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Synthesis of ZnO films with a special texture and enhanced field emission properties
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作者 王小平 王子 +1 位作者 王丽军 梅翠玉 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第10期325-328,共4页
ZnO films with special textures ave fabricated on Mo-coated Al2O3 ceramic substrates by the catalyst-free electron beam evaporation method, and the as-deposited films are treated by hydrogen plasma. It is found that t... ZnO films with special textures ave fabricated on Mo-coated Al2O3 ceramic substrates by the catalyst-free electron beam evaporation method, and the as-deposited films are treated by hydrogen plasma. It is found that the surface morphologies of the films are changed significantly after hydrogen plasma treatment and that the films consist of vertically standing and intersecting nanosheets. A lower turn-on field of 1.2 V/μm and an enhanced current density -0.11 mA/cm2 at 2.47 V/μm are achieved. The low threshold field and the high emission current density are attributed primarily to the unique shape and smaller resistivity of the ZnO nanosheet films. 展开更多
关键词 nano-zno thin films hydrogen plasma treatment field electron emission microwaveplasma chemical vapour deposition
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Morphology and Field Emission of ZnO Nanomaterials at Different Positions
2
作者 Junzheng Wang Lijun Wang 《Journal of Applied Mathematics and Physics》 2022年第4期1028-1035,共8页
By simply adjusting the temperature and the number of materials, rod-like ZnO with different morphology, such as ZnO nanoneedles, were synthesized by a flexible thermal evaporation method. The ZnO nanorod array has th... By simply adjusting the temperature and the number of materials, rod-like ZnO with different morphology, such as ZnO nanoneedles, were synthesized by a flexible thermal evaporation method. The ZnO nanorod array has the lowest turn-on field, the highest current density, and the highest emission efficiency due to its good contact with the substrate and relatively weak field shielding effect. Experiments show that the morphology and orientation of one-dimensional ZnO nanomaterials have a great influence on its conduction field and emission current density, and the nanoarrays also contribute to electron emission. The research results have a certain reference value for the application of ZnO nanorod arrays as cathode materials for field emission devices. 展开更多
关键词 Field Emission zno films vacuum Electron Beam Vapor deposition
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Optical Absorption of Nano-Composite Thin Films of Au in Teflon
3
作者 Dmytro Grynko Konstantin Grytrsenko +2 位作者 Valeri Lozovski Mykola Sopinskyy Galyna Strilchuk 《Materials Sciences and Applications》 2010年第3期141-151,共11页
Nano-composite films of Au particles in Teflon were obtained by thermal vacuum deposition. The obtained films were characterized by the different shapes and dimensions of the inclusion particles. Absorption spectra of... Nano-composite films of Au particles in Teflon were obtained by thermal vacuum deposition. The obtained films were characterized by the different shapes and dimensions of the inclusion particles. Absorption spectra of the films were measured in-situ. A model for the calculation of the optical properties of the nano-composite thin films with an inho-mogeneous distribution of the inclusions along the thickness of the film is proposed. Absorption properties of inclusions were analyzed by considering the local field interaction. The calculated absorption profiles are compared with the experimentally obtained absorption profiles. This comparison gives a possibility to draw conclusions about the concentration, shapes and shape distributions of the inclusion particles. For example, the films obtained by duration deposition are characterized by inclusions having the shape of prolate ellipsoids oriented normally to surface of the film. 展开更多
关键词 nano-COMPOSITE Optical Absorption SPECTRA Thin Film Effective SUSCEPTIBILITY TEFLON Gold vacuum deposition
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化学沉积Mn掺杂ZnO薄膜的结构和光学性能
4
作者 Emine GÜNERI Johnson HENRY +1 位作者 Fatma GÖDE Nilgün KalaycioğluÖZPOZAN 《Journal of Central South University》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第3期691-706,共16页
采用化学沉积法制备了纯ZnO和不同Mn掺杂浓度的Mn掺杂ZnO薄膜,并对所制备薄膜的结构、形态和光学性能进行了研究。XRD分析显示,所有薄膜都呈六角形结构,但Mn掺杂的ZnO薄膜存在峰移。随Mn掺杂浓度的升高,晶体尺寸增大。Mn掺杂ZnO薄膜表... 采用化学沉积法制备了纯ZnO和不同Mn掺杂浓度的Mn掺杂ZnO薄膜,并对所制备薄膜的结构、形态和光学性能进行了研究。XRD分析显示,所有薄膜都呈六角形结构,但Mn掺杂的ZnO薄膜存在峰移。随Mn掺杂浓度的升高,晶体尺寸增大。Mn掺杂ZnO薄膜表面分布不规则颗粒,并呈团聚状。Mn掺杂ZnO薄膜在可见光区表现出更高的透射率,但随着Mn掺杂浓度的升高,透射率逐渐降低。随Mn掺杂浓度的升高,薄膜的带隙减小。Mn掺杂ZnO薄膜在紫外区表现出更高的光导率和导电率。 展开更多
关键词 zno 掺杂 薄膜 化学沉积 光导率
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掺Nd纳米ZnO薄膜特性研究 被引量:10
5
作者 李健 赛喜雅勒图 郝丽娟 《真空科学与技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第3期212-215,共4页
研究了用真空蒸发法在玻璃衬底上制备稀土掺杂纳米ZnO薄膜结构、导电性及光透射性能。结果显示 ,在 5 0 0℃氧化、热处理稀土元素Nd掺杂后能够明显改善纳米ZnO薄膜的结构特性 ,薄膜的晶粒尺寸随掺杂含量的增加而减小。掺Nd使ZnO薄膜的... 研究了用真空蒸发法在玻璃衬底上制备稀土掺杂纳米ZnO薄膜结构、导电性及光透射性能。结果显示 ,在 5 0 0℃氧化、热处理稀土元素Nd掺杂后能够明显改善纳米ZnO薄膜的结构特性 ,薄膜的晶粒尺寸随掺杂含量的增加而减小。掺Nd使ZnO薄膜的电性能有所改善但使纳米ZnO薄膜的光透射性有所降低。 展开更多
关键词 真空蒸发 纳米zno薄膜 掺杂
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气溶胶辅助化学气相沉积制备Al掺杂ZnO透明导电薄膜 被引量:9
6
作者 秦秀娟 韩司慧智 +2 位作者 赵琳 左华通 宋士涛 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第6期607-612,共6页
采用气溶胶辅助化学气相沉积(AACVD)法在玻璃衬底上制备了Al掺杂ZnO(AZO)薄膜.研究了Al掺杂(2at%~8at%)对ZnO薄膜结构及光电性能的影响.利用XRD、SEM、EDAX、紫外可见分光光度计等手段对样品进行测试.结果表明,制备的所有AZO薄膜均具... 采用气溶胶辅助化学气相沉积(AACVD)法在玻璃衬底上制备了Al掺杂ZnO(AZO)薄膜.研究了Al掺杂(2at%~8at%)对ZnO薄膜结构及光电性能的影响.利用XRD、SEM、EDAX、紫外可见分光光度计等手段对样品进行测试.结果表明,制备的所有AZO薄膜均具有纤锌矿结构,不具有沿c轴方向的择优取向,XRD图谱中未观察出Al的相关分相.在可见光范围内,AZO薄膜的平均透过率大于72%,光学禁带宽度随Al掺杂量的增加而变窄.同时根据四探针技术所得的数据得知:Al的掺杂导致薄膜方块电阻的变化,随着Al掺杂量的增加,方块电阻有明显变小的现象,掺杂6at%Al的AZO薄膜具有最低方块电阻(18Ω/□). 展开更多
关键词 气溶胶 化学气相沉积法 Al:zno 透明导电薄膜
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稀土Nd掺杂纳米ZnO薄膜气敏特性 被引量:21
7
作者 李健 白素杰 通拉嘎 《传感器技术》 CSCD 北大核心 2004年第5期9-11,14,共4页
研究了用真空气相沉积法在玻璃衬底上制备掺稀土Nd的ZnO薄膜的气敏特性,实验给出,经温度为500℃,时间为45min的氧化、热处理的掺Nd的ZnO薄膜的晶粒尺寸、结构特性均发生变化。随掺Nd质量分数的增大,薄膜的晶粒尺寸从53nm减小至20nm。经... 研究了用真空气相沉积法在玻璃衬底上制备掺稀土Nd的ZnO薄膜的气敏特性,实验给出,经温度为500℃,时间为45min的氧化、热处理的掺Nd的ZnO薄膜的晶粒尺寸、结构特性均发生变化。随掺Nd质量分数的增大,薄膜的晶粒尺寸从53nm减小至20nm。经掺Nd(质量分数为4.96×10-2)后纳米ZnO薄膜对乙醇气体的选择性和灵敏性均得到明显的改善。在1.5×10-3体积分数的乙醇气体中最高灵敏度为34,相应的薄膜工作温度为200℃。 展开更多
关键词 真空气相沉积 稀土Nd掺杂 zno薄膜 气敏特性 气体传感器
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LPCVD法在制绒单晶硅片衬底上制备ZnO∶B透明导电薄膜及其性能的研究 被引量:8
8
作者 朱登华 李旺 +2 位作者 刘石勇 牛新伟 杜国平 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第1期19-23,37,共6页
采用低压化学气相沉积法(LPCVD)在制绒的单晶硅片衬底上制备了B掺杂ZnO(BZO)的透明导电薄膜,研究了B2H6掺杂量、沉积时间对BZO薄膜的微观形貌、导电性能及光学减反性能的影响。结果表明,在制绒单晶硅片衬底上制备的BZO薄膜均呈现"... 采用低压化学气相沉积法(LPCVD)在制绒的单晶硅片衬底上制备了B掺杂ZnO(BZO)的透明导电薄膜,研究了B2H6掺杂量、沉积时间对BZO薄膜的微观形貌、导电性能及光学减反性能的影响。结果表明,在制绒单晶硅片衬底上制备的BZO薄膜均呈现"类金字塔"的绒面结构,其平均晶粒尺寸在200-500 nm之间,并随B2H6掺杂量增加而减小;BZO薄膜的方阻随沉积时间的增加而呈线性迅速减小的趋势,当沉积时间为420 s时,BZO薄膜的方块电阻低至28Ω/□;在制绒单晶硅片上制备BZO薄膜后,表面平均反射率由15%明显降低至5%左右,表现出优异的光学减反性能。 展开更多
关键词 低压化学气相沉积 B掺杂zno 透明导电薄膜 方块电阻 光学减反
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磁约束电感耦合等离子体增强溅射沉积Co掺杂ZnO薄膜及其光学特性 被引量:3
9
作者 刘学超 施尔畏 +2 位作者 陈之战 张华伟 宋力昕 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期953-957,共5页
采用磁约束电感耦合等离子体增强溅射法(ICP-PVD)在Si(100)和石英玻璃衬底上沉积了Zn0.95Co0.05O薄膜。XRD谱显示薄膜具有较强的(002)衍射峰,表明Zn0.95Co0.05O薄膜为c轴择优取向生长;透过光谱显示Zn0.95Co0.05O薄膜具有良好的透过性,... 采用磁约束电感耦合等离子体增强溅射法(ICP-PVD)在Si(100)和石英玻璃衬底上沉积了Zn0.95Co0.05O薄膜。XRD谱显示薄膜具有较强的(002)衍射峰,表明Zn0.95Co0.05O薄膜为c轴择优取向生长;透过光谱显示Zn0.95Co0.05O薄膜具有良好的透过性,其在可见光和红外波段的平均透过率大于80%,吸收光谱表明Co2+取代了Zn2+处于四配位晶体场中;喇曼光谱证明Zn0.95Co0.05O薄膜具有良好的六方纤锌矿结构;室温PL谱测量发现在可见光的蓝光波段和绿光波段存在较宽的发光带,却没有发现本征的近紫外光发射,这是由于Co掺杂后引入较多的缺陷导致的。 展开更多
关键词 zno薄膜 CO掺杂 溅射沉积 光学特性
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沉积气压对电弧离子镀制备ZnO薄膜的结构和性能影响 被引量:5
10
作者 王明东 朱道云 +3 位作者 郑昌喜 何振辉 陈弟虎 闻立时 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期1013-1015,共3页
采用阴极真空电弧离子镀技术在玻璃衬底上制备出了具有择优取向的透明ZnO薄膜。利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜及紫外一可见吸收光谱仪分别对ZnO薄膜的结构、表面形貌及可见光透过率进行了分析。XRD结果表明,所制备的ZnO薄膜具有六... 采用阴极真空电弧离子镀技术在玻璃衬底上制备出了具有择优取向的透明ZnO薄膜。利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜及紫外一可见吸收光谱仪分别对ZnO薄膜的结构、表面形貌及可见光透过率进行了分析。XRD结果表明,所制备的ZnO薄膜具有六角纤锌矿结构的(002)和(101)两种取向,在沉积气压〉1.0Pa时所制备的ZnO薄膜具有(002)择优取向,并且非常稳定。SEM图表明,ZnO晶粒大小较为均匀,晶粒尺寸随着气压升高而变小。在400~1000nm范围内,ZnO薄膜的可见光透过率超过80%,吸收边在370nm附近,所对应的光学带隙约为3.33~3.40eV,并随着沉积气压上升而变大。 展开更多
关键词 真空电弧离子镀 X射线衍射 zno薄膜
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溶胶-凝胶法制备Li-N共掺ZnO纳米薄膜及其性能表征 被引量:5
11
作者 张建斌 吕从燕 +1 位作者 于富成 王雷 《兰州理工大学学报》 CAS 北大核心 2015年第3期32-35,共4页
采用溶胶-凝胶法在石英衬底上沉积Li-N共掺ZnO纳米薄膜,研究热处理温度和Li掺杂浓度对ZnO薄膜结构和光学性能的影响.结果表明:适度的Li掺杂,以及随着热处理温度的适度升高,会导致ZnO(002)峰的半峰宽减小,薄膜结晶质量明显改善,但过高浓... 采用溶胶-凝胶法在石英衬底上沉积Li-N共掺ZnO纳米薄膜,研究热处理温度和Li掺杂浓度对ZnO薄膜结构和光学性能的影响.结果表明:适度的Li掺杂,以及随着热处理温度的适度升高,会导致ZnO(002)峰的半峰宽减小,薄膜结晶质量明显改善,但过高浓度的掺杂或过高的热处理温度,则会诱发新的缺陷,导致结晶质量下降.另外Li掺杂引起ZnO薄膜的光学带隙发生变化,从而使样品在未掺杂时以紫光发光最强而掺杂后样品以紫外发光最强. 展开更多
关键词 溶胶-凝胶法 zno纳米薄膜 掺杂
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纳米ZnO薄膜的制备 被引量:2
12
作者 宋淑芳 李健 季秉厚 《内蒙古大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2001年第5期504-507,共4页
采用真空气相沉积法 ,使用两种蒸发源制备纳米 Zn O薄膜 .用 XRD( X射线衍射 )进行测试并进行其结构特性分析 .研究发现 ,蒸发源为分析纯 Zn粉末时 ,蒸发可获得纳米 Zn薄膜 ,薄膜在氧气气氛下同时进行氧化及热处理 .实验发现 ,当温度高... 采用真空气相沉积法 ,使用两种蒸发源制备纳米 Zn O薄膜 .用 XRD( X射线衍射 )进行测试并进行其结构特性分析 .研究发现 ,蒸发源为分析纯 Zn粉末时 ,蒸发可获得纳米 Zn薄膜 ,薄膜在氧气气氛下同时进行氧化及热处理 .实验发现 ,当温度高于 4 0 0℃ ,得到沿 c轴择优取向的纳米 Zn O薄膜 .蒸发源为分析纯 Zn O粉末时 ,采用钼舟加热 ,高温下 Zn O与钼舟发生反应 ,使部分 Zn O还原为 Zn,因此这种方法不适合纳米 Zn 展开更多
关键词 纳米zno薄膜 真空气相沉积 制备 纳米技术 氧化锌薄膜 热处理 蒸发源
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纳米ZnO薄膜制备及液态源掺杂 被引量:3
13
作者 李健 宋淑芳 季秉厚 《真空科学与技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期149-152,共4页
用真空蒸发法在玻璃和单晶硅片 (10 0 )上制备Zn薄膜 ,然后对Zn薄膜进行氧化、热处理获得纳米ZnO薄膜。对在硅片上制备的Zn薄膜一次性进行高温掺杂、氧化获得纳米ZnO∶P和ZnO∶B薄膜。研究不同氧化、掺杂温度和时间对薄膜结构、电学性... 用真空蒸发法在玻璃和单晶硅片 (10 0 )上制备Zn薄膜 ,然后对Zn薄膜进行氧化、热处理获得纳米ZnO薄膜。对在硅片上制备的Zn薄膜一次性进行高温掺杂、氧化获得纳米ZnO∶P和ZnO∶B薄膜。研究不同氧化、掺杂温度和时间对薄膜结构、电学性能的影响。结果表明 :氧化温度和时间对ZnO薄膜结构影响较大 ,液态源掺P可明显改善纳米ZnO薄膜的导电性能。 展开更多
关键词 真空蒸发 纳米zno薄膜 液态源掺杂 氧化 氧化锌薄膜 纳米半导体薄膜
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掺杂对纳米ZnO薄膜结构的影响 被引量:1
14
作者 宋淑芳 李健 季秉厚 《内蒙古大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2001年第6期704-706,共3页
采用真空蒸发法和热氧化制备纳米 Zn O薄膜 ,分析掺杂对薄膜结构的影响 .实验发现 ,掺入一定比例的 In,可以得到沿 c轴择优取向的纳米 Zn O薄膜 ,薄膜结晶度有所下降 ,影响薄膜沿 c轴的择优取向 .掺 Sb可以得到沿 c轴择优取向的纳米 Zn ... 采用真空蒸发法和热氧化制备纳米 Zn O薄膜 ,分析掺杂对薄膜结构的影响 .实验发现 ,掺入一定比例的 In,可以得到沿 c轴择优取向的纳米 Zn O薄膜 ,薄膜结晶度有所下降 ,影响薄膜沿 c轴的择优取向 .掺 Sb可以得到沿 c轴择优取向的纳米 Zn O薄膜掺 .Bi可以改善结晶度 ,获得强烈沿 c轴的择优取向的薄膜 .实验发现随 In含量的增加 ,薄膜晶粒尺寸逐渐减小 ,随 Sb含量的增加 ,晶粒尺寸逐渐增加 ,而 展开更多
关键词 纳米zno薄膜 掺杂 氧化锌 薄膜结构 结晶度 禁带宽度
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Ni^(2+)掺杂ZnO薄膜及粉体的结构和发光性能研究 被引量:1
15
作者 徐送宁 蔡宗岐 +3 位作者 孙乃坤 柳峰 高印博 赵美星 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第12期1586-1589,共4页
采用激光脉冲沉积法,用XeCl准分子激光器在Si(100)基片、真空和5Pa氧气气氛下制备了Ni 2+(0.8%(原子分数))掺杂的呈六角纤锌矿结构的ZnO薄膜。氧气气氛下制备的薄膜沿(002)取向生长,表面比较平整,平均颗粒尺寸为80nm。真空条件下制备的... 采用激光脉冲沉积法,用XeCl准分子激光器在Si(100)基片、真空和5Pa氧气气氛下制备了Ni 2+(0.8%(原子分数))掺杂的呈六角纤锌矿结构的ZnO薄膜。氧气气氛下制备的薄膜沿(002)取向生长,表面比较平整,平均颗粒尺寸为80nm。真空条件下制备的薄膜出现Zn2SiO4杂相,平均颗粒尺寸为150nm。和真空条件下制备的薄膜相比,氧气气氛下制备的薄膜具有较强的ZnO本征发光,在425nm附近出现由于填隙Zn缺陷引起的较宽的蓝光发光带,并且在482nm处出现了由于氧空位和氧间隙间的转换引起的较强的蓝光发光峰,同时由于氧缺陷引起的449nm附近的蓝光发光峰强度明显降低。 展开更多
关键词 激光脉冲沉积 Ni掺杂 zno薄膜 光致发光 缺陷发光
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掺In纳米ZnO、CdS薄膜结构、光学特性分析 被引量:2
16
作者 吉雅图 李健 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期191-194,共4页
采用真空气相沉积法在玻璃衬底上制备纳米级ZnO和CdS薄膜。研究掺In和热处理对ZnO、CdS薄膜结构、光学特性的影响。实验给出 ,适当掺杂能够明显改善纳米ZnO、CdS薄膜的物相结构 ,ZnO薄膜的晶粒尺寸随掺杂含量的增加而减小 ,CdS薄膜晶粒... 采用真空气相沉积法在玻璃衬底上制备纳米级ZnO和CdS薄膜。研究掺In和热处理对ZnO、CdS薄膜结构、光学特性的影响。实验给出 ,适当掺杂能够明显改善纳米ZnO、CdS薄膜的物相结构 ,ZnO薄膜的晶粒尺寸随掺杂含量的增加而减小 ,CdS薄膜晶粒尺寸随掺杂含量的增加而变大 ,但薄膜的光透射性有所降低。在短波范围内 ,ZnO薄膜的光透率好于CdS薄膜 ;在 5 0 0nm~ 1 0 0 0nm范围内 ,CdS薄膜的光透率好。掺In后ZnO薄膜的光学带宽从 3 2eV减小至 2 85eV ;掺In后CdS薄膜光学带宽从 2 4 2eV减小至 2 35eV。 展开更多
关键词 薄膜太阳电池 真空气相沉积 物相结构 光学特性 纳米薄膜 zno CDS 掺杂
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退火温度对ITO/Cu/AZO透明导电薄膜结构及性能的影响
17
作者 孙冰成 张健 +1 位作者 张贤旺 于尉 《微纳电子技术》 CAS 2024年第11期155-162,共8页
采用射频与直流磁控交替溅射法在石英玻璃载玻片上制备了氧化铟锡(ITO)/Cu/Al掺杂ZnO(AZO)(45 nm/10 nm/45 nm)组合结构的透明导电薄膜,并在不同退火温度下对薄膜进行真空热处理。利用X射线衍射仪(XRD)、紫外-可见分光光度计、四探针电... 采用射频与直流磁控交替溅射法在石英玻璃载玻片上制备了氧化铟锡(ITO)/Cu/Al掺杂ZnO(AZO)(45 nm/10 nm/45 nm)组合结构的透明导电薄膜,并在不同退火温度下对薄膜进行真空热处理。利用X射线衍射仪(XRD)、紫外-可见分光光度计、四探针电阻测试仪等表征手段,系统地研究了退火温度对ITO/Cu/AZO复合薄膜晶体结构和光电性能的影响。结果显示,经过不同温度的真空退火处理,薄膜的晶体结构和导电性能得到显著改善和提高,薄膜可见光平均透过率随着退火温度的升高先增加后降低。对比发现,在气压5×10^(-3)Pa、温度150℃下退火制备的ITO/Cu/AZO结构薄膜表现出最佳的综合性能,薄膜具有较强的(222)和(440)晶面衍射峰,在400~800 nm光波范围平均透过率约为80.5%,电导率约为1.76×10^(3) S/cm,综合品质因数达到约2.12×10^(-3)/Ω。 展开更多
关键词 磁控溅射 真空热处理 氧化铟锡(ITO)薄膜 Al掺杂zno(AZO)薄膜 交替溅射法
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p型ZnO薄膜的研究进展
18
作者 文俊伟 王小平 +3 位作者 王丽军 李剑 刘凌鸿 于颖 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第23期12-17,共6页
ZnO材料以其优良的光电特性和相对低廉的成本而倍受人们的青睐,但是要获得高质量的p型ZnO薄膜难度极大,这已成为阻碍ZnO基光电器件走向实用化的主要障碍。综述了p型ZnO薄膜掺杂面临的困难、p型ZnO掺杂理论进展及实现p型ZnO薄膜的各种掺... ZnO材料以其优良的光电特性和相对低廉的成本而倍受人们的青睐,但是要获得高质量的p型ZnO薄膜难度极大,这已成为阻碍ZnO基光电器件走向实用化的主要障碍。综述了p型ZnO薄膜掺杂面临的困难、p型ZnO掺杂理论进展及实现p型ZnO薄膜的各种掺杂方法,并对p型ZnO薄膜的各种制备工艺方法进行了概括和比较,最后指出了提高p型ZnO薄膜质量的努力方向。 展开更多
关键词 zno薄膜 制备工艺 掺杂 p型电导
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退火对电弧离子镀制备的ZnO薄膜的影响
19
作者 王明东 郑婷 +3 位作者 朱道云 何振辉 陈弟虎 闻立时 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期156-161,共6页
采用阴极电弧离子镀在Si、Al2O3以及玻璃衬底上制备出具有择优取向的ZnO薄膜,并对其进行退火处理。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、光致发光光谱(PL)、紫外-可见光光谱仪对ZnO薄膜的结构、表面形貌和光学性能进行分析。XR... 采用阴极电弧离子镀在Si、Al2O3以及玻璃衬底上制备出具有择优取向的ZnO薄膜,并对其进行退火处理。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、光致发光光谱(PL)、紫外-可见光光谱仪对ZnO薄膜的结构、表面形貌和光学性能进行分析。XRD结果表明,所制备的ZnO薄膜具有很好的ZnO(002)择优取向,退火使ZnO(002)衍射峰向高角度方向偏移。SEM结果表明,随着退火温度升高,表面晶粒由隆起的山脉或塔状变为平面状,晶粒002面呈六边状。PL谱结果表明,随着退火温度的升高,紫外发光峰强度逐渐增强,可见光发光峰强度逐渐相对减弱。紫外可见光透过谱结果表明,退火使可见光透过率增高,光学带隙发生红移。 展开更多
关键词 阴极电弧离子沉积 zno薄膜 退火
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沉积温度对MOCVD制备ZnO纳米薄膜性质的影响
20
作者 于富成 李海山 +3 位作者 胡海龙 宋天云 许博宇 何玲 《兰州理工大学学报》 CAS 北大核心 2018年第3期30-33,共4页
采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)法在石英衬底上制备了ZnO纳米薄膜,考察了不同沉积温度对ZnO薄膜结构及光学性质的影响.结果表明:所有样品均表现出C轴择优的六角纤锌矿结构.随着沉积温度由700℃升高至800℃时,ZnO薄膜的半峰宽逐渐变窄... 采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)法在石英衬底上制备了ZnO纳米薄膜,考察了不同沉积温度对ZnO薄膜结构及光学性质的影响.结果表明:所有样品均表现出C轴择优的六角纤锌矿结构.随着沉积温度由700℃升高至800℃时,ZnO薄膜的半峰宽逐渐变窄,晶粒尺寸逐渐增大,光致发光强度逐渐增强,表明沉积温度的升高有利于晶体的生长.当沉积温度由800℃继续升高后,样品的半峰宽变宽,晶粒尺寸减小,光致发光强度降低,表明沉积温度过高产生热缺陷,不利于晶体的生长. 展开更多
关键词 金属有机化学金相沉积 化学气相沉积法 zno纳米薄膜 沉积温度
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