X射线荧光层析成像中消除散射光的方法

介绍了X射线荧光层析成像技术的成像原理及其在微量分析领域中的应用。针对X射线与物质相互作用时 ,不仅产生荧光 ,而且会产生各种散射光 ,为消除这些散射光对成像结果的影响 ,提出采用在与入射X射线垂直方向放置一个圆环状的晶体单色器 ,即双聚焦模式晶体单色器 ,使荧光与各种散射光分离 ,并聚焦在探测器上。这样不仅大大增强了荧光信号的强度 ,而且可使荧光探测器小型化。