WO_3电致变色薄膜制备过程中光学膜厚测量监控技术的研究

采用真空电子束蒸发方法制备 WO3电致变色薄膜过程中 ,利用极值法光学膜厚测量技术监控薄膜的光学特性 ,对不同光学膜厚的 WO3薄膜的原始态、着色态和退色态的光谱特性进行了对比分析。测试采用二电极恒电压方法 ,用分光光度计实时测量透过率的变化。结果证明以 ITO玻璃作为比较片 ,极值法监控薄膜光学膜厚 ,当反射率达到第一极小值 ,即透过率达到第一极大值时 。