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现代表面分析技术在半导体材料中的应用
被引量:
5
1
作者
任殿胜
郝建民
+2 位作者
马农农
严如岳
王为
《现代仪器》
2003年第3期20-22,共3页
本文简要介绍TOF-SIMS(飞行时间二次离子质谱仪)、XRD(X射线双晶衍射仪)、SIMS(二次离子质谱仪)和XPS(X射线光电子能谱仪)等现代分析仪器的特点,着重报道这些分析技术在分析砷化镓抛光片的表面痕量沾污、表面晶体完整性、表面镓砷比、...
本文简要介绍TOF-SIMS(飞行时间二次离子质谱仪)、XRD(X射线双晶衍射仪)、SIMS(二次离子质谱仪)和XPS(X射线光电子能谱仪)等现代分析仪器的特点,着重报道这些分析技术在分析砷化镓抛光片的表面痕量沾污、表面晶体完整性、表面镓砷比、表面化学组成、表面氧含量以及氧化层厚度等方面的应用。
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关键词
砷化镓
表面分析
半导体材料
飞行时间二次离子质谱仪
x射线双晶衍射仪
二次离子质谱仪
x
射线
光电子能谱仪
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职称材料
题名
现代表面分析技术在半导体材料中的应用
被引量:
5
1
作者
任殿胜
郝建民
马农农
严如岳
王为
机构
天津大学化工学院
中国电子科技集团公司第四十六研究所
出处
《现代仪器》
2003年第3期20-22,共3页
文摘
本文简要介绍TOF-SIMS(飞行时间二次离子质谱仪)、XRD(X射线双晶衍射仪)、SIMS(二次离子质谱仪)和XPS(X射线光电子能谱仪)等现代分析仪器的特点,着重报道这些分析技术在分析砷化镓抛光片的表面痕量沾污、表面晶体完整性、表面镓砷比、表面化学组成、表面氧含量以及氧化层厚度等方面的应用。
关键词
砷化镓
表面分析
半导体材料
飞行时间二次离子质谱仪
x射线双晶衍射仪
二次离子质谱仪
x
射线
光电子能谱仪
Keywords
Semiconductor GaAs Surface analysis
分类号
TN304.23 [电子电信—物理电子学]
O657 [理学—分析化学]
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职称材料
题名
作者
出处
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被引量
操作
1
现代表面分析技术在半导体材料中的应用
任殿胜
郝建民
马农农
严如岳
王为
《现代仪器》
2003
5
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