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基于X光光刻的亚波长光栅 被引量:4
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作者 李以贵 杉山进 《纳米技术与精密工程》 EI CAS CSCD 2007年第4期249-252,共4页
描述了一种新的亚波长光栅的微细加工技术,即X光光刻得到相应的亚微米级的线宽图形,再利用显影技术获得了高深宽比的立体亚波长光栅.用此纳米加工技术获得了栅距为500 nm、250 nm、150 nm,光栅高度为1900nm的特殊纳米光栅模具,开发了纳... 描述了一种新的亚波长光栅的微细加工技术,即X光光刻得到相应的亚微米级的线宽图形,再利用显影技术获得了高深宽比的立体亚波长光栅.用此纳米加工技术获得了栅距为500 nm、250 nm、150 nm,光栅高度为1900nm的特殊纳米光栅模具,开发了纳米无反射结构,并研制成功了亚波长光栅.该亚微米线宽微细加工技术可用于布拉格光栅、DVD读写头、无反射表面等需要亚微米结构的器件中. 展开更多
关键词 亚波长光栅 x光光刻 高深宽比
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用X光光刻法制备亚波长抗反射结构 被引量:2
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作者 李以贵 杉山进 《微细加工技术》 EI 2008年第1期14-16,34,共4页
为了提高太阳电池的转换效果,降低反射光栅的偏振敏感性,开发了一种新的抗反射结构的微细加工技术。首先用X光光刻在PMMA光刻胶上得到相应的亚微米级的线宽图形,再利用显影技术获得了高深宽比的立体亚波长纳米结构,即抗反射结构。设计... 为了提高太阳电池的转换效果,降低反射光栅的偏振敏感性,开发了一种新的抗反射结构的微细加工技术。首先用X光光刻在PMMA光刻胶上得到相应的亚微米级的线宽图形,再利用显影技术获得了高深宽比的立体亚波长纳米结构,即抗反射结构。设计了适用于可见光波段的二维亚波长抗反射光栅,用X光光刻制作工艺在硅衬底上进行了实验制备。用此纳米加工技术获得了线宽为150 nm、高度约为450 nm(即深宽比为3.0)的PMMA减反射结构。同时还优化了曝光近接间隔、曝光剂量、显影时间等X光光刻参数。 展开更多
关键词 x光光刻 抗反射结构 高深宽比 纳米制造
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X光光刻工艺微针阵列的制备、测试和仿真 被引量:4
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作者 李以贵 吴文渊 +2 位作者 王欢 蔡金东 吕曈 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第5期1156-1164,共9页
为了提高透皮给药的效率,降低传统注射对人体的疼痛感,需要制备微针阵列结构。本文介绍了一种新的微针阵列结构的制造技术。利用日本立命馆大学的同步辐射光源AURORA进行两次X光移动光刻和一次固定X光光刻技术,在PMMA光刻胶上得到微针... 为了提高透皮给药的效率,降低传统注射对人体的疼痛感,需要制备微针阵列结构。本文介绍了一种新的微针阵列结构的制造技术。利用日本立命馆大学的同步辐射光源AURORA进行两次X光移动光刻和一次固定X光光刻技术,在PMMA光刻胶上得到微针阵列。通过采用不同的掩膜版图形以及对不同位置的空心孔进行X光光刻,获得了不同规格的空心微针阵列,针对固定X光光刻时对准的问题,自行研制了X光光刻对准装置,实验结果证明,该装置能实现空心微针阵列的制备。并且进行了微针刺穿测试,结果证明微针有足够的强度。为了达到低成本批量复制微针阵列的目的,还进行了微针模具的倒模和复制实验,成功得到金属镍实心微针阵列。最后,针对光刻过程中微针阵列结构的侧面形状发生畸变的情况,对移动X光光刻建立了仿真预测,将仿真预测结果与实验结果进行了比较,结果表明显影深度的误差为5%。 展开更多
关键词 透皮给药 移动x光光刻 固定x光光刻 微针阵列
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基于X光移动光刻技术的PMMA微透镜阵列制备 被引量:3
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作者 李以贵 颜平 +1 位作者 黄远 杉山进 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2016年第6期216-220,共5页
微透镜阵列的制备已经成为微光学领域的研究热点。利用两次X光移动光刻技术,以聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)为正光刻胶,在PMMA基板上制造了微透镜阵列,并对其制作原理进行了详细说明。设计了制备微透镜阵列用的掩膜图形,并通过掩膜图形模拟仿... 微透镜阵列的制备已经成为微光学领域的研究热点。利用两次X光移动光刻技术,以聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)为正光刻胶,在PMMA基板上制造了微透镜阵列,并对其制作原理进行了详细说明。设计了制备微透镜阵列用的掩膜图形,并通过掩膜图形模拟仿真,预测了微透镜在两次移动曝光显影后的形状。第一次X光移动光刻后,理论上会得到半圆柱状三维结构;第一次光刻后将掩膜板旋转90°,进行第二次移动曝光光刻,最终在PMMA基板上制备了面积为10 mm×10 mm的30×30个微透镜阵列,阵列中每个微透镜的直径约248μm、厚度约82μm。同时也研究了X光曝光量与PMMA刻蚀深度之间的关系。微透镜阵列形貌测试表明此种制备微透镜阵列的新方法是可行的。 展开更多
关键词 微透镜阵列 微制造 x光光刻 移动光 PMMA
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基于准分子激光的X光掩膜板与压电陶瓷加工 被引量:2
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作者 李以贵 颜平 +1 位作者 黄远 杉山进 《微纳电子技术》 北大核心 2015年第12期786-790,共5页
随着元器件的微型化、精密化发展,对快速微细加工提出了巨大需求。基于准分子激光微细加工技术,以串行加工方式加工了X光掩膜板图形结构和压电陶瓷(PZT)微结构。研究了波长为248 nm KrF准分子激光微细加工技术的最优加工条件,获得了高... 随着元器件的微型化、精密化发展,对快速微细加工提出了巨大需求。基于准分子激光微细加工技术,以串行加工方式加工了X光掩膜板图形结构和压电陶瓷(PZT)微结构。研究了波长为248 nm KrF准分子激光微细加工技术的最优加工条件,获得了高质量的X光光刻用的掩膜板和PZT微结构。基于X光掩膜板,采用聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)为光刻胶进行X光光刻,获得了高深宽比的六角形蜂窝微结构。通过输入不同的加工参数来激光加工PZT基板,获得了加工参数与PZT基板加工深度的关系。通过对加工好的PZT微结构和六角形蜂窝微结构的测试,结果表明利用准分子激光器可实现快速微细加工的目的。 展开更多
关键词 微细加工 准分子激光 x光光刻 x光掩膜板 压电陶瓷(PZT)
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X光透镜及其应用的开发研究 被引量:4
6
作者 王大椿 颜一呜 +3 位作者 赫业军 丁训良 罗萍 李玉德 《三明学院学报》 2003年第2期11-16,共6页
着重介绍了X光透镜的原理、制作方法及其在X光产业中的应用和发展前景。
关键词 x光学 x光透镜 x光聚束系统 x光光刻
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X光透镜及其应用 被引量:4
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作者 王大椿 颜一鸣 +9 位作者 赫业军 丁训良 陈宝振 魏富忠 刘安东 罗萍 陈俊 李玉德 潘世友 施修龄 《大学物理》 1998年第10期1-5,9,共6页
着重介绍了X光透镜的原理、制作方法,及其在X光产业中的应用和发展前景.
关键词 x光光 x光透镜 x光聚束系统 x光光刻
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X光可直接“书写”出高温超导电路
8
《电脑与电信》 2011年第9期19-19,共1页
据美国物理学家组织网8月22日报道,英国伦敦大学纳米技术中心和意大利罗马第一大学物理学家联合开发出一种X光光刻电路技术,用X光照射直接将电路“书写’:在特殊材料上,形成高温超导微电路。这种产生和控制微小超导结构的技术不仅... 据美国物理学家组织网8月22日报道,英国伦敦大学纳米技术中心和意大利罗马第一大学物理学家联合开发出一种X光光刻电路技术,用X光照射直接将电路“书写’:在特殊材料上,形成高温超导微电路。这种产生和控制微小超导结构的技术不仅能带来全新的低能耗电子设备,在燃料电池、催化剂等多个领域都具有广泛的应用前景。 展开更多
关键词 电路技术 高温超导 x光光刻 书写 物理学家 伦敦大学 技术中心 特殊材料
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LIGA技术制备正电子慢化体的实验研究
9
作者 黄军容 彭良强 +5 位作者 伊福廷 于润升 魏龙 蒋毅坚 张菊芳 韩勇 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2002年第10期893-896,共4页
LIGA技术具有加工精度高、深宽比大、表面平整、应用领域广等优点 ,是一种先进的微细加工方法。实验中将LIGA技术的优点用于正电子慢化体的制作中 ,能获得传统加工方法无法制作出的薄壁网状多孔镍结构 ,满足新型正电子慢化体的制备要求。
关键词 LIGA技术 制备 实验研究 正电子慢化体 同步辐射 x光光刻 电铸 塑铸
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聚合物四开叉型微针阵列的仿真、制备与测试
10
作者 王洁 金敏慧 +2 位作者 蔡金东 吴文渊 李以贵 《传感器与微系统》 CSCD 2020年第6期70-72,76,共4页
通过使用MATLAB软件,设计了四开叉型微针阵列的掩模板图形,并利用仿真和掩模板图形补偿方法,改进了四开叉型微针阵列的掩模板图形,使得制备的四开叉型微针阵列的强度得到增加。采用两次移动X光曝光技术制备了聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)四... 通过使用MATLAB软件,设计了四开叉型微针阵列的掩模板图形,并利用仿真和掩模板图形补偿方法,改进了四开叉型微针阵列的掩模板图形,使得制备的四开叉型微针阵列的强度得到增加。采用两次移动X光曝光技术制备了聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)四开叉型微针阵列。利用毛细管现象,制备的四开叉型微针可以提取与血液性质类似的苯胺蓝溶液,验证了该微针阵列可以用来采血。通过将微针刺入聚氨酯薄膜上,测试施加的负荷来进行强度测试,验证了所制备的微针阵列有足够的强度,负荷为0. 4 N/针。 展开更多
关键词 移动x光光刻技术 聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)四开叉型微针 毛细管现象
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