高度有序氧化钨纳米棒的制备和表征(英文)

采用直流磁控溅射法结合阳极氧化法在铝基纳米点阵上制备氧化钨(WO3)纳米棒. 运用原子力学显微镜(AFM), 电子扫描显微镜(SEM),X射线衍射仪(XRD), 电化学工作站(EW)和紫外-可见分光光度计(UV)观察表征了WO3纳米棒的表面形貌、结构、光学性能和电致变色性能. 结果表明: 在溅射过程中, 溅射粒子优先沉积于铝基纳米点阵的凸点上, 然后成核并形成棒状;WO3纳米棒的直径约为200 nm, 与铝基纳米点阵的直径一致, 拥有一定的电致变色性能.