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直流反应溅射WO3薄膜的结构及光催化性能研究 被引量:3
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作者 朱海玲 唐艳艳 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第8期8164-8168,共5页
采用直流反应磁控溅射法,在石英基片上沉积WO_3薄膜,考察了溅射参数对WO_3薄膜结构及其性能的影响,并通过后续热处理得到不同物相结构的薄膜,分析探讨薄膜光致变色与光催化性能间的内在关联。利用XRD、SEM、UV-Vis和UV-Vis-Nir分别对WO_... 采用直流反应磁控溅射法,在石英基片上沉积WO_3薄膜,考察了溅射参数对WO_3薄膜结构及其性能的影响,并通过后续热处理得到不同物相结构的薄膜,分析探讨薄膜光致变色与光催化性能间的内在关联。利用XRD、SEM、UV-Vis和UV-Vis-Nir分别对WO_3薄膜的晶型、表面形貌、光学特征及光催化等性能进行分析与表征,实验结果表明,反应溅射氧氩比不同时,WO_3薄膜的光致变色效果不同,变色效果越好的薄膜光催化活性越高;热处理导致WO_3薄膜光致变色特性的消失和光催化活性的降低,未处理得到的非晶态WO_3具有最好的光催化活性。 展开更多
关键词 wo3 磁控溅射法 光催化 光致变色
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Electrochromic Properties of Sputtered Ti-Doped WOa Films 被引量:1
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作者 胡远荣 王丽阁 李国卿 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2007年第4期452-455,共4页
Ti-doped WO3 films were prepared by the mid-frequency dual-target magnetron sputtering method. The structure and electrochromic properties of the Ti-doped WO3 films were analysed by X-Ray diffraction (XRD), Raman sp... Ti-doped WO3 films were prepared by the mid-frequency dual-target magnetron sputtering method. The structure and electrochromic properties of the Ti-doped WO3 films were analysed by X-Ray diffraction (XRD), Raman spectroscopy, spectrophotometer, cyclic chronoam- perometry and atomic force microscopy (AFM). The results indicate that the erystallinity decrease after the doping of titanium, the channels for ion injection and extraction increase, the responding speed with 5.1% titanium doped becomes faster, and its circle life increases more than four times compared with the undoped WO3 film. In the coloured state, the W-O-W bonds decrease, but the W = O bonds increase. Since the W-O-W bonds break down for Li+ ions' injection and more W = O bonds form, it is more convenient to inject Li+ ions into the Ti-doped film than undoped film because more W-O-W bonds break down in the coloured state. 展开更多
关键词 PLASMA magnetron sputtering electrochromic Ti-doped wo3 films
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磁控溅射WO_3薄膜特性研究 被引量:6
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作者 林伟 黄世震 +2 位作者 陈伟 颜志波 耿涛 《郑州轻工业学院学报(自然科学版)》 CAS 2002年第4期7-10,共4页
用磁控溅射法制成WO3 薄膜 ,通过改变成膜的溅射参数来改变WO3 薄膜的性能 .利用XRD分析了样品的粒径大小 ,研究了成膜工艺参数对气敏元件性能的影响 .结果表明 ,薄膜中WO3 晶粒的平均尺寸为 17nm ,该传感器对NOx 气体有非常好的灵敏度... 用磁控溅射法制成WO3 薄膜 ,通过改变成膜的溅射参数来改变WO3 薄膜的性能 .利用XRD分析了样品的粒径大小 ,研究了成膜工艺参数对气敏元件性能的影响 .结果表明 ,薄膜中WO3 晶粒的平均尺寸为 17nm ,该传感器对NOx 气体有非常好的灵敏度和选择性 ,对体积分数为 1× 10 - 5的NOx 气体灵敏度高于 5 0倍 ,而对其他干扰气体的灵敏度小于 2倍 . 展开更多
关键词 磁控溅射法 氧化钨 氧化氮 薄膜 气敏元件 气敏材料
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