期刊文献+
共找到12篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
V2O5 Thin Films Deposited by RF Magnetron Sputtering: The Influence of Oxygen Content in Physical Properties 被引量:1
1
作者 Dwight Acosta Argelia Perez Carlos Magana Francisco Hemaindez 《材料科学与工程(中英文A版)》 2016年第2期81-87,共7页
关键词 射频磁控溅射 沉积薄膜 物理特性 氧含量 V2O5薄膜 透射电子显微镜 电致变色性能 玻璃基板
下载PDF
High-throughput fabrication and semi-automated characterization of oxide thin film transistors
2
作者 韩炎兵 Sage Bauers +1 位作者 张群 Andriy Zakutayev 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第1期82-88,共7页
High throughput experimental methods are known to accelerate the rate of research,development,and deployment of electronic materials.For example,thin films with lateral gradients in composition,thickness,or other para... High throughput experimental methods are known to accelerate the rate of research,development,and deployment of electronic materials.For example,thin films with lateral gradients in composition,thickness,or other parameters have been used alongside spatially-resolved characterization to assess how various physical factors affect the material properties under varying measurement conditions.Similarly,multi-layer electronic devices that contain such graded thin films as one or more of their layers can also be characterized spatially in order to optimize the performance.In this work,we apply these high throughput experimental methods to thin film transistors(TFTs),demonstrating combinatorial channel layer growth,device fabrication,and semi-automated characterization using sputtered oxide TFTs as a case study.We show that both extrinsic and intrinsic types of device gradients can be generated in a TFT library,such as channel thickness and length,channel cation compositions,and oxygen atmosphere during deposition.We also present a semi-automated method to measure the 44 devices fabricated on a 50 mm×50 mm substrate that can help to identify properly functioning TFTs in the library and finish the measurement in a short time.Finally,we propose a fully automated characterization system for similar TFT libraries,which can be coupled with high throughput data analysis.These results demonstrate that high throughput methods can accelerate the investigation of TFTs and other electronic devices. 展开更多
关键词 combinatorial sputtering indium zinc oxide(IZO)thin film transistor(TFT) channel gradient oxygen content
下载PDF
氧氩流量比对溅射氧化钒薄膜结构和光学性能的影响 被引量:3
3
作者 杜姗 黄美东 +2 位作者 刘春伟 唐晓红 吕长东 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第4期24-27,共4页
采用射频反应磁控溅射方法制备氧化钒(VOx)薄膜,对样品的沉积速率、物相结构、表面形貌和可见光波段的透过率进行表征,研究了在沉积气压一定的情况下,氧氩流量比对氧化钒薄膜结构和光学性能的影响。结果表明,改变氧氩流量比可明显改变... 采用射频反应磁控溅射方法制备氧化钒(VOx)薄膜,对样品的沉积速率、物相结构、表面形貌和可见光波段的透过率进行表征,研究了在沉积气压一定的情况下,氧氩流量比对氧化钒薄膜结构和光学性能的影响。结果表明,改变氧氩流量比可明显改变薄膜结构,随着氧气比例的增加,沉积速率下降,薄膜表面出现了颗粒结构,颗粒尺寸具有增大的趋势,光透过率增大。 展开更多
关键词 氧化钒薄膜 氧气流量 氩气流量 反应磁控溅射
下载PDF
ADC12压铸件卷入氧化膜特征的研究 被引量:3
4
作者 董普云 赵海东 王芳 《铸造技术》 CAS 北大核心 2011年第8期1139-1142,共4页
针对ADC12压铸件的拉伸断口,分析表面氧化膜的形态及其氧元素的含量,对拉伸断口处切割取样,进行了扫描电镜形貌观察和元素含量电子探针显微定量分析,探讨了氧化膜不同的存在特征。结果表明,与孔洞结合的氧化膜中的氧含量相对较高,实验... 针对ADC12压铸件的拉伸断口,分析表面氧化膜的形态及其氧元素的含量,对拉伸断口处切割取样,进行了扫描电镜形貌观察和元素含量电子探针显微定量分析,探讨了氧化膜不同的存在特征。结果表明,与孔洞结合的氧化膜中的氧含量相对较高,实验测得单层氧化膜的厚度为1μm。 展开更多
关键词 压铸铝合金 氧元素含量 氧化膜厚度
下载PDF
氧气含量对射频磁控溅射Ba_(0.5)Sr_(0.5)TiO_3薄膜介电性能的影响 被引量:1
5
作者 林明通 陈国荣 +2 位作者 杨云霞 肖田 陈晨曦 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期593-595,共3页
采用射频磁控溅射法在镀氧化铟锡的Corning1737玻璃基片上制备了用于无机电致发光显示器绝缘层的Ba0.5Sr0.5TiO3介电薄膜,该薄膜厚约400nm。研究了O2和Ar+O2的体积比V(O2)/V(Ar+O2)对薄膜沉积速率、结晶性和介电性能的影响。当V(O2)/V(A... 采用射频磁控溅射法在镀氧化铟锡的Corning1737玻璃基片上制备了用于无机电致发光显示器绝缘层的Ba0.5Sr0.5TiO3介电薄膜,该薄膜厚约400nm。研究了O2和Ar+O2的体积比V(O2)/V(Ar+O2)对薄膜沉积速率、结晶性和介电性能的影响。当V(O2)/V(Ar+O2)由0增加至0.5时,薄膜的结晶取向、介电常数、介电损耗、击穿场强和漏电流密度并没有明显的规律性可循。V(O2)/V(Ar+O2)为0.1时,薄膜的品质因子最好,其值为5μC/cm2。 展开更多
关键词 钛酸锶钡薄膜 氧化铟锡 介电性能 射频磁控溅射 氧气含量
下载PDF
氧含量对钽电解电容器阳极氧化膜形成及漏电流的影响 被引量:18
6
作者 伍尊中 姚卫东 袁坤阳 《稀有金属与硬质合金》 CAS CSCD 2006年第2期32-34,共3页
针对阳极氧化膜在钽电解电容器中所起的重要作用,对比分析了钽阳极块中氧含量对其形成及电性能的影响,并简述了有关影响机理。结果表明:钽阳极块中的氧含量主要由原料钽粉中的杂质氧含量所决定,且与阳极块的压制、烧结及赋能条件等相关... 针对阳极氧化膜在钽电解电容器中所起的重要作用,对比分析了钽阳极块中氧含量对其形成及电性能的影响,并简述了有关影响机理。结果表明:钽阳极块中的氧含量主要由原料钽粉中的杂质氧含量所决定,且与阳极块的压制、烧结及赋能条件等相关;杂质氧对阳极氧化膜形成不利,是造成电容器漏电流增大的主要因素之一。 展开更多
关键词 氧含量 钽电解电容器 阳极氧化膜 漏电流
下载PDF
沉积温度对等离子体化学气相沉积制备硅氧薄膜微结构的影响
7
作者 由甲川 赵雷 +1 位作者 刁宏伟 王文静 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2021年第3期509-515,共7页
利用13.56 MHz的射频等离子体化学气相沉积设备(RF-PECVD)在不同沉积温度(50~400℃)下制备了一系列氢化硅氧(SiO_(x)∶H)薄膜材料,并研究了薄膜材料性能与微结构的变化规律。随着沉积温度的增加,薄膜内的氧含量(C O)下降,晶化率(X C)也... 利用13.56 MHz的射频等离子体化学气相沉积设备(RF-PECVD)在不同沉积温度(50~400℃)下制备了一系列氢化硅氧(SiO_(x)∶H)薄膜材料,并研究了薄膜材料性能与微结构的变化规律。随着沉积温度的增加,薄膜内的氧含量(C O)下降,晶化率(X C)也下降,折射率(n)上升,此外,薄膜的结构因子(R)下降,氢含量(C H)先上升后下降,由此在合适的中间温度下可以获得最大的氢含量。通过实验结果分析提出了不同沉积温度下制备硅氧薄膜的内在微结构模型:低温下沉积的硅氧薄膜是以氢化非晶硅氧(a-SiO_(x)∶H)相为主体并嵌入氢化纳米晶硅(nc-Si∶H)的复合材料,而在高温下沉积的硅氧薄膜则是以氢化非晶硅(a-Si∶H)相为主体并嵌入越来越少的nc-Si∶H相和a-SiO_(x)∶H相的复合材料。由上可知,要制备太阳电池通常采用的晶化率X C高、氧含量C O高的氢化纳米晶硅氧(nc-SiO_(x)∶H)材料,需要采用相对较低的沉积温度。 展开更多
关键词 硅氧薄膜 纳米晶硅氧 等离子体化学气相沉积 沉积温度 晶化率 氧含量 氢含量
下载PDF
联合法生产海绵钛过程中氧含量的控制研究 被引量:3
8
作者 王嵩 《钛工业进展》 CAS 2014年第5期36-40,共5页
分析了联合法生产海绵钛过程中氧杂质的来源,以及造成海绵钛中氧杂质含量高的主要原因。指出降低海绵钛产品中氧含量的关键在于降低精TiCl4中的TiOCl2含量,而采用铝粉除钒工艺可降低精TiCl4中TiOCl2的含量。此外,对粗TiCl4进行密封保护... 分析了联合法生产海绵钛过程中氧杂质的来源,以及造成海绵钛中氧杂质含量高的主要原因。指出降低海绵钛产品中氧含量的关键在于降低精TiCl4中的TiOCl2含量,而采用铝粉除钒工艺可降低精TiCl4中TiOCl2的含量。此外,对粗TiCl4进行密封保护,并采用降温储存的方法(降低TiOCl2在TiCl4中的溶解度),可有效降低精TiCl4中的氧杂质含量,从而生产出氧杂质含量低的高品质海绵钛产品。 展开更多
关键词 海绵钛 氯氧化钛 氧含量 铝粉除钒
下载PDF
研磨金属镜表面去氧化实验研究
9
作者 杨振华 尚春民 《长春理工大学学报(自然科学版)》 2019年第6期38-43,共6页
通过改变研磨液成分去除金属镜表面氧化层,利用能谱仪分析金属表面氧元素含量来表示去氧化膜效果,氧含量越少说明氧化膜去除越好。分别使用不同pH的柠檬酸、氢氧化钠和航空煤油做研磨液,结果表明使用不同研磨液的情况下金属表面的氧含... 通过改变研磨液成分去除金属镜表面氧化层,利用能谱仪分析金属表面氧元素含量来表示去氧化膜效果,氧含量越少说明氧化膜去除越好。分别使用不同pH的柠檬酸、氢氧化钠和航空煤油做研磨液,结果表明使用不同研磨液的情况下金属表面的氧含量不同,酸性情况下金属镜表面氧含量随pH值增高而增大,碱性情况下金属镜表面氧含量随pH值增大而减小,酸性、碱性、油性较之在清水做研磨液的氧含量33.38%有较明显的下降。酸性环境下金属表面氧的去除率与酸性强弱有关,酸性越强去氧效果越好,碱性环境下也有同样的结论,碱性越强去氧效果越好,氧化膜去除能力上油性环境>酸性环境>碱性环境,而金属镜表面光亮程度也呈现相同的关系,氧化膜的去除使金属镜表面硬度下降,研磨速率提高。 展开更多
关键词 氧化膜 研磨液 表面氧含量 表面粗糙度 表面光洁度 研磨速率
下载PDF
V_(2)O_(3)稳定性研究与价态分析
10
作者 章伟 刘丽颖 +1 位作者 吕慧 卢明亮 《河北冶金》 2021年第6期18-21,共4页
分别在空气和氮气气氛下烘干三氧化二钒样品,检测了全钒含量,确定了影响全钒含量变化的主要因素,并提出了控制产品稳定的存储措施。同时,基于不同价态钒氧化物溶酸碱性的不同,分离出了不同价态钒的氧化物,并采用氧化还原滴定法测定了不... 分别在空气和氮气气氛下烘干三氧化二钒样品,检测了全钒含量,确定了影响全钒含量变化的主要因素,并提出了控制产品稳定的存储措施。同时,基于不同价态钒氧化物溶酸碱性的不同,分离出了不同价态钒的氧化物,并采用氧化还原滴定法测定了不同价态钒的含量,分析了钒的价态变化规律。结果表明,三氧化二钒易发生吸水和氧化增氧反应,导致低价钒被氧化为高价钒,稳定性较差,尤其是潮湿环境的影响显著;三氧化二钒产品主要为三价钒的氧化物,还含有四价和五价钒的氧化物,这是生产时还原不完全或存储时氧化的结果。本研究可为生产和应用提供依据。 展开更多
关键词 三氧化二钒 稳定性 价态 氧化还原滴定法 全钒含量 吸水 氧化增氧
下载PDF
氧分压对溅射氧化钒薄膜结构和透光性能的影响 被引量:3
11
作者 唐晓红 黄美东 +5 位作者 杜姗 刘春伟 高倩 王小龙 张建鹏 杨明敏 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2014年第6期194-199,共6页
采用射频磁控溅射法,在K9抛光玻璃基底上沉积氧化钒(VOx)薄膜,研究在其他参数保持不变时氧分压参量对薄膜的结构、表面质量及透光性能的影响。利用表面轮廓仪、X射线衍射仪、原子力显微镜及分光光度计分别对样品的沉积速率、物相结构、... 采用射频磁控溅射法,在K9抛光玻璃基底上沉积氧化钒(VOx)薄膜,研究在其他参数保持不变时氧分压参量对薄膜的结构、表面质量及透光性能的影响。利用表面轮廓仪、X射线衍射仪、原子力显微镜及分光光度计分别对样品的沉积速率、物相结构、表面形貌和紫外-近红外光透射率进行分析。结果表明,制备的VOx薄膜的晶相随氧分压不同发生改变,调整氧分压在可见-近红外光区域可获得弱吸收的光学膜,但氧分压过高只能获得低的薄膜沉积速率,氧分压对薄膜表面粗糙度及晶体生长模式也有不同程度的影响。本文对实验结果进行了分析和讨论。 展开更多
关键词 薄膜 氧化钒 射频磁控溅射 氧分压
原文传递
取向硅钢氧化膜结构对渗氮层深度的影响
12
作者 许光 朱业超 +3 位作者 王自荣 杨秀枝 熊智威 蔡苗 《钢铁研究学报》 CAS CSCD 北大核心 2022年第7期694-700,共7页
低温板坯加热技术生产取向硅钢,其关键点之一在于脱碳退火后要进行渗氮处理。通过控制脱碳气氛,获得不同的氧化膜结构;并进一步分析在近似渗氮量条件下,氧化膜结构对渗氮层深度的影响。结果表明:氧化膜分为外层颗粒状氧化膜和内层层片... 低温板坯加热技术生产取向硅钢,其关键点之一在于脱碳退火后要进行渗氮处理。通过控制脱碳气氛,获得不同的氧化膜结构;并进一步分析在近似渗氮量条件下,氧化膜结构对渗氮层深度的影响。结果表明:氧化膜分为外层颗粒状氧化膜和内层层片状氧化膜两部分。随着脱碳气氛露点增加,脱碳板O含量增加,氧化膜厚度增厚、层片状氧化膜占氧化膜总厚度的比例下降,渗氮层深度增加。当层片状氧化膜厚度占比较高时,[N]原子积聚在试样的极表层,形成氮沿厚度方向的单峰分布,渗层较浅。当层片状氧化膜厚度占比较低时,[N]原子会越过该层,而在次表层再次发生积聚;从而除了极表层的氮峰外,在次表层形成一个或多个氮峰,渗层较深。 展开更多
关键词 取向硅钢 渗氮 氧化膜 脱碳 O含量 N含量 渗氮层
原文传递
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部