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不溶性阳极溶铜块在VCP直流电镀工艺应用研究
1
作者
王颖
张本汉
+2 位作者
苗向阳
王浩鹏
刘家强
《印制电路信息》
2023年第S02期294-302,共9页
随着PCB的快速发展,PCB向着线路越来越精细、厚径比越来越高发展。直流可溶性阳极VCP(Vertical Continuous Plating)线深镀能力不足,后期板面均匀性差等问题难以满足现在生产需求。本文从VCP发展历史开始,讲述不溶性阳极溶铜块技术结构...
随着PCB的快速发展,PCB向着线路越来越精细、厚径比越来越高发展。直流可溶性阳极VCP(Vertical Continuous Plating)线深镀能力不足,后期板面均匀性差等问题难以满足现在生产需求。本文从VCP发展历史开始,讲述不溶性阳极溶铜块技术结构和工作原理。并与传统的磷铜球VCP直流电镀、不溶性阳极溶氧化铜粉VCP直流电镀工艺做分析对比。该技术迭代加速产业升级,赋能PCB制造业高质量发展。
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关键词
不溶性阳极
溶铜块
vcp直流电镀
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职称材料
题名
不溶性阳极溶铜块在VCP直流电镀工艺应用研究
1
作者
王颖
张本汉
苗向阳
王浩鹏
刘家强
机构
深圳市正天伟科技有限公司
出处
《印制电路信息》
2023年第S02期294-302,共9页
文摘
随着PCB的快速发展,PCB向着线路越来越精细、厚径比越来越高发展。直流可溶性阳极VCP(Vertical Continuous Plating)线深镀能力不足,后期板面均匀性差等问题难以满足现在生产需求。本文从VCP发展历史开始,讲述不溶性阳极溶铜块技术结构和工作原理。并与传统的磷铜球VCP直流电镀、不溶性阳极溶氧化铜粉VCP直流电镀工艺做分析对比。该技术迭代加速产业升级,赋能PCB制造业高质量发展。
关键词
不溶性阳极
溶铜块
vcp直流电镀
Keywords
Insoluble Anodized
Dissolve Copper Block
vcp
Direct Current Plating
分类号
TN41 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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作者
出处
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1
不溶性阳极溶铜块在VCP直流电镀工艺应用研究
王颖
张本汉
苗向阳
王浩鹏
刘家强
《印制电路信息》
2023
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