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多弧离子镀(Ti,W)_xN合金涂层组织与性能 被引量:3
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作者 曾鹏 胡社军 +2 位作者 谢光荣 黄拿灿 吴起白 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第9期33-35,41,共4页
采用 Ti/ W复合靶用多弧离子镀技术沉积了 (Ti,W) x N合金涂层 ,并对该涂层的组织与性能进行了研究。结果表明 ,涂层组织致密 ,孔隙率极低 ,主要结构为 (Ti,W) 2 N,并具有较高的显微硬度和抗氧化性。在沉积过程中存在着多元合金涂层与... 采用 Ti/ W复合靶用多弧离子镀技术沉积了 (Ti,W) x N合金涂层 ,并对该涂层的组织与性能进行了研究。结果表明 ,涂层组织致密 ,孔隙率极低 ,主要结构为 (Ti,W) 2 N,并具有较高的显微硬度和抗氧化性。在沉积过程中存在着多元合金涂层与复合靶的成分离析现象 ,这与靶材的结构有关。 展开更多
关键词 多弧离子镀 (Ti w)xn涂层 组织性能 成分离析 气相沉积 合金涂层 超硬涂层
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