱和电化学工作站,对试样的微观组织、夹杂物、腐蚀产物成分及形貌进行研究,结果表明:钢筋的微观组织由珠光体和铁素体组成,... 通过盐雾箱模拟高原湿寒环境分析V/Nb微合金化HRB500钢的腐蚀行为,采用扫描电子显微镜、X射线衍射、显微拉曼光谱和电化学工作站,对试样的微观组织、夹杂物、腐蚀产物成分及形貌进行研究,结果表明:钢筋的微观组织由珠光体和铁素体组成,抗拉强度达到597 MPa,夹杂物主要为氧化铝和氮化钛。在12 h时夹杂物诱导点蚀发生形成点蚀坑,120 h时点蚀逐步扩展为局部腐蚀,腐蚀产物主要由α-FeOOH、Fe_(3)O_(4)、γ-FeOOH和γ-Fe_(2)O_(3)组成,其中α-FeOOH和Fe_(3)O_(4)的含量相对较高,导致锈层更加致密,使得钢筋的防腐性能提高。 展开更多
关键词 V/Nb微合金化 湿寒条件 点蚀 局部腐蚀
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中高温GaN插入层厚度对蓝光LED光电性能的影响 被引量:2
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作者 刘青明 卢太平 +13 位作者 朱亚丹 韩丹 董海亮 尚林 赵广洲 赵晨 周小润 翟光美 贾志刚 梁建 马淑芳 薛晋波 李学敏 许并社 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第7期829-835,共7页
利用金属有机气相化学沉积(MOCVD)技术在蓝宝石图形衬底上生长GaN基蓝光LED,并系统研究了不同中高温GaN插入层厚度对其光电性能的影响。利用芯片测试仪和原子力显微镜(AFM)表征了GaN基蓝光LED外延片的光电性能以及表面形貌。当中高... 利用金属有机气相化学沉积(MOCVD)技术在蓝宝石图形衬底上生长GaN基蓝光LED,并系统研究了不同中高温GaN插入层厚度对其光电性能的影响。利用芯片测试仪和原子力显微镜(AFM)表征了GaN基蓝光LED外延片的光电性能以及表面形貌。当中高温GaN插入层厚度从60 nm增加至100 nm时,V形坑尺寸从70-110 nm增加至110-150 nm。当注入电流为20 mA时,LED芯片的光功率从21.9 mW增加至24.1mW;当注入电流为120 mA时,LED芯片的光功率从72.4 mW增加至82.4 mW。对V形坑尺寸调控LED光电性能的相关物理机制进行了分析,结果表明:增大V形坑尺寸有利于增加空穴注入面积和注入效率,进而提高LED器件的光功率。 展开更多
关键词 氮化镓 LED V形坑 空穴注入效率
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从石英砂粒表面结构特征探讨吉林省西部沙地沙丘砂的成因 被引量:1
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作者 李志民 《东北师大学报(自然科学版)》 CAS CSCD 1991年第1期113-118,共6页
为了探讨吉林省西部沙地沙丘砂的成因,本文通过描电镜技术对吉林省西部沙地沙丘石英砂颗粒麦面结构特征进行了研究。根据其复合特征,划分出水动力作用、风力作用和化学营力作用三种类型。探讨了石英砂颗粒表面结构特征与环境的关系,它... 为了探讨吉林省西部沙地沙丘砂的成因,本文通过描电镜技术对吉林省西部沙地沙丘石英砂颗粒麦面结构特征进行了研究。根据其复合特征,划分出水动力作用、风力作用和化学营力作用三种类型。探讨了石英砂颗粒表面结构特征与环境的关系,它们经历了流水环境和风成环境。沙丘的物质来源是来自于现代河流和古代河流搬运来的碎屑物质。碎屑物质经风力吹扬作用短距离搬运堆积后形成沙丘,属原地起砂。 展开更多
关键词 吉林 沙地 沙丘砂 石英 砂粒
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金属有机化学气相沉积生长的GaN膜中V缺陷研究 被引量:1
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作者 赵丽伟 滕晓云 +3 位作者 郝秋艳 朱军山 张帷 刘彩池 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2006年第1期38-42,共5页
利用金属有机化学气相沉积(MOCVD)技术,在Si(111)衬底上外延生长不同厚度的GaN。外延层薄的GaN表面存在大量的V缺陷,并且V缺陷的两侧有相互平行的带状高坡;外延层厚的GaN表面没有V缺陷,表面平整且晶体质量高。位错处存在晶格畸变,杂质... 利用金属有机化学气相沉积(MOCVD)技术,在Si(111)衬底上外延生长不同厚度的GaN。外延层薄的GaN表面存在大量的V缺陷,并且V缺陷的两侧有相互平行的带状高坡;外延层厚的GaN表面没有V缺陷,表面平整且晶体质量高。位错处存在晶格畸变,杂质易于在此处聚集,达到一定浓度就会抑制晶体在此处生长而形成V缺陷。受位错附近应力场与气流的影响,V缺陷两侧出现带状高坡。生长时间延长,GaN表面的V缺陷就会被填满,带状高坡横向生长合并成为平整的表面。用m(KOH)∶m(H2O)=1∶10的KOH溶液腐蚀后,平整的表面出现六角腐蚀坑,密度与原生坑密度相近,认为是原生坑被填满的位置腐蚀后再次出现。 展开更多
关键词 GAN V缺陷 湿法化学腐蚀 六角腐蚀坑
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邓肯-张参数对基坑支护结构变形的敏感性研究 被引量:3
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作者 邓成发 翟守俊 胡广伟 《工程地质学报》 CSCD 2008年第5期605-610,共6页
有限单元法是计算基坑开挖支护结构变形的常见的数值计算方法,其土体模型参数的准确性是计算结果可靠性高的保证。邓肯-张E-υ模型是岩土工程分析计算中常用的一种非线性弹性模型。本文以双排桩支护结构为例,针对模型参数敏感性进行大... 有限单元法是计算基坑开挖支护结构变形的常见的数值计算方法,其土体模型参数的准确性是计算结果可靠性高的保证。邓肯-张E-υ模型是岩土工程分析计算中常用的一种非线性弹性模型。本文以双排桩支护结构为例,针对模型参数敏感性进行大量非线性有限元计算,计算结果表明:影响基坑支护结构变形的主要参数为k、G、Rf和n,随着G、Rf和n的增大,侧向位移增大;随着k的增大,侧向位移减小。对于弯矩而言,参数的变化对弯矩的影响较小。从整体来看,邓肯-张参数对侧向位移的敏感性要大于对弯矩的敏感性。 展开更多
关键词 邓肯-张E-υ模型 敏感性分析 基坑 有限元
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V-H组合荷载作用下基坑围护结构变形特性分析 被引量:1
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作者 江杰 田翔豪 +1 位作者 罗方正 彭伯伦 《广西大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2021年第6期1417-1425,共9页
为了探究竖向荷载(V)和水平荷载(H)组合作用下的地铁车站围护结构变形特性,以南宁地铁5号线某地铁车站基坑为依托,首先采用FLAC3D有限差分软件对基坑开挖支护进行数值模拟,将受V-H组合荷载和仅受水平荷载作用的基坑围护结构变形计算结... 为了探究竖向荷载(V)和水平荷载(H)组合作用下的地铁车站围护结构变形特性,以南宁地铁5号线某地铁车站基坑为依托,首先采用FLAC3D有限差分软件对基坑开挖支护进行数值模拟,将受V-H组合荷载和仅受水平荷载作用的基坑围护结构变形计算结果进行对比分析,然后将数值计算得到的规律与现场监测数据进行对比验证。结果表明:现场实监测值与数值计算值较吻合,受V-H组合荷载和仅受水平荷载作用的基坑围护桩变形形式一致,预先作用的竖向荷载对桩身变形形式的影响较小;预先作用的竖向荷载能使围护桩身最大水平位移位置下移,下移深度约为开挖深度的12.5%;监测结果显示,V-H组合荷载下的围护桩身最大水平位移增大约27%,削弱了围护桩的水平承载力,同时预先作用的竖向荷载使内支撑轴力增大约10%。 展开更多
关键词 V-H组合荷载 基坑 围护结构 数值计算 现场监测
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InGaN/GaN超晶格厚度对Si衬底GaN基蓝光发光二极管光电性能的影响 被引量:4
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作者 齐维靖 张萌 +3 位作者 潘拴 王小兰 张建立 江风益 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2016年第7期308-315,共8页
采用有机金属化学气相沉积技术在Si(111)衬底上生长蓝光多量子阱发光二极管(LED)结构,通过在量子阱下方分别插入两组不同厚度的InGaN/GaN超晶格,比较了超晶格厚度对LED光电性能的影响.结果显示:随超晶格厚度增加,样品的反向漏电流加剧;3... 采用有机金属化学气相沉积技术在Si(111)衬底上生长蓝光多量子阱发光二极管(LED)结构,通过在量子阱下方分别插入两组不同厚度的InGaN/GaN超晶格,比较了超晶格厚度对LED光电性能的影响.结果显示:随超晶格厚度增加,样品的反向漏电流加剧;300 K下电致发光仪测得随着电流增加,LED发光光谱峰值的蓝移量随超晶格厚度增加而减少,但不同超晶格厚度的两个样品在300 K下的电致发光强度几乎无差异.结合高分辨X射线衍射仪、扫描电子显微镜、透射电子显微镜对样品的位错密度和V形坑特征分析,明确了两样品反向漏电流产生巨大差异的原因是由于超晶格厚度大的样品具有更大的V形坑和V形坑密度,而V形坑可作为载流子的优先通道,使超晶格更厚的样品反向漏电流加剧.通过对样品非对称(105)面附近的X射线衍射倒易空间图分析,算得超晶格厚度大的样品其InGaN量子阱在GaN上的弛豫度也大,即超晶格厚度增加有利于减小InGaN量子阱所受的应力.综合以上影响LED发光效率的消长因素,导致两样品最终的发光强度相近. 展开更多
关键词 超晶格厚度 反向漏电 V形坑 应力弛豫
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V形坑尺寸对硅衬底InGaN/AlGaN近紫外LED光电性能的影响 被引量:3
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作者 聂晓辉 王小兰 +3 位作者 莫春兰 张建立 潘拴 刘军林 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第6期735-741,共7页
使用MOCVD在图形化Si衬底上生长了InGaN/AlGaN近紫外LED,通过改变低温GaN插入层的厚度调控V形坑尺寸,系统地研究了V形坑尺寸对InGaN/AlGaN近紫外LED(395 nm)光电性能的影响。结果表明,低温GaN插入层促进了V形坑的形成,并且V形坑尺寸随... 使用MOCVD在图形化Si衬底上生长了InGaN/AlGaN近紫外LED,通过改变低温GaN插入层的厚度调控V形坑尺寸,系统地研究了V形坑尺寸对InGaN/AlGaN近紫外LED(395 nm)光电性能的影响。结果表明,低温GaN插入层促进了V形坑的形成,并且V形坑尺寸随着插入层厚度的增加而增大。在电学性能方面,随着V形坑尺寸的增大,-5 V下的漏电流从5.2×10^(-4)μA增加至6.5×10~2μA;350 mA下正向电压先从3.55 V降至3.44 V,然后升高至3.60 V。在光学性能方面,随着V形坑尺寸的增大,35 A/cm^2下的归一化外量子效率先从0.07提高至最大值1,然后衰退至0.53。对V形坑尺寸影响InGaN/AlGaN近紫外LED光电性能的物理机理进行了分析,结果表明:InGaN/AlGaN近紫外LED的光电性能与V形坑尺寸密切相关,最佳的V形坑尺寸为120~190 nm,尺寸太大或者太小都会降低器件性能。 展开更多
关键词 硅衬底 近紫外LED 低温GaN插入层 V形坑尺寸 光电性能
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V形颧弓骨折复位器治疗凹陷型颧弓骨折35例围术期护理
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作者 杨静 孙玲 《齐鲁护理杂志》 2007年第4期7-8,共2页
目的:探讨V型颧弓骨折复位器治疗凹陷型颧弓骨折的护理方法。方法:用自制V型颧弓骨折复位器对35例颧弓凹陷骨折的患者进行口内前庭沟切口手术复位。围手术期给予积极心理疏导、饮食指导、口腔护理、密切观察病情、遵医嘱应用抗生素。结... 目的:探讨V型颧弓骨折复位器治疗凹陷型颧弓骨折的护理方法。方法:用自制V型颧弓骨折复位器对35例颧弓凹陷骨折的患者进行口内前庭沟切口手术复位。围手术期给予积极心理疏导、饮食指导、口腔护理、密切观察病情、遵医嘱应用抗生素。结果:术后无1例面部血肿及面神经损伤,31例面部外形对称,凹陷畸形消失,3例基本对称,1例不对称为复位过度;术后对位对线良好,弓形恢复34例,1例折线没有对位,弓形没有恢复;开口度恢复正常者32例,开口度轻度受限者3例。结论:用自制V形复位器治疗颧弓凹陷骨折,通过术前、术后精心护理,患者均康复出院,值得临床推广应用。 展开更多
关键词 V形复位器 颧弓 凹陷型骨折 护理
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垒层温度对InGaN量子点/量子阱复合结构内量子效率的影响 被引量:3
15
作者 平晨 贾志刚 +2 位作者 董海亮 张爱琴 许并社 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2021年第5期809-815,824,共8页
使用金属有机化学气相沉积(metal organic chemical vapor deposition,MOCVD)方法生长了三个具有不同垒层温度的InGaN/GaN量子阱。由于高密度V型坑的形成,完整的量子阱结构被破坏,转变成了InGaN量子点(quantum dots,QDs)/量子阱(quantum... 使用金属有机化学气相沉积(metal organic chemical vapor deposition,MOCVD)方法生长了三个具有不同垒层温度的InGaN/GaN量子阱。由于高密度V型坑的形成,完整的量子阱结构被破坏,转变成了InGaN量子点(quantum dots,QDs)/量子阱(quantum well,QW)复合结构。通过变功率光致发光谱和变温光致发光谱,分析了在不同的垒层温度下量子限制斯塔克效应(quantum confined Stark effect,QCSE)、非辐射复合中心密度和载流子局域化效应的变化。结果表明:在较低的垒层温度下,QCSE较弱,因为在较低的温度下,V型坑的深度较深,应力释放较明显,残余应变较低;非辐射复合中心密度也随着温度的升高而逐渐增大;样品的内量子效率(internal quantum efficiency,IQE)随着垒层生长温度的升高而降低。QCSE的增强和非辐射复合中心密度的增大是垒层生长温度升高时内量子效率下降的主要因素。 展开更多
关键词 量子点/量子阱复合结构 V型坑 量子限制斯塔克效应 非辐射复合中心 内量子效率 金属有机化学气相沉积
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氮化镓基绿光LED中V坑对空穴电流分布的影响 被引量:1
16
作者 许毅 吴庆丰 +4 位作者 周圣军 潘拴 吴小明 张建立 全知觉 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第5期674-680,共7页
采用实验与理论模拟相结合的方法,研究了氮化镓基绿光发光二极管(LED)中V坑对空穴电流分布的影响。首先,实验获得了V坑面积占比不同的3种样品;然后,建立数值模型,使得理论计算的外量子效率(EQE)及电压与实验测试的变化趋势相匹配,从而... 采用实验与理论模拟相结合的方法,研究了氮化镓基绿光发光二极管(LED)中V坑对空穴电流分布的影响。首先,实验获得了V坑面积占比不同的3种样品;然后,建立数值模型,使得理论计算的外量子效率(EQE)及电压与实验测试的变化趋势相匹配,从而确立了所用数值模型的可信性。计算结果显示:V坑改变了空穴电流的分布,空穴电流密度在V坑处显著增加,在平台处明显减小。进一步的分析表明:V坑面积占比在0~10%范围内,V坑空穴电流占比与V坑面积占比之间呈近线性增长(斜率为2.06),但V坑空穴注入在整个空穴注入的过程中仍未占主导。 展开更多
关键词 V坑 氮化镓 绿光LED 空穴电流分布
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量子阱结构对含V形坑InGaN/GaN蓝光LED效率衰减的影响
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作者 吕全江 莫春兰 +3 位作者 张建立 吴小明 刘军林 江风益 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第7期923-929,共7页
使用MOCVD在图形化Si衬底上生长了含V形坑的InGaN/GaN蓝光LED。通过改变生长温度,生长了禁带宽度稍大的载流子限制阱和禁带宽度稍小的发光阱,研究了两类量子阱组合对含V形坑InG aN/GaN基蓝光LED效率衰减的影响。使用高分辨率X射线衍射仪... 使用MOCVD在图形化Si衬底上生长了含V形坑的InGaN/GaN蓝光LED。通过改变生长温度,生长了禁带宽度稍大的载流子限制阱和禁带宽度稍小的发光阱,研究了两类量子阱组合对含V形坑InG aN/GaN基蓝光LED效率衰减的影响。使用高分辨率X射线衍射仪和LED电致发光测试系统对LED外延结构和LED光电性能进行了表征。结果表明:限制阱靠近n层、发光阱靠近p层的新型量子阱结构,在室温75 A/cm^2时的外量子效率相对于其最高点仅衰减12.7%,明显优于其他量子阱结构的16.3%、16.0%、28.4%效率衰减,且只有这种结构在低温时(T≤150 K)未出现内量子效率随电流增大而剧烈衰减的现象。结果表明,合理的量子阱结构设计能够显著提高电子空穴在含V形坑量子阱中的有效交叠,促进载流子在阱间交互,提高载流子匹配度,抑制电子泄漏,从而减缓效率衰减、提升器件光电性能。 展开更多
关键词 硅衬底 InGaN/GaN蓝光LED 效率衰减 V形坑 量子阱结构
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经山寺露天铁矿减小爆破振动的实践 被引量:4
18
作者 祝云辉 《露天采矿技术》 CAS 2015年第2期27-30,共4页
在经山寺露天铁矿开采过程中,由于存在着露井联采、高边坡、周围建筑物或构筑物距离近等复杂地理环境,因此对爆破振动要求较高,经山寺露天铁矿在爆破作业中通过毫秒延期爆破技术、调整孔网参数和起爆顺序等技术手段来降低爆破振动。经... 在经山寺露天铁矿开采过程中,由于存在着露井联采、高边坡、周围建筑物或构筑物距离近等复杂地理环境,因此对爆破振动要求较高,经山寺露天铁矿在爆破作业中通过毫秒延期爆破技术、调整孔网参数和起爆顺序等技术手段来降低爆破振动。经过长期的监测,经山寺露天铁矿爆破作业对周围环境的影响稳定,爆破振动在合理范围内。 展开更多
关键词 露天铁矿 爆破振动 V型起爆网路 露井联采 高边坡
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GaN基LED中V形坑缺陷的研究进展
19
作者 刘青明 尚林 +5 位作者 邢茹萍 侯艳艳 张帅 黄佳瑶 马淑芳 许并社 《中国材料进展》 CAS CSCD 北大核心 2020年第12期968-973,共6页
自低温AlN、GaN形核技术和高温热退火技术实现了外延高质量GaN薄膜和激活p型GaN受主以来,GaN基光电器件得到了迅猛发展。但是,GaN基光电器件依然存在诸多基础性问题,特别是基于异质衬底外延的GaN基LED外延层中的位错密度高达10^(8) cm^(... 自低温AlN、GaN形核技术和高温热退火技术实现了外延高质量GaN薄膜和激活p型GaN受主以来,GaN基光电器件得到了迅猛发展。但是,GaN基光电器件依然存在诸多基础性问题,特别是基于异质衬底外延的GaN基LED外延层中的位错密度高达10^(8) cm^(-2),内量子效率却超过50%。V形坑是GaN基LED外延层中一种常见的倒金字塔缺陷,6个侧面与c面的夹角均为62°。基于V形坑缺陷对LED光电性能影响的研究成果,介绍了V形坑中侧壁量子阱屏蔽位错理论:侧壁量子阱的In含量较低,其势垒高度大于c面量子阱,故在穿透位错周围形成了高势垒,阻挡载流子被非辐射复合中心所捕获。此外,还综述了V形坑缺陷的形成机理、附近区域的发光特性、对LED电学特性的影响以及通过优化V形坑调控LED光电性能的研究。 展开更多
关键词 氮化镓 V形坑缺陷 非辐射复合 光电性能
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Invariable optical properties of phosphor-free white light-emitting diode under electrical stress
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作者 龙浩 方浩 +6 位作者 齐胜利 桑丽雯 曹文彧 颜建 邓俊静 杨志坚 张国义 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2010年第10期520-524,共5页
This paper reports that a dual-wavelength white light-emitting diode is fabricated by using a metal-organic chemical vapor deposition method. Through a 200-hours' current stress, the reverse leakage current of this l... This paper reports that a dual-wavelength white light-emitting diode is fabricated by using a metal-organic chemical vapor deposition method. Through a 200-hours' current stress, the reverse leakage current of this light-emitting diode increases with the aging time, but the optical properties remained unchanged despite the enhanced reverse leakage current. Transmission electron microscopy and cathodeluminescence images show that indium atoms were assembled in and around V-shape pits with various compositions, which can be ascribed to the emitted white light. Evolution of cathodeluminescence intensities under electron irradiation is also performed. Combining cathodeluminescence intensities under electron irradiation and above results, the increase of leakage channels and crystalline quality degradation are realized. Although leakage channels increase with aging, potential fluctuation caused by indium aggregation can effectively avoid the impact of leakage channels. Indium aggregation can be attributed to the mechanism of preventing optical degradation in phosphor-free white light-emitting diode. 展开更多
关键词 light-emitting diode gallium nitride DEGRADATION V-shape pits
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