期刊文献+
共找到19篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
GSMBE InGaP/GaAs材料大面积均匀性研究 被引量:2
1
作者 李爱珍 李华 +3 位作者 李存才 胡建 唐雄心 齐鸣 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期569-571,共3页
报道了气态源分子束外延 (GSMBE)技术生长的Φ5 0mm ,Φ75mmInGaP/GaAs材料的晶体完整性 ,组分均匀性和表面缺陷密度。用PhilipsX Pert′s四晶衍射仪沿Φ5 0mm ,Φ75mmInGaP/GaAs样品的x轴和y轴以 5mm间隔测量ω/2θ双晶摇摆曲线 ,获得... 报道了气态源分子束外延 (GSMBE)技术生长的Φ5 0mm ,Φ75mmInGaP/GaAs材料的晶体完整性 ,组分均匀性和表面缺陷密度。用PhilipsX Pert′s四晶衍射仪沿Φ5 0mm ,Φ75mmInGaP/GaAs样品的x轴和y轴以 5mm间隔测量ω/2θ双晶摇摆曲线 ,获得沿x轴和y轴方向的晶格失配度分布和组分涨落分布。结果表明 ,用GSMBE生长的Φ5 0mm和Φ75mmIn0 .4 9Ga0 .51 P与GaAs衬底的失配度分别为 1× 10 - 4和 1× 10 - 5,组分波动Φ5 0mm沿x轴和y轴分别为± 0 .1%和± 0 .2 % ,Φ75mm <± 1%。表面缺陷密度在 1× 10~ 1× 10 2 cm- 2 。 展开更多
关键词 INGAP 均匀性 气态源分子束外延 X射线双晶衍射 INGAP/gaas
下载PDF
光强均匀度对GaAs电池组光电转换效率的影响 被引量:4
2
作者 吴政南 谢江容 杨雁南 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2017年第6期44-49,共6页
为了研究激光光强均匀度对GaAs电池转换效率的影响,基于单结GaAs电池的工作原理,利用等效电路对其在受到不同光强激光照射时的光电转换效率进行分析,并通过实验测量不同光强均匀度情况下GaAs串联电池组的光电转换效率。结果表明,光强均... 为了研究激光光强均匀度对GaAs电池转换效率的影响,基于单结GaAs电池的工作原理,利用等效电路对其在受到不同光强激光照射时的光电转换效率进行分析,并通过实验测量不同光强均匀度情况下GaAs串联电池组的光电转换效率。结果表明,光强均匀度对GaAs电池组的光电转换效率有很大影响。在极限条件下,由光强不匀均性引起的热斑效应还会造成电池片的损毁。 展开更多
关键词 光强均匀度 单结gaas光电池 转换效率 等效电路
下载PDF
芯-壳结构/GaAs-AlGaAs纳米线中AlGaAs壳材料均匀性研究
3
作者 赵翠俭 孙素静 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第12期34-37,共4页
Ⅲ-Ⅴ族半导体纳米线材料被认为是高速光电探测器最有前途的材料之一。采用金属有机化学气相沉积法在GaAs(111)B衬底上生长芯-壳结构/GaAs-AlGaAs纳米线材料,GaAs芯材料的生长机制为气相-液相-固相,而AlGaAs壳材料的生长机制为气相-固... Ⅲ-Ⅴ族半导体纳米线材料被认为是高速光电探测器最有前途的材料之一。采用金属有机化学气相沉积法在GaAs(111)B衬底上生长芯-壳结构/GaAs-AlGaAs纳米线材料,GaAs芯材料的生长机制为气相-液相-固相,而AlGaAs壳材料的生长机制为气相-固相。采用场发射扫描电子显微镜和微区光荧光谱仪等测试分析手段研究了AlGaAs壳材料横向、轴向和生长方向的均匀性,探讨了生长机制对均匀性的影响。在此基础上获得了组分均匀的高晶体质量的AlGaAs壳材料,其Al组分为0.14。 展开更多
关键词 纳米线 均匀性 gaas-ALgaas 芯-壳结构 金属有机化学气相沉积
下载PDF
高电阻率均匀性4英寸半绝缘GaAs单晶生长技术
4
作者 兰天平 周春锋 +2 位作者 边义午 宋禹 马麟丰 《半导体技术》 CAS 北大核心 2020年第4期287-292,303,共7页
4英寸(1英寸=2.54 cm)半绝缘GaAs单晶材料是目前制备微波毫米波单片集成电路等的主流材料,随着5G技术应用的普及,该材料的应用前景将更加广阔。但是由于采用常规垂直梯度凝固(VGF)法晶体生长工艺所得的单晶尾部径向电阻率均匀性较差,严... 4英寸(1英寸=2.54 cm)半绝缘GaAs单晶材料是目前制备微波毫米波单片集成电路等的主流材料,随着5G技术应用的普及,该材料的应用前景将更加广阔。但是由于采用常规垂直梯度凝固(VGF)法晶体生长工艺所得的单晶尾部径向电阻率均匀性较差,严重影响了相关器件性能的一致性。对采用VGF和(VGF+垂直布里奇曼(VB))两种晶体生长工艺所得的半绝缘GaAs单晶头尾径向电阻率不均匀性测试进行分析,优化了(VGF+VB)晶体生长相关工艺条件,并确定了VB晶体生长部分比较合理的起始位置及生长速度。在保证晶锭头尾电阻率均达到10~8Ω·cm以上的情况下,有效地降低了晶体尾部径向电阻率不均匀性,使其由原来的大于20%降低到小于10%,提高了晶体质量。通过该工艺还可有效排杂到晶体尾部,增加高电阻率单晶有效长度。 展开更多
关键词 gaas 垂直梯度凝固(VGF) 垂直布里奇曼(VB) 晶体生长 电阻率 均匀性
下载PDF
Si^+/As^+双离子注入SI-GaAs对注入层电激活均匀性改善的研究
5
作者 鲁光沅 刘福润 +2 位作者 刘明成 赵杰 王永晨 《天津师大学报(自然科学版)》 2000年第3期22-27,共6页
研究了单 (Si+ )双 (Si+ / As+ )离子注入半绝缘砷化镓 (SI-Ga As)电激活的均匀性 .结果表明 ,L ECSi-Ga As衬底中深电子陷阱能级 (EL 2 )均匀性分布好坏 ,对注入层电激活性有一定影响 .当 SI-Ga As中碳含量小于 5× 1 0 15cm- 3时 ... 研究了单 (Si+ )双 (Si+ / As+ )离子注入半绝缘砷化镓 (SI-Ga As)电激活的均匀性 .结果表明 ,L ECSi-Ga As衬底中深电子陷阱能级 (EL 2 )均匀性分布好坏 ,对注入层电激活性有一定影响 .当 SI-Ga As中碳含量小于 5× 1 0 15cm- 3时 ,对注入层电激活影响不大 .采用多重能量 Si+注入 ,可改善栽流子纵向分布的均匀性 ,采用 Si+ / As+ 双离子注入可改善 L EC SI-Ga As衬底中 EL 2横向不均匀分布对电激活均匀性的影响 ,可获得注入层横向的电激活 . 展开更多
关键词 离子注入 gaas 电激活均匀性 半导体
下载PDF
Si^+,Mg^+(隐埋)双注入GaAs MESFET
6
作者 欧海疆 王渭源 +1 位作者 赵崎华 蒋新元 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1989年第4期309-312,共4页
比较了Si^+ 单注入和Si^+ 、Mg^+(隐埋)双注入GaAsMESFET的特性.实验表明,设置高能注入Mg^+隐埋层后,可大大消除衬底背景杂质对有源层的影响,容易制成性能优于Si^+单注入的GaAs E-和D-MESFET,并能提高阈值电压V_(tb)均匀性.
关键词 硅离子 镁离子 双注入 gaas MESFET
下载PDF
Modulation transfer function characteristic of uniform-doping transmission-mode GaAs/GaAlAs photocathode 被引量:2
7
作者 任玲 常本康 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第8期398-402,共5页
The resolution characteristic can be obtained by the modulation transfer function (MTF) of a GaAs/GaA1As photocathode. After establishing the theoretical model of GaAs(100)-oriented atomic configuration and the fo... The resolution characteristic can be obtained by the modulation transfer function (MTF) of a GaAs/GaA1As photocathode. After establishing the theoretical model of GaAs(100)-oriented atomic configuration and the formula for the ionized impurity scattering of the non-equilibrium carriers, this paper calculates the trajectories of photoelectrons in a photocathode. Thus the distribution of photoelectron spots on the emit-face is obtained, which is namely the point spread function. The MTF is obtained by Fourier transfer of the line spread function obtained from the point spread function. The MTF obtained from these calculations is shown to depend heavily on the electron diffusion length, and enhanced considerably by decreasing the electron diffusion length and increasing the doping concentration. Furthermore, the resolution is enhanced considerably by increasing the active-layer thickness, especially at high spatial frequencies. The best spatial resolution is 860 lp/mm, for the GaAs photocathode of doping concentration 1 ×10^19 cm 3 electron diffusion length 3.6 μm and the active-layer thickness 2 μm, under the 633-nm light irradiated. This research will contribute to the future improvement of the cathode's resolution for preparing a high performance GaAs photocathode, and improve the resolution of a low light level image intensifier. 展开更多
关键词 gaas/GaAlAs photocathode uniform-doping modulation transfer function spatial res-olution
下载PDF
离子注入半绝缘GaAs电激活效率与电激活均匀性的研究
8
作者 刘明成 刘福润 +2 位作者 鲁光元 赵杰 王永晨 《半导体杂志》 2000年第3期1-7,共7页
研究了Si+ 和Si+ /As+ 注入到HorizontalBridgman (HB)和LiquidEncapsulatedCzochralski(LEC)方法制备的半绝缘GaAs衬底电激活效率与均匀性。结果发现 :在相同条件下 (注入与退火 ) ,不同生长方法的半绝缘GaAs衬底电激活不同 ,通常电激... 研究了Si+ 和Si+ /As+ 注入到HorizontalBridgman (HB)和LiquidEncapsulatedCzochralski(LEC)方法制备的半绝缘GaAs衬底电激活效率与均匀性。结果发现 :在相同条件下 (注入与退火 ) ,不同生长方法的半绝缘GaAs衬底电激活不同 ,通常电激活HB >LEC ,HBSI—GaAs(Cr)(1 0 0 )A面 >(1 0 0 )B面 ,Si+ /As+ 双离子注入电激活高于Si+ 注入。Si+ /As+ 注入的LECSI—GaAs(EL2 )可改善衬底中EL2横向不均匀分布对电激活均匀性的影响 ,可改善注入层内横向电激活均匀分布。剥离Hall测量表明 ,有源层电子迁移率分布均匀 ,近表面位量 ,可达 40 0 0cm2 /V .s。Raman谱显示 :Si+ /As+ 双注入可消除或减少与As空位 (VAs)有关的呈现正电性的复合体 ,这是提高注入层内在质量的重要原因。 展开更多
关键词 离子注入 半绝缘 砷化镓 电激活均匀性
下载PDF
GaAs IC阈值电压均匀性的计算机模拟分析 被引量:1
9
作者 吴剑萍 夏冠群 +1 位作者 赵建龙 刘汝萍 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第5期62-65,共4页
本文在PSPICE电路模拟的基础上设计了一套GaAsIC对阈值电压均匀性要求的计算方法,并计算三种不同GaAsIC对阈值对电压均匀性的要求,结果表明,SDFL对阈值电压均匀性的要求较低,σVth为218mV,DCFL... 本文在PSPICE电路模拟的基础上设计了一套GaAsIC对阈值电压均匀性要求的计算方法,并计算三种不同GaAsIC对阈值对电压均匀性的要求,结果表明,SDFL对阈值电压均匀性的要求较低,σVth为218mV,DCFL和BDCFL对阈值电压均匀性要求较高,σVth分别为38mV和35mV.模拟计算还提出:优化和未优化的电路对阈值电压均匀性的要求不同;工艺不同,电路对阈值电压均匀性的要求也不同.这些理论计算分析的结果对GaAsIC的电路设计和工艺选择均有重要指导意义. 展开更多
关键词 IC 阈值电压均匀性 PSPICE模拟 砷化镓
下载PDF
GaAs单晶阈值电压自动测试系统的研究
10
作者 胡志高 朱敏 李传海 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2001年第11期67-70,共4页
根据GaAs阈值电压的测试原理,选取了一种比较精确的实验测试计算方法。在此基础上,分别设计了GaAs 单晶阈值电压均匀件自动测试系统的硬件电路和软件程序,并利用此系统对GaAs样品进行了实际测量,效果良好。
关键词 阈值电压 自动测试系统 集成电路 砷化镓
下载PDF
2英寸高均匀性GaAs多层外延材料
11
作者 徐永强 吕云安 +1 位作者 严振斌 张藏珍 《半导体情报》 1994年第6期5-7,19,共4页
用法国进口的GaAsVPE设备,采用AsCl)3/H_2/Ga体系,以SnCl_4l/AsCl_3为掺杂液,生长了2英寸多层GaAs外延材料,自行设计了反应器的热场分布,在反应器中增加了合适的搅拌器,用以改变反应器中... 用法国进口的GaAsVPE设备,采用AsCl)3/H_2/Ga体系,以SnCl_4l/AsCl_3为掺杂液,生长了2英寸多层GaAs外延材料,自行设计了反应器的热场分布,在反应器中增加了合适的搅拌器,用以改变反应器中气体流动情况。GaAs外延层的浓度均匀性与厚度均匀性均小于5%。浓度均匀性的最佳值为3.7%,厚度均匀性的最佳值为1.5%,当外延层载流子浓度为1.9×10 ̄(17)cm ̄(-3)时,室温迁移率达到4390cm ̄2/V·s。 展开更多
关键词 汽相外延 砷化镓 均匀性 外延材料
下载PDF
VGF法GaAs单晶生长中热通量对固液界面形状的影响 被引量:1
12
作者 边义午 郑安生 +2 位作者 林泉 龙彪 张廷慧 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第10期1068-1074,共7页
采用专业的晶体生长模拟软件CGSim模拟了垂直梯度凝固法(VGF)GaAs单晶生长过程中固液界面形状及其变化;分析了生长过程中界面上不同位置的热通量及其变化,并利用能量守恒关系,分析了热通量对固液界面形状的影响,改进了前人在忽略凝固或... 采用专业的晶体生长模拟软件CGSim模拟了垂直梯度凝固法(VGF)GaAs单晶生长过程中固液界面形状及其变化;分析了生长过程中界面上不同位置的热通量及其变化,并利用能量守恒关系,分析了热通量对固液界面形状的影响,改进了前人在忽略凝固或熔化相变潜热的基础上推导出的固液界面形状和温度梯度之间的数学关系。结果表明:固液界面上各点热通量的不同导致各点生长速度的不同,从而形成偏离程度各异的固液界面形状。采用霍尔效应测量法检测了GaAs单晶中的载流子浓度分布,分析了固液界面形状对晶片电学均匀性的影响。结果表明:对于分凝系数k0<1的溶质,平坦的固液界面,晶片中载流子浓度分布更为均匀;凸形界面,载流子浓度随晶片径向距离的增加而增加;凹形界面,载流子浓度随晶片径向距离的增加而降低;载流子浓度分布的不均匀性随固液界面非平坦性的增加而增加。 展开更多
关键词 垂直梯度凝固法 砷化镓 数值模拟 固液界面 电学均匀性
原文传递
砷化镓气相外延中Zn的行为和微光材料的制备
13
作者 彭瑞伍 徐晨梅 +2 位作者 励翠云 张霞芳 赵喆 《电子科学学刊》 CSCD 1990年第3期329-332,共4页
在Ga-AsCl_3-H_2系统中用金属Zn为掺杂剂,研究了气相外延GaAs时Zn的掺入和行为。GaAs中Zn的分配系数和空穴浓度分别为10和大于10^(20)cm^(-3),它们都比掺Cd的GaAs大2—3个数量级。这保证了用以制备光阴极材料所需的高空穴浓度的P-GaAs... 在Ga-AsCl_3-H_2系统中用金属Zn为掺杂剂,研究了气相外延GaAs时Zn的掺入和行为。GaAs中Zn的分配系数和空穴浓度分别为10和大于10^(20)cm^(-3),它们都比掺Cd的GaAs大2—3个数量级。这保证了用以制备光阴极材料所需的高空穴浓度的P-GaAs。结合掺Zn和掺s,已重复制得界面良好的P-n结构材料。 展开更多
关键词 砷化镓 气相外延 掺Zn gaas
下载PDF
1 MHz~40 GHz超宽带分布式低噪声放大器设计 被引量:1
14
作者 闵丹 马晓华 +1 位作者 刘果果 王语晨 《半导体技术》 CAS 北大核心 2019年第8期590-594,622,共6页
为满足宽带系统中低噪声放大器(LNA)宽带的要求,采用0.15μm GaAs赝配高电子迁移率晶体管(PHEMT)工艺,设计了两款1 MHz^40 GHz的超宽带LNA,分别采用均匀分布式放大器结构及渐变分布式放大器结构,电路面积分别为1.8 mm×0.85 mm和1.8... 为满足宽带系统中低噪声放大器(LNA)宽带的要求,采用0.15μm GaAs赝配高电子迁移率晶体管(PHEMT)工艺,设计了两款1 MHz^40 GHz的超宽带LNA,分别采用均匀分布式放大器结构及渐变分布式放大器结构,电路面积分别为1.8 mm×0.85 mm和1.8 mm×0.8 mm。电磁场仿真结果表明,1 MHz^40 GHz频率范围内,均匀分布式LNA增益为15.3 dB,增益平坦度为2 dB,噪声系数小于5.1 dB;渐变分布式LNA增益为14.16 dB,增益平坦度为1.74 dB,噪声系数小于3.9 dB。渐变分布式LNA较均匀分布式LNA,显著地改善了增益平坦度、噪声性能和群延时特性。 展开更多
关键词 低噪声放大器(LNA) 超宽带 均匀分布式LNA 渐变分布式LNA gaas PHEMT
下载PDF
菲涅尔高倍聚光PV/T系统的均光优化与热特性研究 被引量:1
15
作者 闫素英 李洪阳 +2 位作者 马靖 赵明智 田瑞 《应用科技》 CAS 2016年第4期21-26,共6页
为提高三结砷化镓太阳能电池芯片表面能流分布的均匀性,对菲涅尔高倍聚光PV/T系统采用正交试验法进行多因素均光优化,并根据极差分析结果进一步优化得到光斑均匀性89.11%、光学效率89.29%、接收角1.09°的菲涅尔高倍聚光系统。将计... 为提高三结砷化镓太阳能电池芯片表面能流分布的均匀性,对菲涅尔高倍聚光PV/T系统采用正交试验法进行多因素均光优化,并根据极差分析结果进一步优化得到光斑均匀性89.11%、光学效率89.29%、接收角1.09°的菲涅尔高倍聚光系统。将计算所得能流密度加载至电池芯片表面,通过有限元分析法模拟了电池芯片的温度分布,并与原系统、菲涅尔单级聚光系统和理想均匀辐照度下电池芯片温度分布进行比较。研究结果表明优化后的能流分布更均匀;电池芯片表面的温差随着能流密度分布均匀性的增加而减小,优化的菲涅尔高倍聚光系统能有效降低电池芯片中心位置能流密度,提高能流和温度分布的均匀性。 展开更多
关键词 菲涅尔聚光 砷化镓电池 均光优化 能流均匀性 正交试验
下载PDF
InP光电子集成电路接收机前端的研究进展
16
作者 朱红卫 史常忻 《半导体情报》 1997年第4期23-25,共3页
由于具有可集成和器件固有速度的内在优势,InP光电子集成(OEIC)接收机在高速(≥10Gb/s)光纤通信系统和波分复用网络(WDM)方面具有重要的应用,本文介绍了最近的研究进展。
关键词 光电子集成电路 光接收机 磷化铟
下载PDF
基于菲涅尔聚光的太阳能砷化镓电池热特性分析 被引量:1
17
作者 李彦洁 闫素英 +3 位作者 仲伟浩 雷胜楠 田瑞 包俊江 《可再生能源》 CAS 北大核心 2015年第8期1191-1195,共5页
以菲涅尔三级聚光器和三结砷化镓太阳电池芯片为研究对象,利用Trace Pro模拟菲涅尔高倍聚光条件下电池芯片表面的能流密度分布,并将结果导入ANSYS中作为三结砷化镓太阳电池芯片的边界条件。通过有限元模拟了电池芯片的温度和热流分布,... 以菲涅尔三级聚光器和三结砷化镓太阳电池芯片为研究对象,利用Trace Pro模拟菲涅尔高倍聚光条件下电池芯片表面的能流密度分布,并将结果导入ANSYS中作为三结砷化镓太阳电池芯片的边界条件。通过有限元模拟了电池芯片的温度和热流分布,并利用热-结构耦合分析法,得到了电池芯片的热应力分布。结果表明:三级聚光器能有效提高聚焦光斑能量均匀性、增大系统接收角,从而降低热应力,提高光伏系统的整体性能。 展开更多
关键词 菲涅尔透镜 聚光器 砷化镓电池 聚光均匀性 热特性
下载PDF
宽带常γ线性电调管材料研究
18
作者 陈桂章 尤民 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1993年第1期60-63,共4页
报导了宽带常γ线性电调管材料的研制技术及研究结果,给出了材料的多层浓度分布曲线。介绍了用该材料研制的WB70型宽带常γ线性电调管和WB010型砷化镓电调管管芯等器件结果。文中对宽带常γ线性电调管材料的质量进行了讨论。结果表明,... 报导了宽带常γ线性电调管材料的研制技术及研究结果,给出了材料的多层浓度分布曲线。介绍了用该材料研制的WB70型宽带常γ线性电调管和WB010型砷化镓电调管管芯等器件结果。文中对宽带常γ线性电调管材料的质量进行了讨论。结果表明,适当控制生长速率才能得到较满意的浓度分布曲线;采用[100]向最近的[110]偏一定角度的单晶作衬底进行生长可获得表面形貌光亮的多层外延材料。 展开更多
关键词 砷化镓 汽相外延 生长速率 电调管
下载PDF
砷化镓阈值电压自动测试系统的研制
19
作者 朱朝嵩 夏冠群 +1 位作者 李传海 詹琰 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2001年第4期418-422,共5页
介绍了砷化镓阈值电压的测试原理和测试方法,并完成了Φ3砷化镓阈值电压自动测试系统的设计与研制。该系统包括自动探针台、测量设备和相应的软件。自动探针台的定位精度为10μm,分辨率为2.4μm,速度为251mm/s。阈值电压测量精度为1mV... 介绍了砷化镓阈值电压的测试原理和测试方法,并完成了Φ3砷化镓阈值电压自动测试系统的设计与研制。该系统包括自动探针台、测量设备和相应的软件。自动探针台的定位精度为10μm,分辨率为2.4μm,速度为251mm/s。阈值电压测量精度为1mV。该系统可进行Φ3砷化镓圆片的MESFET器件参数的自动测量、存储和运算,能给出圆片的阈值电压分布图。该系统还可用于大圆片的电阻率、欧姆接触电阻、背栅电压和光敏特性等的测量。 展开更多
关键词 阈值电压 均匀性 砷化镓 自动测试系统
原文传递
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部