不同Ti含量的W-Ti-N复合膜的微结构及性能研究

采用多靶反应磁控溅射技术制备一系列不同Ti含量的W-Ti—N复合膜。采用x射线衍射仪、扫描电镜、纳米压痕仪等检测方法对薄膜的微结构和力学性能进行表征。采用UMT-2功能摩擦试验机，在室温、大气环境、无润滑的条件下对w—Ti—N复合膜的摩擦性能进行评价，同时，探讨薄膜的致硬机理和摩擦机制。结果表明：Ti含量（原子分数，下同）为5％～23．48％时，薄膜硬度处于峰值区，硬度值最高可达39GPa，摩擦因数在0．4左右。当Ti含量高于23．48％时，硬度随着Ti含量增加而下降，摩擦因数随Ti含量的增加而升高。