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电子束直写圆片技术
被引量:
1
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作者
彭力
赵丽新
《微电子技术》
1999年第4期4-8,共5页
本文扼要介绍了电子束直写圆片的原理,地形标记的识别,以及电子束曝光系统能识别的圆片标记的制造技术。
关键词
电子束曝光
直写圆片
地形标记
下载PDF
职称材料
题名
电子束直写圆片技术
被引量:
1
1
作者
彭力
赵丽新
机构
中国华晶电子集团公司掩模工厂
出处
《微电子技术》
1999年第4期4-8,共5页
文摘
本文扼要介绍了电子束直写圆片的原理,地形标记的识别,以及电子束曝光系统能识别的圆片标记的制造技术。
关键词
电子束曝光
直写圆片
地形标记
Keywords
Electron beam exposure
Topography mark
write wafer
分类号
TN4 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
电子束直写圆片技术
彭力
赵丽新
《微电子技术》
1999
1
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