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高N_2气流下在GaAs(001)上用MBE法生长InN(英文)
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作者 秦志新 陈志忠 张国义 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期209-212,共4页
在N2 气压为 2 6 7× 10 -2 Pa ,5 0 0℃的条件下 ,用MBE方法在GaAs(0 0 1)衬底上生长了InN的外延层。生长期间 ,In流量以 3× 10 14 到 2 4× 10 14 atoms/cm2 ·s范围内变化。用X 射线衍射 (XRD)和反射高能电子衍射 ... 在N2 气压为 2 6 7× 10 -2 Pa ,5 0 0℃的条件下 ,用MBE方法在GaAs(0 0 1)衬底上生长了InN的外延层。生长期间 ,In流量以 3× 10 14 到 2 4× 10 14 atoms/cm2 ·s范围内变化。用X 射线衍射 (XRD)和反射高能电子衍射 (RHEED)法对InN膜进行了表征。发现在生长的初始阶段 ,所生长的InN属立方相 ,但随着外延层厚度的增加出现了InN层由立方相向六角相的相变。X 射线倒易空间图形测量表明的在GaAs(0 0 1)衬底上生长的六角相InN其c 展开更多
关键词 RHEED x-射线倒易空间图形 GAAS(001) 砷化镓 LnN 氮化铟 薄膜生长 MBE法 高氮气气流 N2
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