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钨粉化学镀铜对W/15Cu电子封装材料性能的影响 被引量:10
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作者 吴泓 王志法 +2 位作者 姜国圣 崔大田 郑秋波 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第3期550-553,共4页
采用化学镀铜的方法在钨粉中加入诱导铜,经压型,熔渗后制成W/15Cu合金。用扫描电镜研究了材料的显微结构,并测出合金样品的密度、气密性、热膨胀系数等物理性能,通过与传统工艺制备的W/15Cu合金的显微组织以及物理性能方面做比较,讨论... 采用化学镀铜的方法在钨粉中加入诱导铜,经压型,熔渗后制成W/15Cu合金。用扫描电镜研究了材料的显微结构,并测出合金样品的密度、气密性、热膨胀系数等物理性能,通过与传统工艺制备的W/15Cu合金的显微组织以及物理性能方面做比较,讨论了钨粉化学镀铜对W/15Cu合金性能的影响。结果表明,钨粉化学镀铜对于提高钨生坯成形性能、改善钨铜复合材料的显微组织结构、提高材料物理性能方面都有很大作用。经过综合比较,镀铜含量以2%为宜。 展开更多
关键词 化学镀铜 w/15cu合金 电子封装材料 诱导铜 熔渗
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