VCAD法沉积氮化钛膜的X-射线研究

用 VCAD 法在不锈钢和工模具钢基体上沉积均匀、致密的 TiN 膜时,TiN 膜的色泽、结晶取向和点阵常数均可能随着工艺参数的改变而改变,论文作者用 XRD 法研究了不同条件下该 TiN 膜的结构和点阵常数的变化,以及择优取向度,并对膜的行为差异作了分析,结果表明:随着涂层中氮含量的增加,点阵常数值增大;TiN_x 的色泽与氮含量有关;择优取向主要取决于偏压。