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XH_3Y(X=C,Si,Ge;Y=Cl,Br,I,D)型气相分子合成技术
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作者 周泽义 邓珂 谢立 《化学研究与应用》 CAS CSCD 1998年第3期278-281,共4页
XH3Y(X=C,Si,Ge;Y=Cl,Br,I,D)型气相分子合成技术周泽义邓珂(中国科技大学选键化学开放实验室合肥230026)谢立(安徽省计量测试研究所合肥230022)关键词气相分子真空合成正交表中图分类号O... XH3Y(X=C,Si,Ge;Y=Cl,Br,I,D)型气相分子合成技术周泽义邓珂(中国科技大学选键化学开放实验室合肥230026)谢立(安徽省计量测试研究所合肥230022)关键词气相分子真空合成正交表中图分类号O621.2551IVX的C、Si、... 展开更多
关键词 甲烷 甲硅烷 卤代 氘代 衍生物 四氢化锗
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