金刚石膜同步辐射X-射线掩模的研究进展

超大规模集成电路 (VLSI)线宽不断缩小促进了光刻技术的发展和分辩率的提高 ,缩短光波长和改进掩模是提高分辨率的重要途径 .探索采用X 射线光刻技术时 ,用金刚石薄膜作为掩模基膜的研究现状与发展方向 .金刚石薄膜因其具有优异的机械、光学和热学性能 ,已成为新一代掩模基膜材料的理想候选材料 .介绍了金刚石薄膜用作掩模基膜材料上取得的实验成果 。