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用于软X射线探测器标定的X射线二次多靶源
被引量:
3
1
作者
祝宇轩
王于仨
+9 位作者
陈勇
崔苇苇
王昊
张子良
王皓迪
侯懂杰
赵晓帆
虞年
赵子健
陈灿
《核技术》
CAS
CSCD
北大核心
2021年第5期37-42,共6页
爱因斯坦探针(Einstein Probe,EP)和增强型X射线时变与偏振探测天文台(enhanced X-ray Timing and Polarimetry,eXTP)是近期提出的两种聚焦型X射线天文望远镜。EP卫星搭载的深度后随X射线望远镜(Follow-up X-ray Telescope,FXT)和eXTP...
爱因斯坦探针(Einstein Probe,EP)和增强型X射线时变与偏振探测天文台(enhanced X-ray Timing and Polarimetry,eXTP)是近期提出的两种聚焦型X射线天文望远镜。EP卫星搭载的深度后随X射线望远镜(Follow-up X-ray Telescope,FXT)和eXTP卫星搭载的能谱测量X射线聚焦望远镜阵列(Spectroscopy Focusing Array,SFA)分别使用了pnCCD和SDD探测器。pnCCD和SDD前期电子学联调和标定在中国科学院高能物理研究所标定大厅进行,所用的X射线靶源是标定装置的重要部件。本文介绍了一种X射线二次多靶源装置的设计,该装置可以为联调和标定工作提供软X射线光源。装置利用X光机电子打靶所产生的韧致辐射光子二次打靶放出二次靶材的荧光线,生成能谱成分简单、信噪比高的X射线光源。通过Geant4模拟对该装置的准直管口径、X光机管高压和装置内壁材料等参数进行了分析,然后对SDD和pnCCD进行了能谱测量,同时利用pnCCD的成像功能对光源的光斑大小进行了测试。结果显示:该装置可以满足联调需求,能够广泛应用于软X射线探测器的前期电子学联调和测试。
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关键词
爱因斯坦探针
增强型
x
射线
时变与偏振探测天文台
电子学联调
探测器标定
x射线二次多
靶源
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职称材料
二次X射线曝光制作凹面光栅
2
作者
陈水良
李以贵
《微细加工技术》
EI
2005年第1期29-31,共3页
介绍了一种通过微细加工技术即二次X射线曝光制作凹面光栅的方法。首先利用X射线截面光强遵循高斯分布的性质,无LIGA掩模版曝光显影后在PMMA上得到凹面,凹面深度可由曝光时间控制;再用带有光栅图案的LIGA掩模版第二次曝光显影在凹面上...
介绍了一种通过微细加工技术即二次X射线曝光制作凹面光栅的方法。首先利用X射线截面光强遵循高斯分布的性质,无LIGA掩模版曝光显影后在PMMA上得到凹面,凹面深度可由曝光时间控制;再用带有光栅图案的LIGA掩模版第二次曝光显影在凹面上制作光栅。利用不同的掩模版,非常方便地制作了一维和二维凹面光栅,其粗糙度RMS值小于20nm。
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关键词
微细加工技术
二
次
x
射线
曝光
高斯分布
凹面光栅
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职称材料
题名
用于软X射线探测器标定的X射线二次多靶源
被引量:
3
1
作者
祝宇轩
王于仨
陈勇
崔苇苇
王昊
张子良
王皓迪
侯懂杰
赵晓帆
虞年
赵子健
陈灿
机构
中国科学院高能物理研究所
吉林大学物理学院
中国科学院大学
出处
《核技术》
CAS
CSCD
北大核心
2021年第5期37-42,共6页
基金
中国科学院空间科学战略性先导科技专项(No.XDA15020500)
中国科学院空间科学战略重点研究计划(No.XDA1531010301)资助。
文摘
爱因斯坦探针(Einstein Probe,EP)和增强型X射线时变与偏振探测天文台(enhanced X-ray Timing and Polarimetry,eXTP)是近期提出的两种聚焦型X射线天文望远镜。EP卫星搭载的深度后随X射线望远镜(Follow-up X-ray Telescope,FXT)和eXTP卫星搭载的能谱测量X射线聚焦望远镜阵列(Spectroscopy Focusing Array,SFA)分别使用了pnCCD和SDD探测器。pnCCD和SDD前期电子学联调和标定在中国科学院高能物理研究所标定大厅进行,所用的X射线靶源是标定装置的重要部件。本文介绍了一种X射线二次多靶源装置的设计,该装置可以为联调和标定工作提供软X射线光源。装置利用X光机电子打靶所产生的韧致辐射光子二次打靶放出二次靶材的荧光线,生成能谱成分简单、信噪比高的X射线光源。通过Geant4模拟对该装置的准直管口径、X光机管高压和装置内壁材料等参数进行了分析,然后对SDD和pnCCD进行了能谱测量,同时利用pnCCD的成像功能对光源的光斑大小进行了测试。结果显示:该装置可以满足联调需求,能够广泛应用于软X射线探测器的前期电子学联调和测试。
关键词
爱因斯坦探针
增强型
x
射线
时变与偏振探测天文台
电子学联调
探测器标定
x射线二次多
靶源
Keywords
Einstein probe
Enhanced
x
-ray timing and polarimetry
Electronic joint debugging
Calibration
x
-ray secondary multi-target source
分类号
O572.212 [理学—粒子物理与原子核物理]
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职称材料
题名
二次X射线曝光制作凹面光栅
2
作者
陈水良
李以贵
机构
上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室
出处
《微细加工技术》
EI
2005年第1期29-31,共3页
文摘
介绍了一种通过微细加工技术即二次X射线曝光制作凹面光栅的方法。首先利用X射线截面光强遵循高斯分布的性质,无LIGA掩模版曝光显影后在PMMA上得到凹面,凹面深度可由曝光时间控制;再用带有光栅图案的LIGA掩模版第二次曝光显影在凹面上制作光栅。利用不同的掩模版,非常方便地制作了一维和二维凹面光栅,其粗糙度RMS值小于20nm。
关键词
微细加工技术
二
次
x
射线
曝光
高斯分布
凹面光栅
Keywords
micro-fabrication technique
double
x
-ray e
x
posures
Gaussian distribution
concave grating
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
用于软X射线探测器标定的X射线二次多靶源
祝宇轩
王于仨
陈勇
崔苇苇
王昊
张子良
王皓迪
侯懂杰
赵晓帆
虞年
赵子健
陈灿
《核技术》
CAS
CSCD
北大核心
2021
3
下载PDF
职称材料
2
二次X射线曝光制作凹面光栅
陈水良
李以贵
《微细加工技术》
EI
2005
0
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
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参考文献
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