X射线法测残余应力的表面处理技术研究

本文研究了Ｘ射线残余应力测试中，表面处理所形成的附加应力层的分布，对去除该应力层所用的电解抛光工艺参数进行了探讨，回归了电解抛光方程式；并结合现场测试条件，提供了最佳抛光电流密度。