-
题名PTH孔内无铜的预防
被引量:2
- 1
-
-
作者
江楚生
许晔
-
机构
汕头超声印制板公司一厂
-
出处
《印制电路信息》
2006年第1期33-35,共3页
-
文摘
通过观察PTH线的不同类型孔内无铜现象,针对PTH的流程特性,制定相应的预防措施,以求最大限度的减少孔内无铜发生。
-
关键词
pth
孔内无铜
预防措施
-
Keywords
pth void hole prevantive measure
-
分类号
TN405
[电子电信—微电子学与固体电子学]
TM216
[一般工业技术—材料科学与工程]
-
-
题名无铅波峰焊中PTH焊点吹孔成因探讨
- 2
-
-
作者
李晓倩
-
机构
中国赛宝实验室可靠性研究与分析中心
-
出处
《电子工艺技术》
2016年第6期327-329,共3页
-
基金
国家自然科学青年基金项目(项目编号:51304176)
-
文摘
借助实际案例,并利用X线透射技术(X-Ray)、金相切片、扫描电子显微镜(SEM)和热机械分析(TMA)等物理分析手段,研究了PTH孔质量,如孔铜厚度和孔壁的润湿性能等对生成焊点空洞的影响。结果表明,PTH孔铜厚度太薄,不足以抵抗焊接时PCB基材的热膨胀而被拉断,导致藏匿在PCB内部的潮气和未完全挥发的助焊剂等在焊接时受热膨胀,并通过孔断处向焊料内部喷发进而形成空洞或吹孔。而PTH孔表面由于喷锡层厚度太薄造成与孔铜完全合金化,亦可降低孔壁可焊性,导致焊料润湿爬升困难,进而形成空洞。
-
关键词
无铅波峰焊接
pth焊点
吹孔或空洞
-
Keywords
Lead-free wave soldering
pth solder joint
blow hole or void
-
分类号
TG60
[金属学及工艺—金属切削加工及机床]
-
-
题名多层印制板金属化孔镀层空洞研究
被引量:2
- 3
-
-
作者
迟海蓉
-
机构
中国工程物理研究院电子工程研究所
-
出处
《电子工艺技术》
2004年第6期258-260,共3页
-
文摘
多层印制板的制作是一个生产工序复杂且周期很长的过程,那么造成金属化孔镀层空洞的原因也就很复杂。这里本人通过试验,分析了针对我们的生产工艺路线及设备配置运行情况出现的金属化孔镀层空洞的主要产生原因,从产生原因的工序出发,提出了如何优化工艺参数,进行严格的工艺及质量控制,以保证孔金属化的质量。
-
关键词
金属化孔镀层空洞
多层印制板
-
Keywords
void pth
Multilayer printed board
-
分类号
TN41
[电子电信—微电子学与固体电子学]
-
-
题名PCB制程中金属化孔镀层空洞的成因及改善
被引量:2
- 4
-
-
作者
程骄
李卫明
刘敏然
-
机构
广东东硕科技有限公司
-
出处
《印制电路信息》
2013年第8期21-23,64,共4页
-
文摘
文章从印制线路板的生产流程和工艺参数等方面,结合切片观察的手段,浅析了金属化孔镀层空洞的形成原因。研究表明:半固化片的型号、含胶量及填料的比例与芯板质量有很大关联,影响着层压和钻孔工序的板件质量;沉铜和电镀工序的工艺参数、周边辅助设施的工作状况及加工过程中的时效是影响镀层空洞的主要因素。针对每一个异常点,找到缺陷的形成原因,对工艺流程进行有效的改进,有的放矢的起到预防措施,最终达到改善镀层质量,提高产品的合格率,对提高线路板可靠性具有重要的意义。
-
关键词
空洞
化学沉铜
电镀
钻孔
-
Keywords
void pth
Electroless Copper Plating
Electroplating
Drill
-
分类号
TN41
[电子电信—微电子学与固体电子学]
-
-
题名简析PCB制程中造成孔无铜的因素和改善
被引量:2
- 5
-
-
作者
张亚锋
-
机构
胜宏科技(惠州)股份有限公司
-
出处
《印制电路信息》
2015年第5期47-50,共4页
-
文摘
文章主要分析了线路板中造成孔内铜空洞及无铜的产生原因,并从相关的设计源头、板材特性、层压结构、钻孔工艺、沉铜工艺以及干膜和电镀等的制程中简析其原理、原因,找出对应的改善、预防方案,提高良率,起到控制成本及提高品质的效果。
-
关键词
材质
钻孔
镀通孔
空洞
电流参数
-
Keywords
Material
Drilling, pth
void Hole
Current Parameters
-
分类号
TN41
[电子电信—微电子学与固体电子学]
-
-
题名PCB镀通孔发生“空洞”的根本原因和对策
被引量:8
- 6
-
-
作者
林金堵
吴梅珠
-
出处
《印制电路信息》
2010年第4期31-36,共6页
-
文摘
文章概述了多层板镀通孔发生"空洞"的根本原因与对策。基材、钻孔、孔壁粗糙度、孔尺寸、化学镀铜和电镀铜等都会影响PTH的"空洞"问题。
-
关键词
镀通孔
镀层“空洞”
镀层附着力
高性能基材
孔壁表面状态
化学镀铜
-
Keywords
pth(Plated Through-Hole)
hole-wall voids
hole-wall adhesion
high-performancesubstrate
hole-wall topography
electroless copper
-
分类号
TN41
[电子电信—微电子学与固体电子学]
-