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TiO_2/VO_2双层薄膜的制备及光电性能研究 被引量:3
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作者 吕晓庆 李合琴 +3 位作者 周矗 崔跃 何蓓 刘涛 《合肥工业大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2012年第12期1659-1661,共3页
文章采用磁控溅射法在玻璃基底上分别制备VO2单层薄膜与TiO2/VO2双层薄膜,并在Ar气中进行退火。用X射线衍射仪、扫描电镜、紫外-可见光分光光度计、LCR测试仪对薄膜样品的晶体结构、表面形貌、可见光透过率、电阻-温度特性进行测试。结... 文章采用磁控溅射法在玻璃基底上分别制备VO2单层薄膜与TiO2/VO2双层薄膜,并在Ar气中进行退火。用X射线衍射仪、扫描电镜、紫外-可见光分光光度计、LCR测试仪对薄膜样品的晶体结构、表面形貌、可见光透过率、电阻-温度特性进行测试。结果表明,TiO2/VO2双层薄膜的相变温度降低到56℃,电阻温度系数为-1.087/℃,可见光透过率提高了20%~30%,且薄膜生长致密均匀。 展开更多
关键词 TIO2 vo2双层薄膜 相变温度 电阻温度曲线 可见光透过率
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