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Vegard’s law deviating Ti_(2)(Sn_(x)Al_(1−x))C solid solution with enhanced properties 被引量:1
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作者 Zhihua Tian Peigen Zhang +2 位作者 Wenwen Sun Bingzhen Yan Zhengming Sun 《Journal of Advanced Ceramics》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第8期1655-1669,共15页
The achievement of chemical diversity and performance regulation of MAX phases primarily relies on solid solution approaches.However,the reported A-site solid solution is undervalued due to their expected chemical dis... The achievement of chemical diversity and performance regulation of MAX phases primarily relies on solid solution approaches.However,the reported A-site solid solution is undervalued due to their expected chemical disorder and compliance with Vegard’s law,as well as discontinuous composition and poor purity.Herein,we synthesized high-purity Ti_(2)(Sn_(x)Al_(1−x))C(x=0–1)solid solution by the feasible pressureless sintering,enabling us to investigate their property evolution upon the A-site composition.The formation mechanism of Ti_(2)(Sn_(x)Al_(1−x))C was revealed by thermal analysis,and crystal parameters were determined by Rietveld refinement of X-ray diffraction(XRD).The lattice constant(a)adheres to Vegard’s law,while the lattice constant(c)and internal free parameter(zM)have noticeable deviations from the law,which is caused by the significant nonlinear distortion of Ti_(6)C octahedron as Al atoms are substituted by Sn atoms.Also,the deviation also results in nonlinear changes in their physicochemical properties,which means that the solid solution often exhibits better performance than end members,such as hardness,electrical conductivity,and corrosion resistance.This work offers insights into the deviation from Vegard’s law observed in the A-site solid solution and indicates that the solid solution with enhanced performance may be obtained by tuning the A-site composition. 展开更多
关键词 MAX phase Ti_(2)(Sn_(x)Al_(1−x))C vegard’s law high purity PROPERTIES
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双靶磁控溅射沉积Cu-W薄膜组织结构特征及其演变(英文)
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作者 周灵平 汪明朴 +3 位作者 彭坤 朱家俊 傅臻 李周 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2012年第11期2700-2706,共7页
采用双靶磁控溅射沉积Cu-W合金薄膜,通过XRD、TEM和HRTEM等方法分析沉积薄膜组织结构及其演变规律。在沉积初期,Cu-W薄膜呈非晶态,随着沉积过程的进行,在溅射粒子的轰击下已沉积薄膜逐渐晶化并形成类调幅结构,从而在沉积完成的微米级Cu-... 采用双靶磁控溅射沉积Cu-W合金薄膜,通过XRD、TEM和HRTEM等方法分析沉积薄膜组织结构及其演变规律。在沉积初期,Cu-W薄膜呈非晶态,随着沉积过程的进行,在溅射粒子的轰击下已沉积薄膜逐渐晶化并形成类调幅结构,从而在沉积完成的微米级Cu-W薄膜中呈现表层为非晶态、底层为晶态的层状结构。采用Vegard规则对类调幅结构的固溶度进行计算,Cu-13.7%W薄膜是由固溶度分别为11%W和37%W的Cu(W)固溶体及纯Cu相组成;Cu?14.3%W薄膜是由固溶度分别为15%W和38%W的Cu(W)固溶体及纯Cu相组成;Cu-18%W薄膜是由固溶度分别为19%W和36%W的Cu(W)固溶体及纯Cu相组成。 展开更多
关键词 Cu-W薄膜 溅射沉积 非晶相 层状结构 固溶度 vegard规则
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U_(1-x)Zr_xO_2固溶体点阵参数研究
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作者 喻冲 杨静 +2 位作者 段盼盼 黄华伟 张良 《四川有色金属》 2016年第4期61-64,共4页
点阵参数是晶体结构的基本参数,对固溶体研究具有重要作用。本研究制备了ZrO2质量分数(wt%)为0~30%的ZrO2-UO2陶瓷粉体,经高温烧结获得U1-xZrxO2燃料样品。应用X射线衍射分析技术,采用纳尔逊外推函数(sin^-1θ+θ^-1)cos^2... 点阵参数是晶体结构的基本参数,对固溶体研究具有重要作用。本研究制备了ZrO2质量分数(wt%)为0~30%的ZrO2-UO2陶瓷粉体,经高温烧结获得U1-xZrxO2燃料样品。应用X射线衍射分析技术,采用纳尔逊外推函数(sin^-1θ+θ^-1)cos^2θ/2研究了U1-xZrxO2固溶体的点阵参数随ZrO2含量变化的规律。结果表明:ZrO2含量低于30wt%及烧结温度高于1650℃时ZrO2能完全固溶于UO2中形成U1-xZrxO2固溶体,其点阵参数随ZrO2含量的变化呈良好线性关系,与Vegard定律吻合。 展开更多
关键词 点阵参数 U1-xZrxO2固溶体 vegard定律
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高熵非晶合金形成规律的参数研究
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作者 胡强 《热处理技术与装备》 2018年第6期9-20,共12页
高熵合金主要有三种物相,固溶体、金属间化合物和非晶相,之前的研究表明可通过混合焓和拓扑参数来预测具体成份可形成哪种物相,但这些研究所采用的高熵合金成份差异较大,非晶的数量较少,而且也没有考虑到合金的制备过程对成相的影响,更... 高熵合金主要有三种物相,固溶体、金属间化合物和非晶相,之前的研究表明可通过混合焓和拓扑参数来预测具体成份可形成哪种物相,但这些研究所采用的高熵合金成份差异较大,非晶的数量较少,而且也没有考虑到合金的制备过程对成相的影响,更为重要的是这些研究中均采用单质元素的原子半径来计算合金的拓扑结构,而这可能并不合适。本文制备了92个Ti Zr Hf M、Ti Zr Hf MM、Ti Zr Hf MMM (M=Fe,Cr,V,Nb,Al,Ag,Cu,Ni)高熵合金薄带,其中约一半合金形成非晶,构成了一个具有足够数量的且成份变化很窄的高熵合金数据库,以此来验证之前报道的参数能否有效区分晶相(包括固溶体和化合物)和非晶相,结果表明现有的四种拓扑参数均完全无效,这说明采用单质元素的原子半径来计算合金的拓扑结构并不合适。为此提出了一种考虑局域电子环境变化的合金组元原子半径的修正值,采用此修正值计算的拓扑参数在区分晶态和非晶态合金时有效性明显提高。另外,本文还发现合金组元在单质时的晶体结构对合金是否形成非晶具有很大的影响,主要原因是密排六方与面心立方金属元素间的混合焓偏负,而与体心立方元素的混合焓偏正,这一规律不单在本文所用的金属元素中存在,而且在所有金属元素中均存在。本文的结果不仅为高熵合金的参数研究提供了全新的角度,并且还揭示了冶金学、晶体学和原子物理三个领域中几个重要物理量间的潜藏联系。 展开更多
关键词 高熵合金 非晶合金 原子半径 混合焓 vegard’s法则 晶体结构
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Cr2O3微粉加入量对Al_(2)O_(3)-Cr2O3质耐火材料性能的影响 被引量:2
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作者 康鑫 张利新 +3 位作者 邓俊杰 刘萍 徐恩霞 李素平 《硅酸盐通报》 CAS 北大核心 2021年第10期3285-3291,共7页
以电熔铬刚玉和白刚玉为主要原料,用Cr2O3微粉部分替代电熔铬刚玉细粉,研究了Cr2O3微粉加入量对Al_(2)O_(3)-Cr2O3质耐火材料常温和高温性能、物相组成和显微结构的影响。结果表明,随着Cr2O3微粉加入量的增加,原位形成了(Al1-xCrx)2O3... 以电熔铬刚玉和白刚玉为主要原料,用Cr2O3微粉部分替代电熔铬刚玉细粉,研究了Cr2O3微粉加入量对Al_(2)O_(3)-Cr2O3质耐火材料常温和高温性能、物相组成和显微结构的影响。结果表明,随着Cr2O3微粉加入量的增加,原位形成了(Al1-xCrx)2O3固溶体,促进了烧结,材料的显气孔率先降低后升高,且(Al1-xCrx)2O3固溶体的晶格常数呈线性增加,符合Vegard定律。材料的常温抗折强度和常温耐压强度随Cr2O3微粉加入量的增加先升高后降低,在Cr2O3微粉加入量为15%(质量分数)时强度达到最大值。而当Cr2O3微粉加入量为20%(质量分数)时,由于有挥发现象,材料显气孔率上升,强度下降。材料高温抗折强度随Cr2O3微粉加入量的增加而增加,材料的残余强度保持率呈先降低后升高的趋势。 展开更多
关键词 Al_(2)O_(3)-Cr2O3质耐火材料 Cr2O3微粉 (Al1-xCrx)2O3固溶体 晶格常数 vegard定律 高温性能
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固溶温度对Ag-4Cu-0.3Ni合金组织和硬度的影响 被引量:1
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作者 肖祺 黄福祥 +1 位作者 徐永红 章应 《重庆理工大学学报(自然科学)》 CAS 2013年第3期65-69,共5页
利用扫描电镜、X射线衍射仪、显微硬度测试仪,研究了固溶温度对AgCuNi合金组织、晶格常数、固溶度及显微硬度(HV)的影响。根据Vegard定律推出不同晶格常数对应的固溶度,并证明其值要大于实际固溶度。结果表明:大多数Cu-Ni第二相已在720... 利用扫描电镜、X射线衍射仪、显微硬度测试仪,研究了固溶温度对AgCuNi合金组织、晶格常数、固溶度及显微硬度(HV)的影响。根据Vegard定律推出不同晶格常数对应的固溶度,并证明其值要大于实际固溶度。结果表明:大多数Cu-Ni第二相已在720℃溶入基体,且基体保持较多晶界,相比680℃、760℃的固溶温度,该温度下固溶后的硬度降低幅度较小;在固溶1h的前提下,固溶温度越高该合金的实际固溶度与相图中理论固溶度的偏差越大;拟合得到的固溶度与固溶温度关系式为x=-22.521 08+7.316×10-2T-4.843 9×10-5T2。 展开更多
关键词 银合金 晶格常数 固溶度 vegard定律
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Optoelectronic Characterization of Chemical Bath Deposited Cd<sub>x</sub>Co<sub>1-x</sub>S Thin Film
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作者 Chinedu E. Ekuma Mishark N. Nnabuchi +2 位作者 Eziaku Osarolube Ephraim O. Chukwuocha Michael C. Onyeaju 《Journal of Modern Physics》 2011年第9期992-996,共5页
Cadmium Cobalt Sulphide (CdxCo1-xS) thin film was deposited on microscopic glass substrate using chemical bath deposition technique at room temperature from aqueous solutions of Cadmium Chloride, Cobalt Chloride and T... Cadmium Cobalt Sulphide (CdxCo1-xS) thin film was deposited on microscopic glass substrate using chemical bath deposition technique at room temperature from aqueous solutions of Cadmium Chloride, Cobalt Chloride and Thiourea in which ammonium solution was used as complexing agents. The optical properties were characterized using the absorbance and transmission measurement from Unico UV-2102 PC spectrophotometer, at normal incidence of light in the wavelength range of 200 - 1000 nm. We report the deposition and optimization of the growth parameter with respect to time which showed that the band gap energy and the composition verified from the extended Vegard’s law are highly dependent on deposition time. The average transmittance of the film in VIS-NIR region ranges between 30% and 78% with absorbance range of 0.15 - 0.47 within the same wavelength range. The film was also observed to exhibit poor reflectance (11 x = 0.75;0.83 and 0.94), respectively. Other optical and dielectric properties of the films were also characterized. Based on the exhibited properties of the film, it can be concluded that it is a promising material for selective coatings for solar cells;effective coatings for poultry houses;use as antireflective coating materials, and for fabrication of optoelectronic devices. 展开更多
关键词 CdxCo1-xS CVD Thin Films Band Gap vegard’s law
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GeSn合金的晶格常数对Vegard定律的偏离 被引量:2
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作者 苏少坚 成步文 +3 位作者 薛春来 张东亮 张广泽 王启明 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第17期384-388,共5页
在Si(001)衬底上,以高质量的弛豫Ge薄膜作为缓冲层,先后生长Sn组分x分别为2.5%,5.2%和7.8%的完全应变的三层Ge_(1-x)Sn_x合金薄膜.在Si(001)衬底上直接生长了x分别为0.005,0.016,0.044,0.070和0.155的五个弛豫Ge_(1-x)Sn_x样品.通过卢... 在Si(001)衬底上,以高质量的弛豫Ge薄膜作为缓冲层,先后生长Sn组分x分别为2.5%,5.2%和7.8%的完全应变的三层Ge_(1-x)Sn_x合金薄膜.在Si(001)衬底上直接生长了x分别为0.005,0.016,0.044,0.070和0.155的五个弛豫Ge_(1-x)Sn_x样品.通过卢瑟福背散射谱、高分辨X射线衍射和X射线倒易空间图等方法测量了Ge_(1-x)Sn_x合金的组分与晶格常数.实验得到的晶格常数相对Vegard定律具有较大的正偏离,弯曲系数b=0.211 A. 展开更多
关键词 GeSn合金 晶格常数 vegard定律 弯曲系数
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稀土Er对铸态合金Mg-5Sn组织及晶格常数的影响 被引量:4
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作者 张丁非 马春华 +1 位作者 张红菊 柴森森 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第12期2481-2485,共5页
本实验借助于XRF、OM、XRD、SEM等测试方法对铸态合金Mg-5Sn-xEr(x=0,0.5,1,1.5,2,2.5,4,6,8,10)进行了研究,结果发现稀土Er对合金的晶粒有明显的细化,还可以抑制圆盘状Mg2Sn相的形成,促进不规则形状稀土相的形成,因此稀土Er对铸态Mg-5S... 本实验借助于XRF、OM、XRD、SEM等测试方法对铸态合金Mg-5Sn-xEr(x=0,0.5,1,1.5,2,2.5,4,6,8,10)进行了研究,结果发现稀土Er对合金的晶粒有明显的细化,还可以抑制圆盘状Mg2Sn相的形成,促进不规则形状稀土相的形成,因此稀土Er对铸态Mg-5Sn合金的显微组织及物相有显著影响。本工作通过对合金的衍射谱线进行了全谱拟合,计算了不同合金中的α-Mg固溶体的晶格常数,并在此基础上用Vegard’Law分别计算出Er在α-Mg基体中a,c轴方向的的固溶度大小,结果表明在a轴方向的计算结果更为合理。 展开更多
关键词 Mg-5Sn Mg2Sm晶格常数 vegard’s law
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Cu-Cr合金中点阵参数的精确测定与真实固溶度估算 被引量:2
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作者 李强 马彪 +3 位作者 李雷 黄国杰 陈春玲 谢水生 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第S2期132-134,共3页
采用气雾化制粉法制备一系列不同固溶浓度的Cu-Cr合金粉体,对样品进行X射线衍射分析,XRD图谱采用纳尔逊外推函数(sin1θ+θ1)cos2θ/2进行图解外推,求得合金粉体的点阵参数。实验发现制备Cu-Cr合金在一定成分范围内,固溶度与点阵参数的... 采用气雾化制粉法制备一系列不同固溶浓度的Cu-Cr合金粉体,对样品进行X射线衍射分析,XRD图谱采用纳尔逊外推函数(sin1θ+θ1)cos2θ/2进行图解外推,求得合金粉体的点阵参数。实验发现制备Cu-Cr合金在一定成分范围内,固溶度与点阵参数的变化呈良好线性关系,吻合校正后的Vegard定律。测量了实验条件下Cr在Cu中的固溶度范围,分析固溶度扩展的原因,讨论固溶度的扩展极限,提出用XRD测定Cr在Cu中真实固溶度的方法及计算公式。 展开更多
关键词 Cu-Cr合金粉体 固溶度 点阵参数 vegard定律
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Characterization of lattice parameters gradient of Cu(In1-xGax)Se2 absorbing layer in thin-film solar cell by glancing incidence X-ray diffraction technique
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作者 Yong-Il Kim Ki-Bok Kim Miso Kim 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第16期193-201,共9页
In or Ga gradients in the Cu(In1-xGax)Se2(CIGS)absorbing layer lead to change the lattice parameters of the absorbing layer,giving rise to the bandgap grading in the absorbing layer which is directly associated with t... In or Ga gradients in the Cu(In1-xGax)Se2(CIGS)absorbing layer lead to change the lattice parameters of the absorbing layer,giving rise to the bandgap grading in the absorbing layer which is directly associated with the degree of absorbing ability of the CIGS solar cell.We tried to characterize the depth profile of the lattice parameters of the CIGS absorbing layer using a glancing incidence X-ray diffraction(GIXRD)technique,and then investigate the bandgap grading of the CIGS absorbing layer.When the glancing incident angle increased from 0.50 to 5.00°,the a and c lattice parameters of the CIGS absorbing layer gradually decreased from 5.7776(3)to 5.6905(2)?,and 11.3917(3)to 11.2114(2)?,respectively.The depth profile of the lattice parameters as a function of the incident angle was consistent with vertical variation in the compositionof In or Ga with depth in the absorbing layer.The variation of the lattice parameters was due to the difference between the ionic radius of In and Ga co-occupying at the same crystallographic site.According to the results of the depth profile of the refined parameters using GIXRD data,the bandgap of the CIGS absorber layer was graded over a range of 1.222-1.532 eV.This approach allows to determine the In or Ga gradients in the CIGS absorbing layer,and to nondestructively guess the bandgap depth profile through the refinement of the lattice parameters using GIXRD data on the assumption that the changes of the lattice parameters or unit-cell volume follow a good approximation to Vegard’s law. 展开更多
关键词 Cu(In1-xGax)Se2 absorbing layer Depth profile Glancing incidence X-ray diffraction TECHNIQUE Bandgap grading vegard’s law
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