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蚀刻技术在VFD栅网制作中的突破
1
作者
裘华见
童雄生
《信息记录材料》
2001年第3期8-9,共2页
VFD栅网以其超细的线度和高度的均匀性,提出了蚀刻技术的新课题,促成了蚀刻技术的新突破。
关键词
vfd
栅网
蚀刻技术
真空荧光显示屏
曝光工序
腐蚀工序
下载PDF
职称材料
题名
蚀刻技术在VFD栅网制作中的突破
1
作者
裘华见
童雄生
机构
华飞精密器件有限公司
出处
《信息记录材料》
2001年第3期8-9,共2页
文摘
VFD栅网以其超细的线度和高度的均匀性,提出了蚀刻技术的新课题,促成了蚀刻技术的新突破。
关键词
vfd
栅网
蚀刻技术
真空荧光显示屏
曝光工序
腐蚀工序
Keywords
vfd screen-grid etch technology break through
分类号
TN141 [电子电信—物理电子学]
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作者
出处
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1
蚀刻技术在VFD栅网制作中的突破
裘华见
童雄生
《信息记录材料》
2001
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