壳聚糖膜与Co(Ⅱ)、Ni(Ⅱ)、Cu(Ⅱ)复合物的IR光谱和XPS谱

将壳聚糖制成膜后浸泡在含有金属离子 Cu( )、Co( )、Ni( )的溶液中制备得到相应的复合物。根据 IR光谱中官能团特征频率的位移和 XPS谱中元素结合能的变化 ,表明 Co( )、Ni( )、Cu( )与壳聚糖膜的吸附机理包括物理作用和化学吸附 ,其中化学吸附是通过壳聚糖表面部分 - NH2 提供孤对电子和金属离子形成了配位键。

合成甲醇掺钒铜基催化剂XPS谱学研究

应用光电子能谱考察了合成甲醇共沉淀ＣｕＯ－ＺｎＯ－Ａｌ２Ｏ３催化剂与掺钒样品的表面状态及催化反应的活性中心，它们是存在于催化剂固体表面上的Ｃｕ＋或Ｃｕ０，且Ｃｕ＋的活性高于Ｃｕ０；促使Ｃｕ＋离子稳定存在的主要原因是Ｃｕ＋溶于ＺｎＯ形成固溶体，Ａｌ２Ｏ３掺杂于ＺｎＯ诱导产生正离子空位及形成非化学计量化合物Ｚｎ１＋ｘＯ（ｘ＞０）。铜基催化剂掺钒的作用在于Ｖ３＋离子比Ａｌ３＋离子极化能力强，从而使ＺｎＯ更易形成有利于活性体Ｃｕ＋稳定的正离子空位，同时也可能形成钒酸盐，从而提高了催化剂的热稳定性。

非晶金刚石薄膜的sp^3键成分的XPS谱研究

把非晶金刚石薄膜的XPSC1s谱分解为中心在 2 84 .4± 0 .1eV和 2 85 .2± 0 .1eV的两个高斯特征峰 ,分别对应于碳薄膜中的sp2 C和sp3 C。用这两个高斯特征峰的面积除以C1s谱的总面积 ,得出非晶金刚石薄膜中sp2 C和sp3 C的比例。用上述方法对sp3 C比例不同的一组样品进行了分析计算 ,并与先前用紫外 -可见光吸收光谱和拉曼光谱对同一组样品分析得出的结果进行了比较 ,结果表明 :用XPS谱能简便而有效地定量确定非晶金刚石薄膜中sp2 C和sp3 C的比例 ,且这种方法适用于所有功能碳薄膜。

Al掺杂的ZnO薄膜的XPS谱和光学特性研究

采用直流反应磁控溅射法在玻璃基底上用Zn(99.99%)掺Al(1.5%)靶制备出高质量的Al掺杂的ZnO(AZO)薄膜。利用X射线光电子能谱仪和紫外-可见光分光光度计分别对制备的AZO薄膜进行成分、元素的价态分析和光学性质的研究。其实验结果表明,Zn元素以氧化态的形式存在,Al元素以氧化态和单质的形式存在,O元素主要以晶格氧和吸附氧的形式存在。AZO薄膜的光学参数受退火温度的影响较大。AZO薄膜在可见光区域内透射率的平均值为85%,并且随着退火温度的升高,AZO薄膜在可见光区域内的透射率稍微增大;薄膜的紫外吸收边向短波方向移动;薄膜的光学带隙从3.83 eV增大到3.88 eV;并且消光系数在紫外区域随着波长的增大而急剧下降。

Al掺杂ZnO薄膜的XPS谱及电学性质研究

采用直流反应磁控溅射法在玻璃基底上用Zn(99.99%)掺杂Al(1.5%)靶制备出高质量的Al掺杂的ZnO(AZO)薄膜。用X射线光电子能谱仪对退火处理后的薄膜进行了成分和元素的价态分析,并用Van der Pauw方法对样品的电学特性进行了测量。实验结果表明,Zn和Al元素都以氧化态的形式存在,O元素主要是以晶格氧和吸附氧的形式存在。AZO薄膜的电学性质受退火温度和氧氩比的影响较大。随着退火温度的升高,电阻率减小,载流子浓度和迁移率增大。随着氧氩比的增大,电阻率增大,迁移率减小。因此可得到用直流反应磁控溅射法制备AZO薄膜的最佳氧氩比和退火温度分别为0.3/27和400℃,在此条件下制备出的薄膜电阻率可低至10-4Ω.cm,载流子浓度可达1020cm-3。

洁净硅片在真空中加热时表面状态的XPS谱研究

用X射线电子谱（XPS）评价了由改进的RCA方法清洗，又经HF处理的洁净（111）硅片在高真空和超高真空中加低热时的表面状态。实验表时，清洗后的硅片表面沾污中的氧（O）比较少而碳（C）相对多一些，同时存在微量的氟（F）。如果清洗工艺操作得当，可望获得较干净的衬底表面。洁净的硅片在8×10-6Pa的真空中存放12h后，表面吸附的C比O增加得更快。给出了在高低真空中硅片加低热前后表面状态的变化情况，并实时检测在超高真空中加低热时表面状态的XPS谱，同时对实验结果给予分析、讨论。

355nm激光曝光SU-8胶的XPS谱和FT-IR谱研究

SU-8光胶因具有良好的光刻性能,并可获得稳定的高深宽比而在微加工领域得到了广泛的应用。众多研究采用不同的光源对其进行了多种光刻研究,本文应用355nm激光对SU-8胶进行曝光,分别采用XPS谱和FT-IR谱分析了SU-8胶与激光相互作用过程中,355nm激光对SU-8胶的作用以及反应前后主要成分含量、分子结构的变化,初步探讨了SU-8胶中激光曝光能量与透入深度的关系。

XPS谱在磁光介质可靠性分析中的应用

通过对单层结构和多层结构的磁光记录介质TbFeCo在常温环境气氛条件和高温加速应力条件下的可靠性对比实验，以及对组成元素的XPS光电子能谱分析，证明了只有经过多层结构保护处理的磁光记录介质才具有高的稳定性。

研究高温超导的XPS谱仪低温样品台

在Las3000表面分析系统上安装了自制的低温测量装置和真空清洁刮刀，用该装置首次获得－140℃条件下表清洁的YBa2Cu3O7－σ的X射线兴电子能谱，为研究高温氧化物超导体的超导机制提供了最新的低温数据。

双氧水和DCCA处理羊毛的XPS能谱研究

分析羊毛表面ＸＰＳ能谱对双氧水和含氯氧化剂ＤＣＣＡ处理羊毛的不同氧化特性进行了研究。结果表明，ＤＣＣＡ处理对羊毛表面类脂去除程度高于双氧水处理，有利于树脂随后的吸附。

氢水平衡法制备二氧化钒薄膜及XPS能谱分析

采用溶胶 -凝胶法 ,结合氢水平衡还原处理得到了二氧化钒薄膜 ,对薄膜的 XPS能谱分析及对反应体系的热力学分析表明 。

Ce^(3+)激活锂-6闪烁玻璃XPS能谱研究

采用XPS能谱分析了不同熔制气氛下制备的锂-6玻璃闪烁体表面结构与Ce离子价态变化情况,研究结果表明锂-6玻璃闪烁体中,激活剂离子Ce3+未进入到玻璃网络结构中,以填充离子的形式分布在网络间隙中;O离子在锂-6玻璃闪烁体中以桥氧和非桥氧两种形式存在,而且随着玻璃配合料中还原剂C粉的掺量增加,非桥氧数量减少;采用XPS半定量计算出不同熔制气氛下锂-6玻璃闪烁体中Ce3+与Ce4+相对含量,为进一步优化其制备工艺技术提供了重要的理论参考依据。

X射线光电子能谱(XPS)在摩擦学研究中的应用

X射线光电子能谱(XPS)是最常用的表面分析技术之一,在材料的摩擦化学、摩擦和磨损机理以及材料失效等研究方面发挥着重要作用.本文综述了XPS的基本原理、设备构成、分析特点及在润滑油添加剂的吸附与反应、聚合物填料、气相润滑和离子液体等摩擦化学研究中的应用,希望为摩擦学者在表面分析方法方面提供一些新的启示.

X射线能谱技术(XPS)在造纸工业中的应用

简单介绍了X射线能谱技术(XPS)的作用机理及其在纸张表面涂层结构、纤维素和木素含量、造纸助剂及纸病分析等方面的应用。

X射线光电子能谱(XPS)在变性淀粉表面基团分布研究中的应用

详述了X射线光电子能谱(XPS)工作的基本原理,测定变性淀粉基团在淀粉颗粒表面分布的样品预处理方法,以及在酯化、醚化、接枝共聚改性淀粉基团分布分析中的应用,并对XPS在变性淀粉基团分布分析前景进行了展望。

杂多酸PMo_(12-x)V_x和PMo_(12-x)W_x的XPS研究 Ⅱ.氧的双电离能及轫致辐射诱导的磷、钼俄歇谱

利用式E_Ⅱ(min)=E_B(K)-E_i(L_(23)^+L_(23)^+)可以从OKL_(23)L_(23)价态型俄歇跃迁能量求出氧的双电离能,它与杂多酸的Bronsted质子酸有一定的对应关系。本文利用铝靶的轫致辐射诱导MoL_3M_(45)M_(45)和PKL_(23)L_(23)俄歇跃迁,实现了在一个阳极和同一次实验情况下,既测得Mo、P特征的电光电子峰,又记录了高动能的俄歇峰。Mo、P的俄歇谱可表明杂原子与杂多配位原子的关系。

X射线光电子能谱技术及其应用

X射线光电子能谱法(XPS)是最重要且使用最广泛的表面分析技术。较为全面地介绍了X射线能谱法,内容涵盖原理、分析方法、应用及技术进展。原理介绍基于理工科大学本科层级的知识,阐述了XPS的科学原理以及仪器原理;分析方法部分概述了分析的关键步骤及要点;应用部分以热门研究的材料类型分类(催化剂、生物材料、碳材料、高分子材料等)进行介绍,介绍的同时兼顾介绍了X射线光电子能谱法的一些常用技术以及在各种材料中的应用特点。本文旨在帮助该领域的初学者,包括尚未完全熟悉该技术的研究人员、研究生和X射线光电子能谱从业人员,使他们能够全面了解X射线光电子能谱技术。

XPS表面分析技术在生物医用金属材料研究中的应用

利用先进表征技术对生物医用金属材料的表面性质进行分析,并揭示其表界面与机体的相互作用机理至关重要。X射线光电子能谱(X-ray photoelectron spectroscopy,XPS)作为一种强有力的表面分析技术,可以高灵敏度、高分辨率地对材料表面元素种类和价态进行定性、半定量分析,并能结合离子束溅射、角分辨深度剖析获得材料表面层的纵深分布信息,已被广泛应用于生物医用金属材料研究。基于此,首先介绍了XPS的原理和特点;其次,根据生物医用金属材料的分类和研究领域,重点探讨了XPS表面分析技术在医用不锈钢、医用钴基合金、医用钛及其合金、医用镁合金的设计制造、表面改性及表界面表征等方面的应用;再次,通过总结上述工作的优势与不足,进一步阐明了XPS表面分析技术在小面积、化学成像、角分辨、原位测试、价带谱、同步辐射激发源等多种功能方面的应用潜力;最后,对XPS技术助力新型生物医用金属材料的开发和应用提出了展望和建议。

稀土氧化物LSCO/YSZ的XRD和XPS研究

采用常规固相反应法制备了不同Sr掺杂量的钙钛矿氧化物La1 -xSrxCoO3材料。测试了该材料的XRD和XPS谱 ,研究了不同热处理工艺对La1 -xSrxCoO3材料平均晶粒度的影响 ,研究了不同Sr掺杂量的La1 -xSrxCoO3阴极材料表面的化学状态。结果表明 ,当热处理温度在90 0～ 12 0 0℃时 ,平均晶粒度较大 ,有利于形成多孔电极。随着Sr掺杂量的增加 ,La(3d5/2 ) ,Co(2p3/2 )的结合能下降 。

离子束溅射La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_(3-δ)薄膜的XRD和XPS研究

采用离子束溅射法在氧化钇稳定的氧化锆(YSZ)和铝酸镧(LaAlO3)上溅射RE0.5Sr0.5CoO3-δ薄膜,测试了薄膜的XRD、XPS谱、分析了表面微结构及化学状态。实验表明,随着热处理温度的升高,La0.5Sr0.5CoO3-δ薄膜在YSZ和LaAlO3上生长时有取向增强的趋势,并且晶粒度增大,晶格氧减少,氧空位增加,氧输运性能提高。当热处理温度为750℃时薄膜结晶度最好,晶粒度最大,氧输运性能最好。