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XH_3Y(X=C,Si,Ge;Y=Cl,Br,I,D)型气相分子合成技术
1
作者
周泽义
邓珂
谢立
《化学研究与应用》
CAS
CSCD
1998年第3期278-281,共4页
XH3Y(X=C,Si,Ge;Y=Cl,Br,I,D)型气相分子合成技术周泽义邓珂(中国科技大学选键化学开放实验室合肥230026)谢立(安徽省计量测试研究所合肥230022)关键词气相分子真空合成正交表中图分类号O...
XH3Y(X=C,Si,Ge;Y=Cl,Br,I,D)型气相分子合成技术周泽义邓珂(中国科技大学选键化学开放实验室合肥230026)谢立(安徽省计量测试研究所合肥230022)关键词气相分子真空合成正交表中图分类号O621.2551IVX的C、Si、...
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关键词
甲烷
甲硅烷
卤代
氘代
衍生物
四氢化锗
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职称材料
题名
XH_3Y(X=C,Si,Ge;Y=Cl,Br,I,D)型气相分子合成技术
1
作者
周泽义
邓珂
谢立
机构
中国科技大学选键化学开放实验室
安徽省计量测试研究所
出处
《化学研究与应用》
CAS
CSCD
1998年第3期278-281,共4页
文摘
XH3Y(X=C,Si,Ge;Y=Cl,Br,I,D)型气相分子合成技术周泽义邓珂(中国科技大学选键化学开放实验室合肥230026)谢立(安徽省计量测试研究所合肥230022)关键词气相分子真空合成正交表中图分类号O621.2551IVX的C、Si、...
关键词
甲烷
甲硅烷
卤代
氘代
衍生物
四氢化锗
Keywords
vacuum synthesis
,
orthogonal table
分类号
O627.41 [理学—有机化学]
O627.41 [理学—有机化学]
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作者
出处
发文年
被引量
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1
XH_3Y(X=C,Si,Ge;Y=Cl,Br,I,D)型气相分子合成技术
周泽义
邓珂
谢立
《化学研究与应用》
CAS
CSCD
1998
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