X(γ)刀剂量场的测量

目的 :目前 ,国内X、γ刀的输出剂量及剂量分布尚无适宜的测量设备及相应的技术规范。由于X、γ刀剂量场的特点 ,不能用常规的电离室测量。本文的目的是为X、γ刀的剂量测量提供合理的设备和方法。材料与方法 :研制了灵敏区为 1mm的半导体探测器和体积为 0 .0 3cc的石墨电离室。用该探测器测量了γ刀在各种模体中的输出剂量及剂量分布。结果 :用研制的SCD -61半导体剂量仪和 0 .0 3cc石墨电离室测量了不同模体、不同准直器的输出剂量及剂量分布 ,根据对球形模的测量值 ,计算出各种射野时头形模的量分布 ,用热释光剂量仪做了验证 ,焦点值均在 5 %范围内一致。结论 :X、γ刀的输出剂量及剂量分布应在现场进行实际测量 ,所用探头直径应小于射野直径的一半。灵敏区～ 1mm的半导体探测器适合作X。