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Effect of the Structure and Valence State on the Properties of VO_2 Thin Films 被引量:1
1
作者 LUYong LINLi-bin 《Semiconductor Photonics and Technology》 CAS 2001年第2期98-103,共6页
VO 2 thin films with good switching properties were prepared by controlling the annealing time and the annealing temperature in a vacuum system. The structural, optical and electrical properties of the samples were ch... VO 2 thin films with good switching properties were prepared by controlling the annealing time and the annealing temperature in a vacuum system. The structural, optical and electrical properties of the samples were characterized by using XRD、XPS、UV-VIS and electrical measurements. The switching parameters of VO 2 thin film were investigated too. The results indicate that before and after phase transition the resistance of VO 2 thin films changes about three orders of magnitude, the variation of film transmittance of 40 % has been carried out with the absorptivity switching velocity of about 0.260 7 /min at 900 nm . The structural property of samples has been improved but the phase-transition properties have been decreased by increasing the annealing time and annealing temperature. The valence of V ions and the structure of samples have great effect on phase transition properties of VO 2 thin films. Discussion on the effects of annealing time and annealing temperature on the phase-transition temperature and hysteresis width shows that the best reasonable annealing time and annealing temperature can be achieved. 展开更多
关键词 vo 2 thin film Phase transition film structure Valence state
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VO_2薄膜的主要制备工艺参数研究 被引量:28
2
作者 尹大川 许念坎 +2 位作者 刘正堂 张晶宇 郑修麟 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第1期52-55,共4页
通过正交试验设计对制备VO2薄膜过程中的部分影响因素(膜厚,最终热处理温度和热处理保温时间)进行了分析研究。VO2薄膜由无机溶胶-凝胶法制备V2O5凝胶膜经真空热处理而成。试验结果表明,VO2薄膜的最终电学性能明显受... 通过正交试验设计对制备VO2薄膜过程中的部分影响因素(膜厚,最终热处理温度和热处理保温时间)进行了分析研究。VO2薄膜由无机溶胶-凝胶法制备V2O5凝胶膜经真空热处理而成。试验结果表明,VO2薄膜的最终电学性能明显受到膜厚、热处理温度和保温时间的影响。其中以热处理温度的影响作用最为显著。当真空度为3Pa、升温速率为2℃/min时,在试验参数范围内(真空热处理温度340~500℃,保温时间40~240min,膜厚0.25~0.45μm),经分析得到使VO2薄膜具有最大电阻突变特性的优化工艺为:加热温度500℃,保温时间140min,膜厚0.25μm。文中对试验结果进行了讨论。 展开更多
关键词 vo2 薄膜 凝胶法 金属-绝缘体 转变
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价态和结构对VO_2薄膜热致相变光电性能的影响 被引量:10
3
作者 卢勇 林理彬 +2 位作者 邹萍 何捷 王鹏 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第2期185-191,共7页
本文通过合理控制真空还原时间和真空还原温度 ,利用真空还原V2 O5的方法制备出具有优良热致相变性能的VO2 薄膜 ;通过研究不同真空还原时间及真空退火温度对VO2 薄膜结构和热致相变过程中光电性能的影响 ,得到最佳真空还原参数 ;制备... 本文通过合理控制真空还原时间和真空还原温度 ,利用真空还原V2 O5的方法制备出具有优良热致相变性能的VO2 薄膜 ;通过研究不同真空还原时间及真空退火温度对VO2 薄膜结构和热致相变过程中光电性能的影响 ,得到最佳真空还原参数 ;制备的薄膜高 /低温电阻变化最大达 3个数量级 ,90 0nm波长光透过率在相变前后改变了 4 0 %左右 ,光学特性相变响应参数较大 ,热致相变性能优良。利用XPS、XRD对不同条件制备薄膜的化学状态和结晶状态进行了研究 ,结果表明较低温度退火有利于V5+ 离子的还原 ,而升高退火温度可改善结晶状态 ,退火时间对VO2 中结晶状况和V离子价态有显著影响。讨论了离子价态和样品结晶状态对VO2 薄膜热相变过程中热滞回线的宽度、相变温度点的影响。 展开更多
关键词 vo2薄膜 热致相变 光电性能 价态 结构
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1.7MeV电子束在VO_2热致相变薄膜中引起的结构和光电性能的变化 被引量:5
4
作者 卢勇 林理彬 +2 位作者 邹萍 卢铁城 何捷 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第5期525-528,共4页
利用能量为 1.7MeV、注量分别为 10 13 ~ 10 15/cm2 的电子辐照VO2 薄膜 ,采用XPS、XRD等测试手段对电子辐照前后的样品进行分析 ,并采用光透射性能和电学性能测试研究了电子辐照对样品相变过程中光电性能的影响。结果表明电子辐照在V... 利用能量为 1.7MeV、注量分别为 10 13 ~ 10 15/cm2 的电子辐照VO2 薄膜 ,采用XPS、XRD等测试手段对电子辐照前后的样品进行分析 ,并采用光透射性能和电学性能测试研究了电子辐照对样品相变过程中光电性能的影响。结果表明电子辐照在VO2 薄膜中出现变价效应 ,产生新的X射线衍射峰 ,带来薄膜化学成分的变化。电子辐照在样品中产生的这些变化对VO2 展开更多
关键词 结构 相变性能 电子辐照 热致相变 二氧化钡薄膜
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由工业V_2O_5制取VO_2薄膜 被引量:7
5
作者 杨绍利 徐楚韶 +1 位作者 陈厚生 胡再勇 《钢铁钒钛》 CAS 北大核心 2002年第2期7-10,共4页
以工业V2 O5为原料 ,采用N2 热分解法在普通玻璃和石英玻璃衬底上制备VO2 薄膜 ,在自制的电阻 -温度测量装置上测量VO2 薄膜的电阻随温度的变化。结果表明 :VO2 薄膜具有明显电阻突变特性 ,其相变达到了 1.5~ 2 .0个数量级 ,相变温度约... 以工业V2 O5为原料 ,采用N2 热分解法在普通玻璃和石英玻璃衬底上制备VO2 薄膜 ,在自制的电阻 -温度测量装置上测量VO2 薄膜的电阻随温度的变化。结果表明 :VO2 薄膜具有明显电阻突变特性 ,其相变达到了 1.5~ 2 .0个数量级 ,相变温度约为 35℃ ;VO2 薄膜的主要成分是二氧化钒 ,同时含有少量其它的钒化合物。 展开更多
关键词 V2O5 vo2 薄膜 热分解 M-S相变
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真空还原制备的VO_2热致相变薄膜Raman光谱和红外光谱研究 被引量:6
6
作者 卢勇 林理彬 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第6期657-659,共3页
报道了利用真空还原制备的VO2 薄膜的红外透射光谱和Raman光谱 ,并进行 370~ 90 0nm波段的光透射测试以及90 0nm波长的热滞回线特性测试 ,表明所制备VO2 薄膜具有优良的热致相变光学特性 ,结晶状态不同的薄膜其Raman谱位置有明显改变 ... 报道了利用真空还原制备的VO2 薄膜的红外透射光谱和Raman光谱 ,并进行 370~ 90 0nm波段的光透射测试以及90 0nm波长的热滞回线特性测试 ,表明所制备VO2 薄膜具有优良的热致相变光学特性 ,结晶状态不同的薄膜其Raman谱位置有明显改变 ,室温时的红外光谱表现出较好的红外振动特性。讨论了薄膜结晶状态对Raman位移的影响以及VO2 展开更多
关键词 红外光谱 激光Raman散射 二氧化钒薄膜 热致相变材料
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利用制备参数的改变调整VO_2薄膜的电阻温度系数 被引量:6
7
作者 卢勇 林理彬 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2001年第3期181-183,共3页
利用真空还原方法 ,通过合理控制时间和真空退火温度 ,制备出具有优良热致相变特性的VO2 薄膜 ,并对不同真空还原时间、真空退火温度和衬底条件下制备的VO2 薄膜结构和半导体相的电阻温度系数进行了研究。结果表明 ,不同制备参数对所得... 利用真空还原方法 ,通过合理控制时间和真空退火温度 ,制备出具有优良热致相变特性的VO2 薄膜 ,并对不同真空还原时间、真空退火温度和衬底条件下制备的VO2 薄膜结构和半导体相的电阻温度系数进行了研究。结果表明 ,不同制备参数对所得薄膜的结构和价态有显著影响 ,从而对VO2 的电阻温度系数产生较大调整。 展开更多
关键词 热致相变 电阻温度系数 二氧化钒薄膜
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电子束在VO_2薄膜中引起的价态、相结构和光学性能的改变 被引量:1
8
作者 卢勇 林理彬 +2 位作者 卢铁城 甘荣兵 何捷 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第6期706-710,共5页
利用能量为 1 .7Me V,注量分别为 1 .2 5× 1 0 13 /cm2 ,1 .2 5× 1 0 14 /cm2 ,1 .2 5× 1 0 15/cm2 的电子束辐照 VO2 薄膜 ,采用 XPS,XRD等测试手段对电子辐照前后的样品进行分析 ,并研究了电子辐照对样品相变过程中光... 利用能量为 1 .7Me V,注量分别为 1 .2 5× 1 0 13 /cm2 ,1 .2 5× 1 0 14 /cm2 ,1 .2 5× 1 0 15/cm2 的电子束辐照 VO2 薄膜 ,采用 XPS,XRD等测试手段对电子辐照前后的样品进行分析 ,并研究了电子辐照对样品相变过程中光透射特性的影响。结果表明电子辐照引起 VO2 薄膜中 V离子出现价态变化现象 ,并使薄膜的 X射线衍射峰发生变化。电子辐照在样品中产生的这些变化显著改变了 VO2 展开更多
关键词 vo2薄膜 价态 相结构 光学性能 相变性能 电子辐照 电子束 二氧化钒薄膜
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真空还原制备的VO_2热致相变薄膜光学性质研究 被引量:2
9
作者 卢勇 林理彬 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2001年第3期8-10,共3页
本文对不同衬底制备的VO2 薄膜进行了表面形貌测试 ,对其红外透射光谱和Raman光谱进行了研究 ,并进行 370nm -90 0nm波段的光透射测试以及 90 0nm波长的热滞回线特性测试 ,表明所制备VO2 薄膜具有优良的热致相变光学特性 ,薄膜为纳米结... 本文对不同衬底制备的VO2 薄膜进行了表面形貌测试 ,对其红外透射光谱和Raman光谱进行了研究 ,并进行 370nm -90 0nm波段的光透射测试以及 90 0nm波长的热滞回线特性测试 ,表明所制备VO2 薄膜具有优良的热致相变光学特性 ,薄膜为纳米结构 ,并且结晶状态不同的薄膜其Raman谱位置有明显改变 ,室温时的红外光谱表现出较好的红外振动特性。讨论了薄膜结晶状态对Raman位移的影响以及VO2 展开更多
关键词 红外光谱 二氧化钒 热致相变薄膜 光学性质 真空还原
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调整VO_2薄膜相变特性和TCR的制备及辐照方法 被引量:1
10
作者 卢勇 林理彬 何捷 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2002年第1期58-60,共3页
采用不同的真空还原时间、真空退火温度和衬底制备出了VO2 薄膜 ,并对制备出的薄膜进行电子辐照。通过测试辐照前后的VO2 薄膜相变电学性能及低温半导体相电阻 温度系数 (TCR) ,表明不同的制备工艺和不同注量的电子辐照可明显改变VO2 ... 采用不同的真空还原时间、真空退火温度和衬底制备出了VO2 薄膜 ,并对制备出的薄膜进行电子辐照。通过测试辐照前后的VO2 薄膜相变电学性能及低温半导体相电阻 温度系数 (TCR) ,表明不同的制备工艺和不同注量的电子辐照可明显改变VO2 薄膜相变过程中电学性能 ,提高薄膜的电阻 温度系数。对影响VO2 展开更多
关键词 vo2薄膜 电阻温度系数 电学性能 电子辐照 相变特性
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γ射线辐照引起的VO_2薄膜结构和相变光学特性变化 被引量:1
11
作者 卢勇 林理彬 +1 位作者 何捷 卢铁城 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2001年第2期28-30,共3页
利用剂量为 35kGy - 35 0 0kGy的Co60 源辐照VO2 薄膜 ,对辐照后薄膜进行XRD和激光Raman光谱测试。结果表明 ,较低剂量 辐照后VO2 薄膜出现较显著的晶态变差现象 ,而高剂量 辐照则在薄膜中产生退火效应 ,使薄膜晶态变好。由此引起VO2... 利用剂量为 35kGy - 35 0 0kGy的Co60 源辐照VO2 薄膜 ,对辐照后薄膜进行XRD和激光Raman光谱测试。结果表明 ,较低剂量 辐照后VO2 薄膜出现较显著的晶态变差现象 ,而高剂量 辐照则在薄膜中产生退火效应 ,使薄膜晶态变好。由此引起VO2 薄膜的热致相变的光学特性、特征Raman峰的强度和位置随 辐照剂量的增加而出现变化。根据 射线与物质相互作用原理对 展开更多
关键词 二氧化钒薄膜 Γ射线辐照 相变光学特性
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电子辐照对VO_2薄膜热致相变过程中光学性能的影响
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作者 卢勇 林理彬 +2 位作者 邹萍 何捷 卢铁城 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第1期99-104,共6页
利用能量为 1.7MeV ,注量分别为 10 13~ 10 15/cm2 的电子束辐照二氧化钒薄膜 ,对辐照及未辐照样品进行了UV VIS、XPS参数测试 ,并测量 90 0nm处光透射性能随温度的变化。发现电子辐照导致了VO2 薄膜中的V离子价态由V4 +向V5+转变 ,薄... 利用能量为 1.7MeV ,注量分别为 10 13~ 10 15/cm2 的电子束辐照二氧化钒薄膜 ,对辐照及未辐照样品进行了UV VIS、XPS参数测试 ,并测量 90 0nm处光透射性能随温度的变化。发现电子辐照导致了VO2 薄膜中的V离子价态由V4 +向V5+转变 ,薄膜热致相变前后的光透射比随注量增加变化较小 ,只在注量为 10 14 /cm2 时光透射比减小得较明显 ;相变温度点及热滞回线宽度随注量增加出现显著变化。并对有关的结果进行了讨论。 展开更多
关键词 电子辐照 光透射性能 二氧化钒薄膜 热致相变 光学性能
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具有纳米结构的 VO_2 相变薄膜
13
作者 许念坎 尹大川 +1 位作者 张晶宇 郑修麟 《航空学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第5期607-610,共4页
采用无机溶胶-凝胶法制备VO2相变薄膜,该薄膜相变时的电阻(率)突变可达4~5个数量级。并用XRD,DSC和TGA法研究了制膜过程中干凝胶膜的层状非晶纳米结构。通过适当的非晶晶化过程及随后V2O5→VO2转变的真空热... 采用无机溶胶-凝胶法制备VO2相变薄膜,该薄膜相变时的电阻(率)突变可达4~5个数量级。并用XRD,DSC和TGA法研究了制膜过程中干凝胶膜的层状非晶纳米结构。通过适当的非晶晶化过程及随后V2O5→VO2转变的真空热处理,可获得带有空洞(void)结构的低密度纳米薄膜。 展开更多
关键词 相变薄膜 纳米结构 溶胶凝胶法 二氧化钒 薄膜
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MBE法制备VO_2薄膜及其中红外调制深度测量 被引量:1
14
作者 刘志伟 路远 +1 位作者 侯典心 邹崇文 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第7期942-947,共6页
为了给VO_2薄膜在定向红外对抗系统防护方面的应用提供理论依据,我们用透过率调制深度表征VO_2薄膜在中红外波段的相变特性。本实验利用分子束外延法(MBE)制备VO_2外延单晶薄膜,经XRD、AFM表征,发现其具有(020)择优取向、纯度较高,薄膜... 为了给VO_2薄膜在定向红外对抗系统防护方面的应用提供理论依据,我们用透过率调制深度表征VO_2薄膜在中红外波段的相变特性。本实验利用分子束外延法(MBE)制备VO_2外延单晶薄膜,经XRD、AFM表征,发现其具有(020)择优取向、纯度较高,薄膜表面平整、均匀且致密。经VU-Vis-IR测量发现其近红外透过率相变特性显著,但在紫外和可见光范围内透过率相变特性较不明显。然后我们对制备时间为30 min、40min的两组薄膜分别进行25~70℃的升温和降温实验,观察其对波长为3 459 nm、脉宽50 ns、重频50 k Hz、功率密度0.14 W/cm2的中红外激光的透过率变化,并比较两组薄膜的温滞曲线特性。实验发现它们对中红外透过率的调制深度均可达60%以上,前者比后者对中红外的调制深度高出约4%。这说明利用分子束外延法制备的VO_2单晶薄膜具有良好的中红外调制特性,且调制深度和膜厚有关。进一步表明了利用VO_2薄膜实现中红外激光防护具有一定的可行性。 展开更多
关键词 分子束外延 vo2薄膜 透过率调制深度 中红外激光防护
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VO_2薄膜受脉冲激光辐照实验及理论计算 被引量:1
15
作者 刘志伟 路远 +2 位作者 冯云松 刘瑞煌 胡杰 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第10期103-109,共7页
为了探究在脉冲激光辐照VO_2薄膜过程中,影响薄膜相变响应时间的因素,基于COMSOL对辐照过程进行仿真计算.建立辐照VO_2薄膜的物理模型,并设置模型的边界条件,利用红外脉冲激光辐照三组通过分子束外延法制备的VO_2薄膜,间接得到了薄膜平... 为了探究在脉冲激光辐照VO_2薄膜过程中,影响薄膜相变响应时间的因素,基于COMSOL对辐照过程进行仿真计算.建立辐照VO_2薄膜的物理模型,并设置模型的边界条件,利用红外脉冲激光辐照三组通过分子束外延法制备的VO_2薄膜,间接得到了薄膜平均吸收率,并将吸收率实验数据带入计算模型中.在仿真计算中,考虑了激光的功率密度.薄膜基底厚度和薄膜初始温度等因素对仿真结果的影响.实验结果表明:增大激光功率密度和初始温度.减小基底厚度均可缩短薄膜辐照中心相变时间,并且相变时间和激光功率密度呈指数衰减趋势.5 000 W/mm^2的激光辐照基底厚度分别为0.15mm、0.3mm、0.5mm的三组VO_2薄膜,达到相变的时间分别为157ns、250ns、455ns,相变时间随薄膜初始温度升高线性减小.在入射激光功率不明确时,可以通过给VO_2薄膜施加一个接近相变点的偏置温度,适当控制薄膜基底厚度等来缩短相变时间,这对VO_2薄膜防护激光干扰中相变响应时间的相关研究具有一定的借鉴意义. 展开更多
关键词 激光辐照 防护激光干扰 相变响应时间 COMSOL仿真 vo2薄膜
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Crystallization and inter-diffusional behaviors in the formation of VO2(B) thin film with layered W-doping 被引量:3
16
作者 Chuanshuo ZHANG Dongli HU +4 位作者 Hui GU Juanjuan XING Ping XIONG Dongyun WAN Yanfeng GAO 《Journal of Advanced Ceramics》 CSCD 2017年第3期196-206,共11页
To achieve a better material for uncooled infrared (IR) detector, polycrystalline VO2(B) thin films with layered W-doping were fabricated on Si substrates by magnetron sputtering, and the best temperature coefficient ... To achieve a better material for uncooled infrared (IR) detector, polycrystalline VO2(B) thin films with layered W-doping were fabricated on Si substrates by magnetron sputtering, and the best temperature coefficient of resistance (TCR) value reached -4.1%/K. The film synthesis was in a two-step route, first deposition at room temperature and then post-deposition annealing at 450 ℃, to better control the crystallization behavior. Various transmission electron microscopy (TEM) methods were employed to investigate three sets of multi-layered films with different deposition time, 10, 20, and 30 min, with especial emphasis on the effect of layered W-doping scheme on the formation of multiple VO2(B) layers. Spatial-resolved energy dispersive X-ray spectroscopy (EDS) revealed the alternative patterns of W-rich layers and W-poor layers, while the thinner films exhibited better crystallinity and texturing. By comparison with an as-deposited film, it was found that the inter-diffusion between the two types of layers was completed in the deposition step while both remained in amorphous structure. A stable W solution of about 8 cat% in VO2(B) layers measured from all these films indicated that the layered doping can tailor the multi-layered microstructure to optimize the performance of VO2(B) films. 展开更多
关键词 vo2(B) thin film layered W-doping CRYSTALLIZATION transmission electron microscopy (TEM) solid-solution
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溶胶-凝胶VO_2薄膜转换特性研究 被引量:32
17
作者 袁宁一 李金华 林成鲁 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第4期852-856,共5页
利用溶胶 凝胶法在SiO2 Si衬底上沉积高取向的V2 O5薄膜 ,在压强低于 2Pa ,温度高于 40 0℃的条件下 ,对V2 O5薄膜进行真空烘烤 ,获得了电阻率变化 3个数量级以上、弛豫宽度为 6 2℃的VO2 多晶薄膜 .以X射线衍射(XRD)、扫描电子显微... 利用溶胶 凝胶法在SiO2 Si衬底上沉积高取向的V2 O5薄膜 ,在压强低于 2Pa ,温度高于 40 0℃的条件下 ,对V2 O5薄膜进行真空烘烤 ,获得了电阻率变化 3个数量级以上、弛豫宽度为 6 2℃的VO2 多晶薄膜 .以X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜 (SEM)图和电阻率转换特性等实验结果为依据 ,详细分析了溶胶 凝胶薄膜在真空烘烤时从V2 O5向VO2 的转化 ,它经历了从VnO2n +1 (n =2 ,3,4,6 )到VO2 的过程 .实验证明 ,根据选择合适的成膜热处理条件和真空烘烤条件是实现溶胶 凝胶V2 O5结构向VO2 展开更多
关键词 溶胶-凝胶法 氧化钒薄膜 vo2 转换特性
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二氧化钒薄膜表面起泡的起因和防止 被引量:3
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作者 尹大川 许念坎 +2 位作者 张晶宇 刘正堂 郑修麟 《西北工业大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第4期639-643,共5页
对新型的二氧化钒薄膜制备技术即无机溶胶-凝胶法,在制膜过程中其膜面容易起泡这个问题进行了研究,发现制备过程中脱水和晶化过程是起泡的主因。经采用300℃以上的慢速升温烘干处理工艺,避免了在后序真空处理过程中发生脱水和晶... 对新型的二氧化钒薄膜制备技术即无机溶胶-凝胶法,在制膜过程中其膜面容易起泡这个问题进行了研究,发现制备过程中脱水和晶化过程是起泡的主因。经采用300℃以上的慢速升温烘干处理工艺,避免了在后序真空处理过程中发生脱水和晶化过程,解决了二氧化钒薄膜表面起泡的难题,获得了表面状态很好的二氧化钒薄膜。 展开更多
关键词 二氧化钒 薄膜 制备 溶胶-凝胶法 表面起泡
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Reversible optical control of the metal-insulator transition across the epitaxial heterointerface of a VO_(2)/Nb:TiO_(2) junction
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作者 Yuanjun Yang Guilin Wang +18 位作者 Wenyu Huang Cangmin Wang Yingxue Yao Xiaoli Mao Hui Lin Ting Zhang Huaili Qiu Zhongjun Li Hui Zhang Yuewei Yin Jinhua Guo Yong Guan Wensheng Yan Zhenlin Luo Chongwen Zou Yangchao Tian Gang Xiao Xiaoguang Li Chen Gao 《Science China Materials》 SCIE EI CAS CSCD 2021年第7期1687-1702,共16页
Optical control of exotic properties in strongly correlated electron materials is very attractive owing to their potential applications in optical and electronic devices.Herein,we demonstrate a vertical heterojunction... Optical control of exotic properties in strongly correlated electron materials is very attractive owing to their potential applications in optical and electronic devices.Herein,we demonstrate a vertical heterojunction made of a correlated electron oxide thin film VO_(2) and a conductive 0.05 wt% Nb-doped TiO_(2) single crystal,whose metal-insulator transition(MIT)across the nanoscale heterointerface can be efficiently modulated by visible light irradiation.The magnitude of the MIT decreases from ~350 in the dark state to ~7 in the illuminated state,obeying a power law with respect to the light power density.The junction resistance is switched in a reversible and synchronous manner by turning light on and off.The optical tunability of it is also exponentially proportional to the light power density,and a 320-fold on/off ratio is achieved with an irradiance of 65.6 mW cm^(-2) below the MIT temperature.While the VO_(2) thin film is metallic above the MIT temperature,the optical tunability is remarkably weakened,with a one-fold change remaining under light illumination.These results are co-attributed to a net reduction(~15 meV)in the apparent barrier height and the photocarrier-injection-induced metallization of the VO_(2) heterointerface through a photovoltaic effect,which is induced by deep defect level transition upon the visible light irradiance at low temperature.Additionally,the optical tunability is minimal,resulting from the quite weak modulation of the already metallic band structure in the Schottky-type junction above the MIT temperature.This work enables a remotely optical scheme to manipulate the MIT,implying potential uncooled photodetection and photoswitch applications. 展开更多
关键词 metal-insulator transition vo2 thin film optical control strongly correlated electron material PHOTOSWITCH
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Au doping effects on electrical and optical properties of vanadium dioxides 被引量:2
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作者 YaBin Zhu Fan He Jie Na 《Science China(Physics,Mechanics & Astronomy)》 SCIE EI CAS 2012年第3期409-412,共4页
Vanadium dioxides were fabricated on normal glass substrates using reactive radio frequency (RF) magnetron sputtering. The oxygen flow volume and annealed temperatures as growth parameters are systematically investi... Vanadium dioxides were fabricated on normal glass substrates using reactive radio frequency (RF) magnetron sputtering. The oxygen flow volume and annealed temperatures as growth parameters are systematically investigated. The electrical and opti- cal properties of VO2 and Au:VO2 thin films with different growth conditions are discussed. The semiconductor-metal phase transition temperature decreased by -10~C for the sample with Au doping compared to the sample without Au doping. How- ever, the optical transmittance of Au:VO2 thin films is much lower than that of bare VO2. These results show that Au doping has a marked effect on the electrical and optical properties. 展开更多
关键词 vo2 thin film TRANSMITTANCE semiconductor-metal phase transition
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